1.光学编码粒子(10，10a)库生成方法，包括：
选择一组电脑控制波形中的一个波形；和
在蚀刻材料过程中应用一组电脑控制波形中的这一波形，以从该材料制造粒子库的粒子，该粒子库的粒子包括，
具有折射率相对深度的图的多孔层，该折射率相对深度的图唯一对应于一组电脑控制波形的这一波形，该折射率相对深度的图在反射率光谱中唯一的干涉图样，其形成与一组电脑控制波形中的这一波形相对应的光学特征。
2.权利要求1中的粒子库生成方法，其中粒子的直径为数百微米或更小。
3.权利要求1中的粒子库生成方法，其中所述在反射率光谱中的干涉图样延伸超越可见光谱。
4.权利要求1中的粒子库生成方法，进行以形成第一多孔层和n层其他多孔层，其中所述第一多孔层和所述n层其他多孔层周期性交替并形成Bragg堆叠。
5.权利要求1中的粒子库生成方法，进行以形成第一多孔层和n层其他多孔层，其中所述第一多孔层和所述n层其他多孔层形成Rugate反射体。
6.权利要求1中的粒子库生成方法，其中该材料包括半导体。
7.权利要求6中的粒子库生成方法，其中所述半导体包括硅。
8.权利要求1中的粒子库生成方法，其中该材料包括绝缘体。
9.权利要求1中的粒子库生成方法，进一步含有结合预定的分析物的受体。
10.光学编码粒子(10，10a)，包括薄膜，其中孔隙率根据电脑控制波形库中的一个波形以产生在反射率光谱中可识别的编码库中的一个编码的方式变化。
11.权利要求10中的粒子，使用的分析检测方法包括检测谱移的步骤。
12.权利要求10中的粒子，进一步含有受体。
13.权利要求12中的粒子，其中所述受体是用于生物分析物的受体。
14.权利要求12中的粒子，其中所述受体是用于化学分析物的受体。
15.权利要求12中的粒子，其中所述受体是用于气态分析物的受体。
16.权利要求10中的粒子，进一步含有用于检测该粒子的荧光标记。
17.权利要求10中的粒子，其中该薄膜含有多孔硅。
18.权利要求10中的粒子，为微米级的。
19.对薄膜进行编码的方法，包括下述步骤：
蚀刻半导体或绝缘体基底以形成含有孔的薄膜；
根据一组电脑控制波形中的一个波形，改变蚀刻条件，以产生折射率相对深度的图，其产生图样，该图样将产生在反射率光谱中响应于照明的可识别编码。
20.权利要求19中的方法，进一步包含从该半导体或绝缘体基底分离该薄膜的步骤。
21.权利要求20中的方法，进一步包括将该薄膜分成粒子的步骤。
22.权利要求21中的方法，进一步包括掩蔽半导体或绝缘体基底的初步步骤，以限定图样来限定当粒子从薄膜分离时的粒子中的形态。
23.权利要求19中的方法，进一步包括以下步骤：
通过照明一个或多个粒子产生在反射率光谱中的干涉图样；
从干涉图样确定粒子编码。
24.权利要求19中的方法，进一步包括空间限定半导体或绝缘体基底的步骤，以在空间限定的位置或多个位置进行所述蚀刻步骤。
25.权利要求24中的方法，其中所述改变步骤进一步在不同的空间限定位置中改变蚀刻条件以在薄膜中进行多重编码。
26.权利要求25中的方法，进一步包括从该半导体或绝缘体基底分离该薄膜的步骤。
27.权利要求26中的方法，进一步包括将该薄膜分离成粒子的步骤。
28.一种鉴定附着于权利要求10的编码粒子的分析物、或鉴定含有权利要求10的编码粒子的主体的方法，该方法包括以下步骤：
将编码粒子与分析物或主体联合；
通过照明粒子产生在反射率光谱中的干涉图样；
从该干涉图样中确定粒子编码；
根据上述确定步骤鉴定分析物或主体。
29.权利要求28中的方法，进一步包括通过用特殊受体或靶向部分使粒子改性以指定该粒子与分析物相结合的步骤。
30.权利要求29中的方法，其中该靶向部分为糖或多肽。
31.权利要求30中的方法，进一步包括通过荧光标识或分析物自身荧光来表示分析物的结合的步骤。
32.一种编码微米级粒子的方法，该方法包括以下步骤：
蚀刻晶片从而形成具有改变的孔隙率的薄膜，其将产生响应于照明的可检测的光学特征，该光学特征选自光学特征库；
对晶片施以电解抛光电流来从晶片除去多孔薄膜；
将薄膜切成微米级粒子，每个微米级粒子保留有由上述蚀刻步骤产生的光学特征。
33.权利要求32中的方法，进一步包括以特殊受体或靶向部分对粒子改性的步骤。
34.具有编码库的编码的编码微米级粒子(10，10a)，该编码通过粒子不同区域之间的折射率变化嵌入其物理结构中。
35.权利要求34中的编码微米级粒子，其中折射率变化是由变化的孔隙率引起的。
36.权利要求34中的编码微米级粒子，其中粒子不同区域的厚度不同。
37.权利要求34中的粒子，进一步含有受体。
38.权利要求37中的粒子，其中所述受体是用于生物分析物的受体。
39.权利要求37中的粒子，其中所述受体是用于化学分析物的受体。
40.权利要求37中的粒子，其中所述受体是用于气态分析物的受体。
41.权利要求37中的粒子，进一步含有用于分析粒子的荧光标识。
42.权利要求34中的粒子，其中该薄膜包括多孔硅。
43.光学编码粒子(10，10a)，具有孔隙率，为了确切鉴别所述粒子，以及鉴别在分析物存在下的谱移，该孔隙率的光学反射率光谱可被识别为来自图样库中的一个图样的显著干涉图样。
44.一种识别权利要求43中所述的粒子的方法，该方法包含进行主要成分分析，以使光学反射率光谱与图样库中的这一个图样匹配。