1.一种氟化钙晶体的离子束刻蚀装置，位于镀膜机内，包括离子源、刻蚀工装、角度调整机构和中和器，所述角度调整机构与刻蚀工装连接，所述刻蚀工装固定于离子源和中和器之间的上方，所述刻蚀工装包括石英底盘和不锈钢工装，其特征在于，所述刻蚀工装还包括循环冷却水供给机构，所述石英底盘表面镀有MgF2薄膜。
2.根据权利要求1所述的氟化钙晶体的离子束刻蚀装置，其特征在于，所述MgF2薄膜的厚度为3μm以上。
3.一种采用如权利要求1所述的氟化钙晶体的离子束刻蚀装置实现的离子束刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)将石英底盘放置入不锈钢工装内，调整刻蚀工装角度，并使刻蚀工装固定于离子源与中和器之间的正上方；
2)对抛光后的氟化钙晶体进行超声清洗；
3)将超声清洗后的氟化钙晶体放置于刻蚀工装中，关上镀膜机门，工装静止，抽真空，开启刻蚀工装的循环冷却水供给机构；
4)待镀膜机内真空抽至4×10-4Pa，开启离子源，向镀膜机内充入氪气作为刻蚀气体；
5)调整离子源工作参数，待离子源工作稳定后，开启离子源挡板，让离子束均匀辐照氟化钙晶体表面，开始离子束刻蚀；
6)刻蚀结束后，关闭离子源，待镀膜机内温度降低至35摄氏度后，向镀膜机内充入氮气，开门取出氟化钙晶体。
4.根据权利要求3所述的离子束刻蚀方法，其特征在于，所述刻蚀工装角度的角度调整范围为0～50度。
5.根据权利要求3所述的离子束刻蚀方法，其特征在于，所述步骤2)具体为：
利用1:1混合的无水酒精和高纯丙酮溶液在30℃下清洗抛光后的氟化钙晶体3～5分钟，同时加载超声波的多频循环振动。
6.根据权利要求3所述的离子束刻蚀方法，其特征在于，所述离子源工作参数具体为：
离子源电压为400～700V，离子束流为300～700mA。
7.根据权利要求3所述的离子束刻蚀方法，其特征在于，所述步骤4)中，离子束刻蚀的时间为10～30分钟，刻蚀深度0.5～2μm。