掩膜板和蒸镀装置 |
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| 申请号 | CN201620851904.X | 申请日 | 2016-08-08 | 公开(公告)号 | CN205856592U | 公开(公告)日 | 2017-01-04 |
| 申请人 | 合肥鑫晟光电科技有限公司; 京东方科技集团股份有限公司; | 发明人 | 徐鹏; 乔永康; 潘晟恺; 刘杰; | ||||
| 摘要 | 一种掩膜板和蒸 镀 装置，该掩膜板包括 框架 和设置在所述框架内侧的第一掩膜条，其中，所述框架包括外框和内框，所述外框位于外侧且具有第一平面，所述内框位于内侧且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶；所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸，所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。该掩膜板通过改变框架和固定在其上的掩膜条的设计，有效解决了玻璃 基板 被刮伤的问题，有效提升了后续产品的良率和寿命。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种掩膜板，其特征在于，包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条，其中，所述框架包括外框和内框，所述外框位于外侧且具有第一平面，所述内框位于内侧且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶； |
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| 说明书全文 | 掩膜板和蒸镀装置技术领域[0001] 本实用新型的实施例涉及一种掩膜板和蒸镀装置。 背景技术[0003] 在蒸镀工艺中，如果基板边缘被刮伤易造成周边线路断路、封装失效等问题，从而影响产品良率和产品寿命。基板边缘的刮伤通常是掩膜条与玻璃基板接触时的相对运动引起的。 [0004] 目前，解决上述基板边缘易被刮伤的问题主要从两个方面入手，一是有效控制掩膜条边缘的锋利程度和粗糙度；二是减缓掩膜条与玻璃基板的相对运动，减弱二者的相互作用力。但是，为了确保掩膜条与玻璃基板接触时的平整度要求，掩膜条的厚度通常薄至100um或者更薄，这样不可避免的掩膜条的边缘会很锋利。而掩膜条是通过刻蚀工艺制成的，通过调整刻蚀工艺的参数来控制掩膜条边缘的锋利程度和粗糙度的难度很大。 实用新型内容 [0005] 本实用新型至少一实施例提供一种掩膜板以及蒸镀装置。该掩膜板通过改变框架的结构将其设计成具有不同高度的两个平面由此形成台阶，然后将该第一掩膜条搭接在该框架上，使其主体部分与框架隔离开，避免了第一掩膜条给玻璃基板带来的刮伤的问题，有效提升了后续产品的良率和寿命。 [0006] 本实用新型至少一个实施例中，掩膜板包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条，其中，所述框架包括外框和内框，所述外框位于外侧且具有第一平面，所述内框位于内侧且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶；所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸，且所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。 [0007] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为1-10mm。 [0008] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为5mm。 [0009] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，在所述第一平面上且与所述第一掩膜条延伸方向垂直的方向上，所述第一掩膜条的主体部分与所述外框之间的距离为0.5mm-2mm。 [0010] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，还包括设置在所述框架内侧的第二掩膜条。 [0011] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，所述第二掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的另一侧边延伸，且所述第二掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述另一侧边至少部分交叠。 [0012] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，所述第二掩膜条与所述第一掩膜条具有交叉区域。 [0013] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，所述第二掩膜条通过两端固定在所述外框上且与所述第一掩膜条的中部交叉，将所述框架所包围的区域划分为多个子区域。 [0014] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的厚度相等。 [0015] 例如，在本实用新型一实施例中，在该掩膜板中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的厚度均为50-100μm。 [0016] 本实用新型至少一个实施例中，该蒸镀装置包括上述中的掩膜板。 [0018] 为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本实用新型的一些实施例，而非对本实用新型的限制。 [0019] 图1为一种掩膜板的平面结构示意图； [0020] 图2为本实用新型实施例提供的掩膜板的平面结构示意图； [0021] 图2a-2b为图2中所示掩膜板的截面结构示意图； [0022] 图3为本实用新型实施例提供的掩膜板的平面结构示意图； [0023] 图3a为图3中所示掩膜板的截面结构示意图； [0024] 图4为本实用新型实施例提供的框架的平面结构示意图； [0025] 图4a-4d为图4中所示框架的截面结构示意图； [0026] 图5a为一种掩膜板的平面结构示意图； [0027] 图5b为将图5a中的掩膜板用于蒸镀装置中的截面结构示意图。 [0028] 附图标记： [0029] 100-掩膜板；101-框架；1011-外框；1012-内框；102-掩膜条；1021-第一掩膜条；1022-第二掩膜条；103-第一平面；104-第二平面；105-台阶；201-磁体；202-待蒸镀的玻璃基板。 具体实施方式[0030] 为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。 [0031] 除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。 [0032] 图1为一种掩膜板的平面结构示意图，如图1所示，该掩膜板100包括框架101和固定在框架101上的掩膜条102。从图1中可以看出，该掩膜板100包括六条掩膜条102，其中四条掩膜条固定在框架101的周边并与框架直接接触，该四条掩膜条在与框架接触的平面上的正投影与该框架交叠，另外两条掩膜条搭接在框架101上。发明人在研究中发现：固定在框架101周边的四条掩膜条是造成基板被刮伤的关键因素，由于周边的掩膜条的主体部分与框架101直接接触，周边的掩膜条在受到磁体的磁力吸引作用力时，其翻转运动会受到限制，会造成掩膜条向上运动与玻璃基板刮擦的几率增大，即掩膜条自身的自由度会受到很多限制，造成掩膜条与玻璃基板的相互作用力增加，从而造成对玻璃基板的刮伤。如果从增强掩膜条自身的自由度入手，可减缓掩膜条与玻璃基板的相对运动来解决基板边缘被刮伤问题。例如，将周边的四条掩膜条与另外两条掩膜条一样制作成与框架搭接的形式，掩膜条对玻璃基板的刮伤问题会得到明显的改善。但这样又会造成蒸镀时的漏膜现象，从而降低了产品的良率。针对上述问题，本实用新型通过改变框架的结构将其设计成具有不同高度的两个平面由此形成台阶，然后将该第一掩膜条搭接在该框架的外框上，使其主体部分与框架不接触，避免了第一掩膜条给玻璃基板带来的刮伤的问题，有效提升了后续产品的良率和寿命。 [0033] 本实用新型至少一实施例提供一种掩膜板，该掩膜板包括框架和设置在框架内侧的第一掩膜条，框架包括位于外侧且具有第一平面的外框和位于内侧且具有第二平面的内框，第一平面高于第二平面由此形成台阶；第一掩膜条通过两端固定在外框上且在该外框内沿框架的一侧边延伸，且第一掩膜条在第二平面上的正投影与内框在侧边至少部分交叠。 [0034] 下面通过几个实施例进行说明。 [0035] 实施例一 [0036] 本实施例提供一种掩膜板，图2为本实用新型实施例提供的掩膜板的平面结构示意图，图2a和图2b为图2中所示掩膜板的截面结构示意图。 [0037] 如图2和图2a、图2b所示，该掩膜板100包括框架101和设置在框架101内侧的第一掩膜条1021，框架101包括外框1011和内框1012，外框1011位于外侧且具有第一平面103，内框1012位于内侧且具有第二平面104，相对于该框架101的底面第一平面103高于第二平面104由此形成台阶105，第一掩膜条1021通过两端固定在外框1011上且在外框1011内沿框架 101的一侧边延伸，第一掩膜条1021在第二平面104上的正投影与内框1012在侧边有部分交叠区域。在图2中，在纵向设置了两条第一掩膜条1021，分别位于框架101的左侧和右侧，每一第一掩膜条1021分别通过两个端部固定在外框1011上，且分别位于框架101在左侧和右侧的外框内(即除端部外的主体部分位于外框内)，由此第一掩膜条1021在第二平面104上的正投影与外框1011没有交叠区域。该第一掩膜条1021的端部的固定方式可以为焊接或铆接等。 [0038] 例如，内框1012和外框1011一体成型，形成框架本体后再将外框靠近其限定区域的一侧刻蚀掉一定的厚度由此形成具有第一平面103和第二平面104的台阶105，且第一平面103高于第二平面104。或者，框架101可以通过冲压一次成型。亦或者，内框1012和外框1011分别成型后再将二者连接(例如焊接)成包含第一平面103和第二平面104的整体，且第一平面103高于第二平面104由此形成台阶105。 [0039] 例如，根据第一掩膜条1021在第二平面104上的正投影与内框1012在侧边交叠区域大小的不同，沿图2中的A-A1的截面图也不同。需要注意的是，剖面线A-A1位于第一掩膜条1021的中心线。例如，如图2a所示，当第一掩膜条1021与内框1012的交叠区域较小而没有超出其中心线时，第一掩膜条1021两端的部分在第二平面104上的正投影与内框1012在该侧边有部分交叠区域，即第一掩膜条1021的端部在第二平面104上的正投影与内框1012在该侧边有交叠。如图2b所示，当第一掩膜条1021与内框1012的交叠区域较大从而超出其中心线时，第一掩膜条1021的主体部分和两端部分在第二平面104上的正投影与内框1012在侧边处均有交叠区域。结合图2a和图2b可以看出，第一掩膜条1021搭接在外框1011上，架设在内框1012和台阶105之上，在垂直于第一掩膜条1021延伸方向的方向上，第一掩膜条1021在第二平面104上的正投影的一部分与内框1012在侧边交叠，另一部分落在内框1012限定的区域内。 [0040] 例如，如图2a或2b所示，第一平面103和第二平面104之间的高度差h为1-10mm。示例性地，第一平面103和第二平面104之间的高度差h为5mm。在这样的高度差范围内，当第一掩膜条1021受到外界作用力运动时，其主体部分不与内框接触，其自由度不会受到限制。 [0041] 例如，如图2所示，在第一平面103上且与第一掩膜条1021延伸方向垂直的方向上，第一掩膜条1021的主体部分与外框1011之间的距离L为0.5mm-2mm，示例性地，L为1mm。L在上述范围内不会因为第一掩膜条1021受到外界的作用力时与外框1011接触而造成对玻璃基板的刮伤程度增大的问题。 [0043] 例如，如图2所示，该掩膜板100还可以包括设置在框架101内侧的第二掩膜条1022。该第二掩膜条1022固定在外框1011上且在外框1011内沿框架101的另一侧边延伸。与如上所述的第一掩膜条1021类似地，第二掩膜条1022在第二平面104上的正投影与内框 1012在另一侧边至少部分交叠，例如，此处的部分交叠包括第二掩膜条1022的端部在第二平面104上的正投影与内框1012在另一侧边的交叠和第二掩膜条1022的主体部分在第二平面104上的正投影与内框1012在另一侧边的交叠。 [0044] 在图2中，分别在框架101的上侧和下侧横向设置了两条第二掩膜条1022，每条第二掩膜条1022分别通过两个端部固定在外框1011上，且分别位于框架101在上侧和下侧的外框内(即除端部外的主体部分位于外框内)，由此第二掩膜条1022在第二平面104上的正投影与外框1011没有交叠区域。该第二掩膜条1022的端部的固定方式可以为焊接或铆接等。 [0045] 例如，如图2所示，在框架101的中部还包括其他横向延伸的第二掩膜条1022，这些第二掩膜条1022通过两个端部固定在外框1011上且与第一掩膜条1021的中部交叉，由此将框架101所包围的区域划分为多个子区域。根据实际需要，此处形成的子区域的大小可以相同，也可以不相同。例如，还可以在外框上固定多个第一掩膜条1021，将图2中框架101所包围的区域划分为更多的子区域。 [0046] 例如，如图2所示，第二掩膜条1022与第一掩膜条1021具有交叉区域。交叉区域处的厚度为第二掩膜条1022与第一掩膜条1021的厚度之和，即第二掩膜条1022与第一掩膜条1021彼此接触。 [0047] 例如，如图3和图3a所示，第一掩膜条1021和第二掩膜条1022的厚度相等，在交叉区域第一掩膜条1021和第二掩膜条1022分别被刻蚀掉一半的厚度，交叉区域处的厚度为一个掩膜条的厚度，由此当第一掩膜条1021和第二掩膜条1022紧贴待蒸镀的基板时不会因为交叉区域处不平整造成基板上蒸镀膜不均匀的问题。 [0048] 例如，第一掩膜条1021和第二掩膜条1022的厚度均为50-100μm，例如50μm、75μm、100μm等。 [0049] 需要说明的是，图2和图3中示出的第一掩膜条1021和第二掩膜条1022的条数只是示例性的，很显然并不限于图2中所示。根据需要，还可以在框架的限定区域内设置多个第一掩膜条1021，或者设置多个第二掩膜条1022，以形成所需的成膜区域的大小，例如还可以在框架横向的中部设置其他第一掩膜条1021。 [0050] 图4为本实用新型实施例提供的框架的平面结构示意图，图4a-4d为图4中所示框架的截面结构示意图，如图4a所示，内框在第一平面上的正投影与外框的一侧边对接，或者如图4b和4c所示,内框在第一平面上的正投影与外框的一侧边至少部分重叠，再或者如图4d所示，内框的与第二平面相对的一面设置成斜坡状，这样在蒸镀过程中更利于在边沿区域的均匀涂覆蒸镀材料。 [0051] 实施例二 [0052] 本实用新型的实施例还提供一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括实施例一中的掩膜板。 [0053] 例如，图5a为一种掩膜板的平面结构示意图，图5b为将图5a中的掩膜板用于蒸镀装置中的截面结构示意图，例如，图5b中掩膜板的截面是从图5a中D-D1线切割。 [0054] 例如，图5b所示，该蒸镀装置还包括与所述掩膜板相对设置的磁体201。此时磁体和掩膜板100分别位于待蒸镀的玻璃基板202的两侧。在此情形，第一掩膜条1021由具有磁性的材料制成，例如Fe、Ni或者二者形成的合金材料，通过磁体201对第一掩膜条的磁力吸引作用而让第一掩膜条紧贴待蒸镀的玻璃基板。 [0055] 例如，第二掩膜条也具有磁性，第二掩膜条通过两端固定在外框上，还可以设置多个第二掩膜条，第二掩膜条可以与第一掩膜条的中部交叉，将框架所包围的区域划分为多个子区域，通过磁体对第一掩膜条和第二掩膜条的磁力吸引作用让二者紧贴待蒸镀的玻璃基板，从而形成多个成膜区。 [0056] 本实用新型的实施例提供的掩膜板和蒸镀装置具有以下有益效果：通过改变框架的结构将其设计成具有不同高度的两个平面由此形成台阶，然后将该第一掩膜条搭接在该框架上，使其两端固定在外框上，而主体部分与框架不接触，避免了第一掩膜条给玻璃基板带来的刮伤的问题，有效提升了后续产品的良率和寿命。 [0057] 有以下几点需要说明： [0058] (1)本实用新型实施例附图只涉及到与本实用新型实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。 [0059] (2)为了清晰起见，在用于描述本实用新型的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。 [0060] (3)在不冲突的情况下，本实用新型的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。 |
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