1.一种气体分配板，包括：
第一表面；
第二表面，所述第二表面与所述第一表面相对；
多个通孔，所述多个通孔从所述第一表面延伸至所述第二表面，以及多个盲孔，所述多个盲孔形成于所述气体分配板中以用于控制所述气体分配板的温度，其中所述气体分配板由石英制造。
2.如权利要求1所述的气体分配板，其中所述通孔与所述盲孔排列成六边形图案。
3.如权利要求1所述的气体分配板，其中所述通孔与所述盲孔沿着直线方向交替。
4.如权利要求1所述的气体分配板，其中所述多个盲孔的每一盲孔包括侧表面与底部表面，其中所述侧表面与所述底部表面涂布有反射性涂层或吸收性涂层。
5.如权利要求1所述的气体分配板，进一步包括界面板，所述界面板设置在所述气体分配板上。
6.如权利要求5所述的气体分配板，其中所述界面板包括多个通孔，其中所述界面板的所述多个通孔的每一通孔对准所述气体分配板中的所述多个通孔的一通孔。
7.如权利要求6所述的气体分配板，其中所述界面板包括两个或更多个开口，所述开口邻近所述气体分配板中的每一盲孔处。
8.一种处理腔室，包括：
上壁；
侧壁；
下壁，其中所述上壁、所述侧壁与所述下壁界定处理区域；
加热源，所述加热源设置于所述下壁下方；
气体分配板，所述气体分配板位在所述处理区域中，所述气体分配板包括：
第一表面；
第二表面，所述第一表面与所述第二表面相对；
多个通孔，所述多个通孔从所述第一表面延伸至所述第二表面；和
多个盲孔，所述多个盲孔形成于所述气体分配板；以及
基板支撑件，所述基板支撑件位在所述处理区域中。
9.如权利要求8所述的处理腔室，进一步包括界面板，所述界面板设置在所述气体分配板上。
10.如权利要求9所述的处理腔室，其中所述界面板拴至所述气体分配板。
11.如权利要求9所述的处理腔室，其中所述界面板具有面向所述气体分配板的表面，并且所述表面涂布有反射性涂层或吸收性涂层。
12.如权利要求9所述的处理腔室，其中所述界面板包括多个通孔，其中所述界面板的所述多个通孔的每一通孔对准所述气体分配板中的所述多个通孔的一通孔。
13.如权利要求9所述的处理腔室，其中所述界面板包括两个或更多个开口，所述开口邻近所述气体分配板中的每一盲孔处。
14.权利要求8所述的处理腔室，其中所述基板支撑件设置在所述上壁与所述下壁之间。
15.一种处理腔室，包括：
侧壁；
结构，所述结构设置于所述侧壁上；
下壁，其中所述结构、所述侧壁与所述下壁界定处理区域；
加热源，所述加热源设置于所述下壁下方；
气体分配板，所述气体分配板位在所述处理区域中，所述气体分配板包括：
第一表面；
第二表面，所述第一表面与所述第二表面相对；
多个通孔，所述多个通孔从所述第一表面延伸至所述第二表面；和
多个盲孔，所述多个盲孔形成于所述气体分配板；以及
基板支撑件，所述基板支撑件位在所述处理区域中。
16.如权利要求15所述的处理腔室，其中所述结构包括多个隔间，且其中所述多个隔间的每一隔间包括气体馈送件。
17.如权利要求15所述的处理腔室，其中所述结构是由反射性材料或吸收性材料制成。
18.如权利要求15所述的处理腔室，其中所述结构具有面向所述气体分配板的表面，并且所述表面涂布有反射性涂层或吸收性涂层。
19.如权利要求15所述的处理腔室，进一步包括界面板，所述界面板设置在所述气体分配板上。
20.如权利要求19所述的处理腔室，其中所述界面板包括多个通孔，其中所述界面板的所述多个通孔的每一通孔对准所述气体分配板中的所述多个通孔的一通孔。