1.一种有机发光显示设备，所述有机发光显示设备包括：
TFT基板，所述TFT基板包括多个薄膜晶体管；
有机发光器件，所述有机发光器件位于所述TFT基板上；以及
包封层，所述包封层形成在所述TFT基板和所述有机发光器件上，以覆盖所述有机发光器件，
其中，所述包封层包括由嵌段共聚物和官能化石墨烯形成的混合材料，其中，
所述嵌段共聚物包括至少一个亲水均聚物和至少一个疏水均聚物，并且所述包封层包括：
通过所述官能化石墨烯和所述亲水均聚物的化学键合形成的第一层；以及包括所述疏水均聚物的第二层。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述包封层具有其中所述第一层和所述第二层交替地堆叠至少两次的层状结构。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述嵌段共聚物是聚苯乙烯和聚氧化乙烯的嵌段共聚物、聚苯乙烯和聚二甲硅氧烷的嵌段共聚物、聚酰亚胺和聚氧化乙烯的嵌段共聚物或者聚苯乙烯和聚氧化乙烯的嵌段共聚物、聚苯乙烯和聚二甲硅氧烷的嵌段共聚物、聚酰亚胺和聚氧化乙烯的嵌段共聚物中的两种或更多种的混合物。
4.根据权利要求1所述的有机发光显示设备，所述有机发光显示设备进一步包括位于所述有机发光器件和所述包封层之间的保护层。
5.根据权利要求4所述的有机发光显示设备，其中，所述保护层形成在所述TFT基板和所述有机发光器件上以整体地覆盖所述有机发光器件，以防止所述有机发光器件与所述包封层的直接接触。
6.根据权利要求5所述的有机发光显示设备，其中，所述保护层由包含下述中的一种或更多种的材料形成：Al2O3、SiO2、Si3N4、SiON、AlON、AlN、TiO2、ZrO、ZnO和Ta2O5。
7.一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括：
制备基板，所述基板包括多个薄膜晶体管；
在所述基板上形成有机发光器件；
在所述基板和所述有机发光器件上形成保护层以覆盖所述有机发光器件；以及在所述基板和所述保护层上形成包封层以覆盖所述保护层，
其中，形成包封层的步骤包括：
在公共溶剂中混合官能化石墨烯和嵌段共聚物，以产生混合溶液；以及将所述混合溶液涂覆在所述基板和所述保护层上，
其中，
所述嵌段共聚物包括至少一个亲水均聚物和至少一个疏水均聚物，并且所述包封层包括：
通过所述官能化石墨烯和所述亲水均聚物的化学键合形成的第一层；以及包括所述疏水均聚物的第二层。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述嵌段共聚物中的所述亲水均聚物的体积分数为0.3至0.7。
9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述嵌段共聚物是聚苯乙烯和聚氧化乙烯的嵌段共聚物、聚苯乙烯和聚二甲硅氧烷的嵌段共聚物、聚酰亚胺和聚氧化乙烯的嵌段共聚物或者聚苯乙烯和聚氧化乙烯的嵌段共聚物、聚苯乙烯和聚二甲硅氧烷的嵌段共聚物、聚酰亚胺和聚氧化乙烯的嵌段共聚物中的两种或更多种的混合物。
10.根据权利要求7所述的方法，其中，
所述嵌段共聚物是聚苯乙烯和聚氧化乙烯的嵌段共聚物或聚酰亚胺和聚氧化乙烯的嵌段共聚物，并且
所述嵌段共聚物中的所述亲水均聚物的体积分数为0.4至0.5。
11.根据权利要求7所述的方法，其中，形成所述包封层的步骤进一步包括对涂覆的混合溶液进行退火。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，通过使用饱和有机溶剂蒸气来执行所述退火。
13.根据权利要求7所述的方法，其中，通过旋涂工艺、缝型挤压涂覆工艺、缝涂覆工艺、滴涂工艺或喷墨印刷工艺来执行混合溶液的涂覆。