1.一种有机薄膜形成用溶液，其特征在于，含有(A)和(B)，
以质量％计，50≤[(A)／{(A)+(B)}]×100≤100，且
0≤[(B)／{(A)+(B)}]×100≤50，
(A)：式(I)所示的至少1种有机金属化合物，其中，至少1种有机金属化合物具有羟基，
式中，
1 2
R 和R 表示可以具有取代基的碳原子数1～30的烃基、或可以具有取代基的碳原子数1～30的卤代烃基，
1 2 3 4 1 2 1 2 3 4 1
X、X、X 和X 各自独立地表示R、R、羟基或水解性基团，但X、X、X 和X 不全为R 或
2
R，
1 2
n1为2以上时，R 彼此和X 彼此相同或不同，
1 4 1
X 和X 可以共同成为氧原子，形成M 与氧原子交替键合的环，
1
M 表示选自Si、Ge、Sn、Ti和Zr中的至少1种金属原子，
n1表示1～4的整数；
(B)：式(II)所示的至少1种有机金属化合物，
3 2 5
RmMX4-m (II)
式中，
3
R 表示可以具有取代基的碳原子数1～30的烃基、或可以具有取代基的碳原子数1～
30的卤代烃基，
2
M 表示选自Si、Ge、Sn、Ti和Zr中的至少1种金属原子，
5
X 表示羟基或水解性基团，
m表示1～3的整数。
2.根据权利要求1所述的有机薄膜形成用溶液，其特征在于，式(I)所示的有机金属化合物中，n1=2的有机金属化合物与n1=1的有机金属化合物的质量比大于0.5。
3.根据权利要求1或2所述的有机薄膜形成用溶液，其特征在于，含 有选自式(III)所示的至少1种有机金属化合物和式(IV)所示的至少1种环状有机金属化合物中的至少
1种有机金属化合物，
式中，
4 5 6
R、R 和R 各自独立地表示可以具有取代基的碳原子数1～30的烃基、或可以具有取代基的碳原子数1～30的卤代烃基，
6 7 8 9 10 4 6 6
X、X、X、X 和X 各自独立地表示R ～R 中的任一者、羟基或水解性基团，但是，X、
7 8 9 10 4 6 6 7 8 9 10
X、X、X 和X 不全为R ～R 中的任一者，X、X、X、X 和X 中，至少1个表示羟基，且至少1个表示水解性基团，
5 8
n2为2以上时，R 彼此和X 彼此相同或不同，
3
M 表示选自Si、Ge、 Sn、Ti和Zr中的至少1种金属原子，
n2表示0～3的整数，
式中，
7
R 表示可以具有取代基的碳原子数1～30的烃基、或可以具有取代基的碳原子数1～
30的卤代烃基，
11 7 11 7 11
X 表示R、羟基或水解性基团，但是，X 不全为R，X 中，至少1个表示羟基，且至少1个表示水解性基团，
7 11
R 彼此和X 彼此相同或不同，
4
M 表示选自Si、Ge、 Sn、Ti和Zr中的至少1种金属原子，
n3表示2～5的整数。
4.根据权利要求3所述的有机薄膜形成用溶液，其特征在于，式(I)所示的有机金属化合物中，式(III)所示的有机金属化合物和式(IV)所示的环状有机金属化合物的合计量为
30～95质量％。
5.一种权利要求1所述的有机薄膜形成用溶液的制造方法，其特征在于，具有如下工序：在脂肪族醚系溶剂或脂肪族酮系溶剂中，在水和酸的 存在下使式(II)所示的至少1种有机金属化合物水解和缩合，
3 2
RmMX54-m (II)
式中，
3
R 表示可以具有取代基的碳原子数1～30的烃基、或可以具有取代基的碳原子数1～
30的卤代烃基，
2
M 表示选自Si、Ge、Sn、Ti和Zr中的至少1种金属原子，
5
X 表示羟基或水解性基团，
m表示1～3的整数。
6.根据权利要求5所述的有机薄膜形成用溶液的制造方法，其特征在于，脂肪族醚系溶剂是四氢呋喃或四氢吡喃。
7.根据权利要求5或6所述的有机薄膜形成用溶液的制造方法，其特征在于，酸的pKa值为0以下。
8.根据权利要求5或6所述的有机薄膜形成用溶液的制造方法，其特征在于，酸是固体酸。
9.根据权利要求5或6所述的有机薄膜形成用溶液的制造方法，其特征在于，水的量相对于式(II)所示的有机金属化合物1摩尔为0.1～20摩尔。
10.根据权利要求5或6所述的有机薄膜形成用溶液的制造方法，其特征在于，具有如下工序：在水解和缩合后，混合选自烃系溶剂、氟系溶剂和硅系溶剂中的至少1种溶剂。
11.根据权利要求10所述的有机薄膜形成用溶液的制造方法，其特征在于，以使得式(II)所示的有机金属化合物的水解缩合物的浓度为0.01～20质量％的方式混合溶剂。