| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 用于操作在生产线上位于单张送纸数码打印机之后的涂覆装置的方法以及适用于此用途的涂布机 | CN201380021205.1 | 2013-04-23 | CN104245318B | 2017-06-30 | 马德斯·基灵; 马尔科·李纳伦; 埃里克·基德森; 皮特利·席维欧 |
| 涂覆装置位于生产线上的单张送纸数码打印机之后。作为工件从打印机进入到涂覆装置的响应，涂覆物质被配料(203)至印版滚筒(101)上，并且所述印版滚筒(101)转动以将所述涂覆物质转移至工件上，然后该工件进一步传送至生产线上。在所述工件进一步传送之后，没有后续工件进入到涂覆装置，作为对于第一时限到期的响应，停止印版滚筒(101)的旋转。 | ||||||
| 2 | 太阳能层压件边缘润滑涂抹头 | CN201511031417.5 | 2015-12-31 | CN105499051A | 2016-04-20 | 陈一平 |
| 本发明涉及一种太阳能层压件边缘润滑涂抹头，涂抹头为中空结构，涂抹头的一端设有开口，另一端设有进水管接头，开口的内壁上设有与涂抹头的内腔连通的通孔，开口内设有软质吸水材料。本发明的太阳能层压件边缘润滑涂抹头，结构简单，操作方便，通过进水管向具有内腔的涂抹头内通水，工作人员不再需要通过不断蘸水对涂抹太阳能电池沉压件进行涂抹，使涂抹更均匀，涂抹效率更高。 | ||||||
| 3 | 涂胶结构及具有其的涂胶装置 | CN201510955957.6 | 2015-12-17 | CN105413963A | 2016-03-23 | 林军华 |
| 本发明提供了一种涂胶结构及具有其的涂胶装置。该涂胶结构包括涂胶杆和设置在涂胶杆端部的涂胶头，涂胶杆的端部设置有用于对涂胶头上的胶水进行导流的导流结构。当涂胶结构转动的过程中，胶水能够沿导流结构流动而甩出涂胶结构，能够有效防止胶水存积在涂胶头上。 | ||||||
| 4 | 导管尖端涂覆系统 | CN201380069572.9 | 2013-12-31 | CN105026053A | 2015-11-04 | W·斯科特·毕比 |
| 一种导管尖端涂覆组件，包括壳体，该壳体限定流体储存器并具有构造成将流体分配至管件的端部的流体出口。导管尖端涂覆组件包括阀组件，阀组件由壳体承载并至少部分地设置为与流体储存器流体连通。阀组件构造成接收管件，并构造成在第一位置和第二位置之间移动，在第一位置中，阀组件限制流体储存器和流体出口之间的流体连通，在第二位置中，阀组件提供流体储存器和流体出口之间的流体连通以将流体分配至管件的端部。该组件能够小心地控制所施用的液体的量和润湿的深度。 | ||||||
| 5 | 轮胎试验机的润滑器装置 | CN201410243464.5 | 2014-06-04 | CN104214495A | 2014-12-17 | 若园武彦 |
| 本发明提供一种轮胎试验机的润滑器装置。为了通过简单的结构可靠地将润滑液向润滑刷部供给，本发明的轮胎试验机的润滑器装置具备：润滑刷部，与旋转的轮胎的胎缘部接触，涂敷润滑液；箱，储存润滑液，被密闭；第1配管，为了向润滑刷部供给储存在箱中的润滑液，将箱与润滑刷部连接；和第2配管，为了从外部将加压的空气向箱的内部供给，连接在箱上。 | ||||||
| 6 | 用于将薄片应用到基板的方法和设备 | CN200780044953.6 | 2007-12-03 | CN101547748B | 2012-10-31 | M·A·弗舒伦; M·梅根斯 |
| 本发明提供了一种以无应力和更小畸变的方式将薄片层叠到基板的方法和设备。该方法包括提供薄片和基板，使得在该薄片和基板之间存在吸引力，至少当基板和薄片的距离短于临界距离时，该吸引力能够使该薄片和表面结合在一起。该方法通过在薄片和基板之间局部地形成初始接触而产生这些条件，使得在基板和薄片接触的区域以及基板和薄片不接触的区域之间的边界，即接触前缘，存在这些条件。在另一步骤中，薄片和基板允许逐渐形成接触，使得接触前缘或者沿着基板或者沿着薄片表面前进，籍此增大基板和薄片之间的接触区域。当在压印光刻或者模压工艺或者特征图案需要从基板转印到表面或者从表面转印到基板的其它过程中，该方法是有利的。 | ||||||
| 7 | 图像形成装置及液体涂敷装置 | CN201110424866.1 | 2011-12-16 | CN102555471A | 2012-07-11 | 佐仓青藏; 北冈聪; 井本晋司; 驹场启悦 |
| 本发明涉及一种将涂敷辊的涂敷量容易地控制在稳定且所需的量里的图像形成装置及液体涂敷装置。其由将涂敷辊作为转动轴的芯部件(111)，和配置在该芯部件周围里的具有弹性的表面部件(112)构成，在芯部件(111)里交替地构成有形成在圆周方向里的多个的凸状环部(111a)和形成在这些凸状环部(111a)之间的多个的凹状环部(111b)。凸状环部(111a)及凹状环部(111b)的轴方向的截面形状可以是矩形或三角形，它们的配置间距从涂敷辊的中央部开始向两端由密至粗，表面部件(112)从中央向两端弹性增加。 | ||||||
| 8 | 涂敷装置 | CN200810303653.1 | 2008-08-11 | CN101648175B | 2012-06-13 | 林宗瑜 |
| 本发明提供一种涂敷装置，其包括一操作平台、一可滑动的装设于所述操作平台上的载板、一位于所述载板一侧且固定于所述操作平台上的支撑臂以及一穿设于所述支撑臂上且可相对于所述支撑臂滑动的涂敷棒。所述载板表面设有镜片固定区域，所述支撑臂的下端正对所述镜片固定区域。所述的涂敷装置代替传统的人工涂敷，涂敷快速、均匀，从而提高涂敷效率。 | ||||||
| 9 | 利用微接触印刷工艺在基材上图案化分子的方法 | CN200610143605.1 | 2006-11-02 | CN1958301B | 2010-06-23 | J·维泽尔斯; G·克伦; 安田章夫; D·施瓦布; D·迈尔; A·奥芬豪泽尔 |
| 本发明涉及利用微接触印刷工艺在基材上图案化分子的方法、通过所述方法制造的基材以及所述基材的应用。还涉及用于执行根据本发明的方法的设备。 | ||||||
| 10 | 陶瓷电子元件、浆涂方法及浆涂装置 | CN03122608.6 | 2003-03-07 | CN100576380C | 2009-12-30 | 横山英树; 武田笃史 |
| 一种具有陶瓷基体和端电极的陶瓷电容器。陶瓷基体大致是长方体形。端电极安置在陶瓷基体的纵向两端上，每个端电极被设置成覆盖上述陶瓷基体的纵向的一端面、在横向上的两面的一部分和在厚度方向上的两面的一部分。设陶瓷基体的长度为L1，上述端电极的在陶瓷基体横向两面中的最大长度分别为L3和L4时，满足0≤|L4-L3|/L1≤0.0227。在陶瓷基体横向两面中的一个面是利用辊涂法的浆料冲入侧，而另一面是利用辊涂法的浆料脱出侧。 | ||||||
| 11 | 用于将薄片应用到基板的方法和设备 | CN200780044953.6 | 2007-12-03 | CN101547748A | 2009-09-30 | M·A·弗舒伦; M·梅根斯 |
| 本发明提供了一种以无应力和更小畸变的方式将薄片层叠到基板的方法和设备。该方法包括提供薄片和基板，使得在该薄片和基板之间存在吸引力，至少当基板和薄片的距离短于临界距离时，该吸引力能够使该薄片和表面结合在一起。该方法通过在薄片和基板之间局部地形成初始接触而产生这些条件，使得在基板和薄片接触的区域以及基板和薄片不接触的区域之间的边界，即接触前缘，存在这些条件。在另一步骤中，薄片和基板允许逐渐形成接触，使得接触前缘或者沿着基板或者沿着薄片表面前进，籍此增大基板和薄片之间的接触区域。当在压印光刻或者模压工艺或者特征图案需要从基板转印到表面或者从表面转印到基板的其它过程中，该方法是有利的。 | ||||||
| 12 | 利用微接触印刷工艺在基材上图案化分子的方法 | CN200610143605.1 | 2006-11-02 | CN1958301A | 2007-05-09 | J·维泽尔斯; G·克伦; 安田章夫; D·施瓦布; D·迈尔; A·奥芬豪泽尔 |
| 本发明涉及利用微接触印刷工艺在基材上图案化分子的方法、通过所述方法制造的基材以及所述基材的应用。还涉及用于执行根据本发明的方法的设备。 | ||||||
| 13 | 用于以预定的分布图案将粘合材料的液滴沉积在表面上的装置和方法 | CN200580006062.2 | 2005-01-24 | CN1925925A | 2007-03-07 | A·托罗 |
| 所述装置包括至少一个支承元件(6)，多个凸起附件(7)按照预定的分布固定在所述支承元件(6)上。支承元件(6)可以在至少一个第一位置和至少一个第二位置之间移动，在所述第一位置处，凸起附件(7)的至少端部被至少部分地浸入到含有胶水的容器(9)中，以便少量的胶水保持粘附在凸起附件(7)的端部，而在所述第二位置处，凸起附件(7)的端部至少被提升到一个表面上，以便至少有少量胶水的部分与表面接触并沉积在表面上。 | ||||||
| 14 | 用于使用在上胶机构中的胶施覆辊子 | CN201710383367.X | 2017-05-26 | CN107433793A | 2017-12-05 | H.米勒 |
| 本发明涉及一种用于使用在上胶机构中的胶施覆辊子，具体而言，用于使用在装备有至少一个浸入辊子（303）的上胶机构（300）中的胶施覆辊子（100、200），其中，所述胶施覆辊子具有上胶辊子体（101），所述上胶辊子体构造有用于接纳驱动轴（103、103a）的中央开孔（102）。所述上胶辊子体由至少两个部分构成，即一方面由基体（104）并且另一方面由外环（105）构成，所述基体与所述驱动轴（103、103a）处于力配合的作用连接（113）中，所述外环构造有至少一个空心空间（106），基体（104）和外环（105）通过至少一个器件（107；108、109）相互力配合地连接，至少在所述上胶辊子体（101）的一侧上布置有器件（116、118；116、203、204、205）。 | ||||||
| 15 | 一种车轮模具喷涂料装置 | CN201511006536.5 | 2015-12-29 | CN105499532B | 2017-05-24 | 薛博文; 刘利华; 郭建东; 刘伟东; 郑尧 |
| 本发明一种车轮模具喷涂料装置，由机架、伺服电机、伺服电动缸、空心轴以及喷头等组成，将车轮的四块边模分别放到四块滑板上，转动手轮通过丝杆和导轨调节滑板到合适的位置；伺服电机通过带轮和同步带带动空心轴和喷头旋转，喷头自动打开；伺服电动缸通过导柱使喷头在旋转的同时上升到顶端，此时即可完成四块边模的喷涂料过程。本发明在使用中能够实现车轮边模自动喷涂料的功能，喷涂效果均匀一致，根据不同的轮型可调节不同的喷涂参数，能够减轻工人的劳动强度，改善其操作环境；同时具有结构简单、使用方便、工艺先进等特点。 | ||||||
| 16 | 一种方便桶焊耳的内外补涂工艺 | CN201610608961.X | 2016-07-29 | CN106238267A | 2016-12-21 | 黄小林; 沈俊杰; 程立斌; 孔祯焕 |
| 本发明提供了一种方便桶焊耳的内外补涂工艺，其使得焊耳位置的补涂快捷方便，且补涂面积和用量得到精准控制，使得方便桶的品质得到提升。其将方便桶输送至焊耳补涂工位，将位于桶身内部的成对焊耳内补涂装置垂直下降、向外扩展分别定位于方便桶焊耳内壁的对应区域，将位于桶身外部的成对的焊耳外补涂装置向内收缩分别定位于方便桶焊耳外壁的对应区域，之后通过补涂液容器向焊耳内补涂装置、焊耳外补涂装置分别通入补涂液，焊耳内补涂装置、焊耳外补涂装置分别对方便桶焊耳的对应区域进行补涂，补涂完成后，焊耳内补涂装置、焊耳外补涂装置分别复位，将方便桶输送至下一工位。 | ||||||
| 17 | 木板雕刻处的刷漆装置 | CN201510842880.1 | 2015-11-29 | CN105396739A | 2016-03-16 | 卢帮美 |
| 本发明涉及木材加工领域，特别涉及木板雕刻处的刷漆装置，包括机架和工作平台，工作平台固定设置在机架上面，机架的下端设置有油漆桶，工作平台的四角设置有与工作平台滑动连接的卡爪，工作平台的一侧设置有刷漆支架，刷漆支架上面设置有刷子，刷子的端部与工作平台相接触，刷漆支架与刷子之间通过进漆管滑动连接，进漆管与油漆桶相连接，进漆管上面设置有位置传感器。本发明可以对木板的雕刻处进行刷漆，保证刷漆后的质量。 | ||||||
| 18 | 涂敷液填充方法、狭缝喷嘴、排出口闭口构件以及狭缝喷嘴单元 | CN201310556284.8 | 2013-11-11 | CN103817043A | 2014-05-28 | 永田义寿; 有动修 |
| 本发明提供有助于提高涂膜品质的涂敷液填充方法。该涂敷液填充方法是将对基板表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴的内部的气体排出并填充涂敷液的方法，狭缝喷嘴具备：涂敷液供给口；涂敷液排出口；歧管，与供给口连通，用于将涂敷液贮存到狭缝喷嘴内部；液体通路，与歧管连通，用于使涂敷液向狭缝喷嘴的排出口流动；以及通气孔，用于排除歧管内的气体，该涂敷液填充方法具有在从上述供给口向上述狭缝喷嘴内部的涂敷液的送液中进行的排出口闭口工序和通气孔开放工序，该排出口闭口工序使上述排出口成为关闭的状态，该通气孔开放工序使上述通气孔成为开放的状态。 | ||||||
| 19 | 涂敷装置 | CN200810303653.1 | 2008-08-11 | CN101648175A | 2010-02-17 | 林宗瑜 |
| 本发明提供一种涂敷装置，其包括一操作平台，一可滑动的装设于所述操作平台上的载板，一位于所述载板一侧且固定于所述操作平台上的支撑臂以及一穿设于所述支撑臂上且可相对于所述支撑臂滑动的涂敷棒。所述载板表面设有镜片固定区域，所述支撑臂的下端正对所述镜片固定区域。所述的涂敷装置代替传统的人工涂敷，涂敷快速、均匀，从而提高涂敷效率。 | ||||||
| 20 | 用于衬底表面处理的装置，设备和方法 | CN200680047231.1 | 2006-12-15 | CN101495242A | 2009-07-29 | H·卡普勒 |
| 本发明涉及处理硅晶圆片(2)表面用的装置(1，1′)，包括在一个由输送辊(3)决定的输送表面(5)上输送硅晶圆片(2)用的输送辊(3)和至少一个用液体处理介质(10)处理硅晶圆片(2)用的输送机构(3a)。该输送机构(3a)以这样一种方式布置在输送表面(5)以下，使之与输送平面接触，用以在输送机构与衬底表面的直接接触中用处理介质(10)湿润面向下的衬底表面用的。 | ||||||
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