1 |
木板雕刻处的刷漆装置 |
CN201510842880.1 |
2015-11-29 |
CN105396739A |
2016-03-16 |
卢帮美 |
本发明涉及木材加工领域,特别涉及木板雕刻处的刷漆装置,包括机架和工作平台,工作平台固定设置在机架上面,机架的下端设置有油漆桶,工作平台的四角设置有与工作平台滑动连接的卡爪,工作平台的一侧设置有刷漆支架,刷漆支架上面设置有刷子,刷子的端部与工作平台相接触,刷漆支架与刷子之间通过进漆管滑动连接,进漆管与油漆桶相连接,进漆管上面设置有位置传感器。本发明可以对木板的雕刻处进行刷漆,保证刷漆后的质量。 |
2 |
向介质施加涂料 |
CN201280068711.1 |
2012-01-31 |
CN104185553A |
2014-12-03 |
A.菲格曼 |
一种向介质施加涂料的设备。该设备包括用于接收连续带的第一辊子。该连续带用于从第二辊子接收涂料且用于将涂料转移到介质。第一辊子被布置成向第二辊子提供连续带的可调整宽度。提供给第二辊子的连续带的宽度可调整以基本上对应于介质的宽度。 |
3 |
处理硅晶片的方法和装置 |
CN200880127394.X |
2008-12-18 |
CN101983415B |
2012-08-08 |
H·卡普勒 |
本发明涉及用于处理硅晶片的方法和装置。在第一步骤中,硅晶片(22)沿连续的水平传送带(12、32)平坦地传送,且喷嘴(20)或类似装置从顶部将蚀刻溶液喷射到晶片上以纹理化晶片,仅少量蚀刻溶液(21)从下部施加到硅晶片(22)。在第二步骤中,在第一步骤中对齐的硅晶片(22)只由蚀刻溶液(35)从下方润湿以蚀刻-抛光硅晶片(22)。 |
4 |
用于改良木质板的方法和装置 |
CN201080002709.5 |
2010-10-08 |
CN102171057A |
2011-08-31 |
F·欧尔多尔夫 |
用于改良木质板(2)的方法和装置,木质板在至少一个上表面和/或下表面上具有装饰,该方法包括步骤:a)清洗木质板的上表面和下表面,b)在木质板的上表面上涂上含有氧化铝颗粒的第一上树脂层并在下表面上涂上第一下树脂层,c)烘干第一上树脂层和第一下树脂层至残余水分为3%至6%,d)在木质板的上表面上涂上含有纤维素的第二上树脂层并在下表面上涂上第二下树脂层,e)烘干第二上树脂层和第二下树脂层至残余水分为3%至6%,f)在木质板的上表面上涂上至少一个含有玻璃颗粒的第三上树脂层并在下表面上涂上至少一个第三下树脂层,g)烘干第三上树脂层和第三下树脂层至残余水分为3%至6%,h)在压力和温度影响下压紧该层结构。 |
5 |
分析基板涂覆装置和方法 |
CN200680021370.7 |
2006-04-14 |
CN101495245A |
2009-07-29 |
利·H·安格罗斯 |
一种用于生产带涂层的分析基板的装置和方法,其采用设置在实验环境中的紧凑型便携式自动化仪器,在使用时可以“根据需要”一致性地生产出一个或多个带涂层的分析基板用以在涂覆之后即刻使用该分析基板,优选在使用前没有清洗所述带涂层的分析基板的步骤。该装置优选采用具有储液池的施加器盒,所述储液池容纳有用于形成涂层的涂料组合物。优选所述盒是可拆的和可互换的,以有助于生产具有不同涂层或不同涂层图案的各个分析基板。这些带涂层的分析基板由于提高了涂覆装置所施加的涂层质量并且由于涂覆的分析基板在生产后能迅速用于实验室中,因而具有优良的样品粘附性质。 |
6 |
用于衬底表面处理的装置,设备和方法 |
CN200680047231.1 |
2006-12-15 |
CN101495242A |
2009-07-29 |
H·卡普勒 |
本发明涉及处理硅晶圆片(2)表面用的装置(1,1′),包括在一个由输送辊(3)决定的输送表面(5)上输送硅晶圆片(2)用的输送辊(3)和至少一个用液体处理介质(10)处理硅晶圆片(2)用的输送机构(3a)。该输送机构(3a)以这样一种方式布置在输送表面(5)以下,使之与输送平面接触,用以在输送机构与衬底表面的直接接触中用处理介质(10)湿润面向下的衬底表面用的。 |
7 |
用于基片的表面处理的装置 |
CN201280040905.0 |
2012-08-09 |
CN103889588B |
2017-09-08 |
W-H.郑; H.哈弗坎普; K.魏瑟尔; M.尼塔默 |
一种用于处理晶片下侧的装置具有用于运输晶片的运输滚轮(16a,16b),其同时构造为输送器件用于利用液态的工作介质(18)润湿晶片下侧。运输滚轮至少部分地浸入在工作介质中以用于在运输时在与运输滚轮接触期间润湿晶片下侧。运输滚轮具有旋转对称的外侧,其带有较大的第一直径的多个区域(21)和在此之间的较小的第二直径的多个区域(25),其中,凹槽引入到带有较小的第二直径的区域中。 |
8 |
用于对基体的下侧进行湿处理的装置 |
CN201480007981.0 |
2014-01-23 |
CN105121032B |
2017-07-11 |
P.米克; M.尼特汉默; K.魏瑟 |
本发明涉及一种通过用流体使下侧润湿而对平坦的基体(S1、S2)进行湿处理的装置。该装置包括具有用于使用流体使被处理基体的下侧润湿的至少一个润湿辊(WA、WB)的至少一个润湿站(BA、BB),所述基体在输送方向(TR)上在处理滚子上方运动。该装置还包括具有以相互间隔方式在输送方向上相继布置的多个输送滚子(T1至T7、WA、WB)的滚子输送系统,其包括至少一个润湿辊。根据本发明,润湿辊被布置在比由滚子输送系统的与润湿辊的供给侧相邻的部分所限定的高度(Hu)高出预定的高度偏移(ΔHA)的高度(Hm)。 |
9 |
带有磷酸基团材料的合成及其在氧化物表面上自组装膜的制备 |
CN201610652000.9 |
2016-08-04 |
CN106299138A |
2017-01-04 |
高德青; 伍华瑞; 郑朝月; 黄维 |
在有机电子器件发展中,如何提高器件的性能,是该领域的研究重点。在影响器件性能的因素中,无机氧化物层和有机半导体层之间的界面特性非常关键。使用能级匹配、相容性好的界面修饰材料修饰无机氧化物层的界面,能够有效提高界面载流子的传输能力和载流子密度,从而提高器件效率。本发明合成一类磷酸材料,以磷酸基团化学键合到氧化物表面(ITO、Al2O3、钙钛矿、TiO2等)上,制备了端基为大环结构的芘单元的自组装膜;这种单分子膜改善了有机半导体与无机氧化物层的接触,降低了金属氧化物的表面能,达到器件性能提高的作用。 |
10 |
一种卸网机 |
CN201610659969.9 |
2016-08-12 |
CN106040512A |
2016-10-26 |
王占元; 刘元栋 |
本发明涉及一种卸网机。其特征在于包括承载装置、上胶装置和切割装置,所述承载装置包括机箱、载物板、固定柱、升降器和旋转器,所述上胶装置包括控制器、机械臂、储胶盒、阀门和胶刷,所述切割装置包括导轨架、导轨、刀架、刀架控制器、刀具和刀具控制器,本发明所述的卸网机,可以自动、同时完成多个网版的刷胶和切割工作,有效的提高了人们的工作效率,为提高产品质量提供了保证,方便操作。 |
11 |
用于压制机的润湿系统 |
CN201180052910.9 |
2011-10-28 |
CN103260839B |
2016-04-20 |
U·格雷尔; 罗兰·希科尔; 约翰尼斯·希科尔 |
本发明涉及一种用于压缩混合有粘合剂的材料块(200)的压制机(100),优选连续运行的压制机(100),尤其是用于生产复合板,优选工程木板的压制机的润湿系统(1),包括第一润湿剂涂布设备。所述第一润湿剂涂布设备(3)包括:第一涂布辊(7),所述第一涂布辊能够从上方抵靠压制机的传送单元(300)传送的材料块设置;至少一个第一定量辊(9),所述第一定量辊(9)能够抵靠所述第一涂布辊(7)设置;以及第一润湿剂槽(11)。所述至少一个第一定量辊(9)浸入所述第一润湿剂槽(11)中以带起浸润剂,并且所述至少一个第一定量辊包括至少一个擦拭辊(13),所述至少一个擦拭辊能够抵靠每个第一定量辊(9)设置,且通过擦拭辊能够调节由每个第一定量辊(9)带起的润湿剂的量。 |
12 |
柔性版印刷涂覆装置的按需操作 |
CN201380021205.1 |
2013-04-23 |
CN104245318A |
2014-12-24 |
马德斯·基灵; 马尔科·李纳伦; 埃里克·基德森; 皮特利·席维欧 |
涂覆装置位于生产线上的单张送纸数码打印机之后。作为工件从打印机进入到涂覆装置的响应,涂覆物质被配料(203)至印版滚筒(101)上,并且所述印版滚筒(101)转动以将所述涂覆物质转移至工件上,然后该工件进一步传送至生产线上。在所述工件进一步传送之后,没有后续工件进入到涂覆装置,作为对于第一时限到期的响应,停止印版滚筒(101)的旋转。 |
13 |
用于基片的表面处理的装置 |
CN201280040905.0 |
2012-08-09 |
CN103889588A |
2014-06-25 |
W-H.郑; H.哈弗坎普; K.魏瑟尔; M.尼塔默 |
一种用于处理晶片下侧的装置具有用于运输晶片的运输滚轮(16a,16b),其同时构造为输送器件用于利用液态的工作介质(18)润湿晶片下侧。运输滚轮至少部分地浸入在工作介质中以用于在运输时在与运输滚轮接触期间润湿晶片下侧。运输滚轮具有旋转对称的外侧,其带有较大的第一直径的多个区域(21)和在此之间的较小的第二直径的多个区域(25),其中,凹槽引入到带有较小的第二直径的区域中。 |
14 |
涂布装置及涂布方法 |
CN201310021435.X |
2013-01-21 |
CN103286041A |
2013-09-11 |
土田修三; 中村嘉宏; 堀川晃宏 |
一种涂布装置及涂布方法,通过使多孔质件(2)的接受涂布液供给的区域的气泡直径比多孔质件(3)的与基板(7)抵接的区域的气泡直径小,即便是存在翘曲、起伏的基板(7),也能容易且均匀地涂布涂布膜(8)。 |
15 |
用于改良木质板的方法和装置 |
CN201080002709.5 |
2010-10-08 |
CN102171057B |
2013-09-11 |
F·欧尔多尔夫 |
用于改良木质板(2)的方法和装置,木质板在至少一个上表面和/或下表面上具有装饰,该方法包括步骤:a)清洗木质板的上表面和下表面,b)在木质板的上表面上涂上含有氧化铝颗粒的第一上树脂层并在下表面上涂上第一下树脂层,c)烘干第一上树脂层和第一下树脂层至残余水分为3%至6%,d)在木质板的上表面上涂上含有纤维素的第二上树脂层并在下表面上涂上第二下树脂层,e)烘干第二上树脂层和第二下树脂层至残余水分为3%至6%,f)在木质板的上表面上涂上至少一个含有玻璃颗粒的第三上树脂层并在下表面上涂上至少一个第三下树脂层,g)烘干第三上树脂层和第三下树脂层至残余水分为3%至6%,h)在压力和温度影响下压紧该层结构。 |
16 |
用于衬底表面处理的装置,设备和方法 |
CN200680047231.1 |
2006-12-15 |
CN101495242B |
2013-03-27 |
H·卡普勒 |
本发明涉及处理硅晶圆片(2)表面用的装置(1,1′),包括在一个由输送辊(3)决定的输送表面(5)上输送硅晶圆片(2)用的输送辊(3)和至少一个用液体处理介质(10)处理硅晶圆片(2)用的输送机构(3a)。该输送机构(3a)以这样一种方式布置在输送表面(5)以下,使之与输送平面接触,用以在输送机构与衬底表面的直接接触中用处理介质(10)湿润面向下的衬底表面用的。 |
17 |
处理硅晶片的方法和装置 |
CN200880127394.X |
2008-12-18 |
CN101983415A |
2011-03-02 |
H·卡普勒 |
本发明涉及用于处理硅晶片的方法和装置。在第一步骤中,硅晶片(22)沿连续的水平传送带(12、32)平坦地传送,且喷嘴(20)或类似装置从顶部将蚀刻溶液喷射到晶片上以纹理化晶片,仅少量蚀刻溶液(21)从下部施加到硅晶片(22)。在第二步骤中,在第一步骤中对齐的硅晶片(22)只由蚀刻溶液(35)从下方润湿以蚀刻-抛光硅晶片(22)。 |
18 |
用于将粘合材料的液滴沉积在表面上的装置 |
CN200580006062.2 |
2005-01-24 |
CN100415385C |
2008-09-03 |
A·托罗 |
一种用于以预定的分布图案将粘合材料的液滴沉积在表面上的装置,它包括至少一个支承元件,多个凸起附件按照预定的分布固定在所述支承元件上,支承元件利用用于移动的装置可以在至少一个第一位置和至少一个第二位置之间运动,在所述第一位置处,凸起附件的至少端部被至少部分地被浸入到含有胶水的容器中,在所述第二位置处,凸起附件和至少一个表面接触,其中,所述至少一个表面是支承体的上表面,该装置包括:第一输送平面,它被预先安排用于输送顺序地布置在托盘上的瓷砖;第二输送平面,它与第一输送平面平行,被预先安排用于输送支承体;将瓷砖从托盘运送到支承体且同时维持瓷砖的布置的装置;布置在第二输送平面的旁边的容器。 |
19 |
一种全自动智能单板涂胶生产线 |
CN201710595209.0 |
2017-07-20 |
CN107282360A |
2017-10-24 |
李杰 |
本发明公开了一种全自动智能单板涂胶生产线,包括吸附传送机构、涂胶机构、收料机构,所述吸附传送机构一侧设有涂胶机构,涂胶机构一侧设有收料机构;所述吸附传送机构包括下传动组、上传动组、上料机架、固定架、旋涡风机、通风管、管道、吸盘,所述固定架上设有旋涡风机,旋涡风机通过管道连接通风管,所述通风管下部设有若干吸盘,所述下传动组上部设有上传动组,下传动组通过轴承座活动连接在传送支架上,传送支架一侧设有支撑臂,所述传送支架一侧设有电机Ⅰ。本发明对旋切的木皮进行快速的上料,木皮输送过程中不发生横向偏移,上料完成快速进行双面涂胶,然后进行涂胶后的自动化收料,改善工人的工作环境,大大降低了工人的劳动量。 |
20 |
涂布方法和涂布装置 |
CN201510324314.1 |
2015-06-12 |
CN104984873B |
2017-10-17 |
井杨坤 |
本发明提供一种涂布方法,用于在基板上涂布胶液以形成膜层,所述涂布方法包括以下步骤:S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值;S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布,以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。相应地,本发明还提供一种涂布装置。本发明能够快速地确定涂布参数的值,从而提高涂布效率。 |