| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 21 | 可配置带电粒子装置 | CN201310497851.7 | 2013-10-22 | CN103779160B | 2017-03-22 | L.图马; J.塞斯塔克 |
| 本发明涉及可配置带电粒子装置。可配置带电粒子装置具有至少第一配置和第二配置，在第一配置中的装置被装配以当样本被安装在第一载物台上时关于光轴来安置样本，在第二配置中的装置具有被安装在第一载物台上的第二透镜极，所述第二透镜极与光轴相交，并且在第二配置中的装置装配有用于在其上安装样本的第二载物台，所述第二载物台被装配以在第一透镜极和第二透镜极之间安置样本，所述第二载物台关于光轴可移动，其结果是磁浸没透镜的光学特性在第一和第二配置中不同，并且在第二配置中可以通过使用第一载物台来安置第二透镜极而被改变，因而改变磁路。 | ||||||
| 22 | 带电粒子束照射系统 | CN201280056763.7 | 2012-12-18 | CN103957996B | 2016-05-18 | 矢岛晓 |
| 本发明提供一种带电粒子束照射系统。本发明的带电粒子束照射系统具备：加速器(2)，其使带电粒子加速并射出带电粒子束；机架(4)，其配置有对被照射体照射带电粒子束的照射部(3)；传输线路(6)，其具有从由加速器(2)射出的具有第1能量宽度的带电粒子束取出比第1能量宽度小的第2能量宽度的带电粒子束的能量选择系统(8)、并从加速器(2)向照射部(3)传输带电粒子束；及建筑物(100)，其具有配置有机架(4)的照射室(A)、及配置有传输线路(6)的一部分的传输室(B)，加速器(2)配置于照射室(A)内，传输线路(6)中能量选择系统(8)配置于传输室(B)，建筑物(100)具有将照射室(A)与传输室(B)隔开，并且屏蔽从能量选择系统(8)放出的放射线的间壁墙(101)。 | ||||||
| 23 | 膜制造装置 | CN201380021295.4 | 2013-03-28 | CN104244870B | 2016-02-03 | 难波良太 |
| 涉及用于在人工关节组件的母材表面形成高分子层的结构，其目的在于能够实现小型化，能够准确地控制紫外线的照射强度，能够形成均匀厚度的高分子层，能够抑制紫外线对设备以及作业人员造成的影响，并且难以产生故障。膜制造装置主体(20)通过光接枝聚合而在人工关节组件的母材(11)的内侧面(11e)形成高分子层(12)。膜制造装置主体(20)具备多个紫外线LED元件(60)与工件支架(24)。在工件支架(24)上，含有高分子单体的溶液(23)与母材(11)的内侧面(11e)接触。多个紫外线LED元件(60)向比各紫外线LED元件(60)单独照射的区域大的区域放射紫外线。 | ||||||
| 24 | 用于采用电子轰击处理物品的设备 | CN201480031810.1 | 2014-05-30 | CN105263530A | 2016-01-20 | N·捷斯罗特 |
| 本发明涉及用于采用辐射处理物品的设备，包括其上安装有物品传送设备(10)的框架，物品传送设备(10)的一部分容纳于有防御的腔室(2)中、位于至少一个辐射发射器(3)附近。腔室包括隧道(40)，所述隧道(40)包括限定锯齿形通道(50)的内部横向隔墙(51，52，53，54)，所述传送设备的一部分延伸至所述锯齿形通道中。所述隔墙被排列以使锯齿形通道沿着基本竖直的平面延伸。本申请还公开了用于将材料封装于容器中的设备，其包括这种处理设备。 | ||||||
| 25 | 散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置 | CN201510115673.6 | 2015-03-17 | CN104810073A | 2015-07-29 | 宋银; 缑洁; 张崇宏; 杨义涛 |
| 本发明涉及到一种散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置，主要应用于常温环境中的低剂量载能离子辐照材料实验，特别适合于大批量小样品的辐照试验。一种散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置，其主要特点在于包括有步进电机支架固连于真空法兰上，步进电机支架固连有步进电机，步进电机驱动旋转靶盘，在旋转靶盘的前方设有扇形挡板，扇形挡板连接在步进电机支架上；束流探测装置支架位于扇形挡板前，其上设有束流探测装置。本发明的优点在于获得了大面积的散射束，大大提高了辐照实验的效率。 | ||||||
| 26 | X光检查系统中的输送盆 | CN201080041327.3 | 2010-09-11 | CN102549458B | 2014-11-26 | H·布罗艾索; U·弗勒米格; C·哈斯; C·梅德; D·诺曼; D·斯奇米特 |
| 本发明涉及X光检查系统中的输送盆，具有与该盆固定连接的且带有盆特定标识的标识装置，其中，该标识装置具有存储器，在该存储器中可读取地存有全球唯一的身份码，尤其是通用唯一标识符(UUID)。 | ||||||
| 27 | 使用电子轰击的物品处理设备 | CN201280055592.6 | 2012-10-26 | CN104010666A | 2014-08-27 | R·弗丽; D·盖古恩 |
| 本发明涉及一种用辐射处理物品的设备，该设备包括框架(1)，框架在其上安装有入口星轮(2)和出口星轮(3)，这些星轮分别设置为面对屏蔽罩(6)的入口(4)和出口(5)，在屏蔽罩(6)中安装有至少一个枢转的处理星轮(7)和位于处理星轮附近的至少一个电子发射器(8)。该设备包括直线入口输送器(9)和直线出口输送器(10)，它们分别在屏蔽罩内部延伸，并且与入口和出口相对，其中，所述直线输送器包括传送装置(11，13)，传送装置围绕形成挡板的屏蔽壁(12，14)。 | ||||||
| 28 | 可配置带电粒子装置 | CN201310497851.7 | 2013-10-22 | CN103779160A | 2014-05-07 | L.图马; J.塞斯塔克 |
| 本发明涉及可配置带电粒子装置。可配置带电粒子装置具有至少第一配置和第二配置，在第一配置中的装置被装配以当样本被安装在第一载物台上时关于光轴来安置样本，在第二配置中的装置具有被安装在第一载物台上的第二透镜极，所述第二透镜极与光轴相交，并且在第二配置中的装置装配有用于在其上安装样本的第二载物台，所述第二载物台被装配以在第一透镜极和第二透镜极之间安置样本，所述第二载物台关于光轴可移动，其结果是磁浸没透镜的光学特性在第一和第二配置中不同，并且在第二配置中可以通过使用第一载物台来安置第二透镜极而被改变，因而改变磁路。 | ||||||
| 29 | 用于激光束和带电粒子束的重合对准的方法 | CN201310404108.2 | 2013-09-06 | CN103681190A | 2014-03-26 | M.斯特劳; M.埃默森 |
| 一种用于将激光束对准成与带电粒子束重合的方法和装置。所述发明提供了一种用于对准激光束穿过物镜的中心并最终瞄准多束系统的共心点的方法。该装置利用了定位于带电粒子系统的真空室内或外的激光束对准系统的部件。 | ||||||
| 30 | 材料老化测试设备 | CN201210445990.0 | 2012-11-09 | CN103674819A | 2014-03-26 | 黎宇泰; 李育贤; 马先正; 陈震伟; 吴鸿森 |
| 本发明公开一种材料老化测试设备，其包括脉冲激光、扩束组件与用以承载物件的平台。脉冲激光提供第一光束传送至扩束组件。第一光束经由扩束组件转换成第二光束后投射至物件。 | ||||||
| 31 | 电子束描绘装置及电子束描绘方法 | CN201310047452.0 | 2013-02-06 | CN103257528A | 2013-08-21 | 东矢高尚; 中山贵仁 |
| 一种电子束描绘装置及电子束描绘方法，该电子束描绘装置（100）具有：XY载物台（105），载放试样（216）；以及电子镜筒（102），配置有出射电子束（200）的电子枪（201）和具备排列在电子束（200）的轴向上的电极的透镜（202、204、207、210）。在XY载物台（105）和电子镜筒（102）之间设置有屏蔽板（211），该屏蔽板（211）屏蔽电子束（200）向试样（216）照射而产生的反射电子或二次电子。在屏蔽板（211）的正上方配置有改变电子束（200）的焦点位置的静电透镜（210），始终从电压供给单元（135）对静电透镜（210）施加正电压。 | ||||||
| 32 | 用于通过电子束对容器进行灭菌处理的内部夹固件 | CN201210472067.6 | 2012-11-20 | CN103127534A | 2013-06-05 | 约瑟夫·克洛特; 汉斯·朔伊伦 |
| 本发明涉及一种用于对容器(2)进行灭菌的设备(1)、尤其是通过加速的电荷载流子对容器(2)的外壁进行灭菌的设备，其中，由电荷载流子源(6，7)产生电荷载流子以及由加速装置在容器的外壁的方向上对电荷载流子进行加速；其中，容器(2)通过传送装置(19)沿着预设的传送路径(5)相对于电荷载流子源(6，7)可移动，传送装置(19)包括用于固定至少一个容器(2)的至少一个固定件(8)；其中至少一个固定件(8)至少部分地引入到容器(2)的内部并带至与容器(2)的内壁相接触。 | ||||||
| 33 | 用于产生紫外光的灯系统和方法 | CN201180035026.4 | 2011-07-15 | CN103038572A | 2013-04-10 | 詹姆斯·M·博苏克; 格雷格·哈内尔; 爱德华·C·麦吉; 詹姆斯·史密斯 |
| 用于产生紫外光的装置以及操作紫外光源的方法。所述装置可包括：围绕内部空间的微波腔室(16)；具有联接到微波腔室(16)的灯头(28)的光源(10)；紫外线(UV)透射构件(88)，该紫外线(UV)透射构件(88)被定位在灯面(32)上方并且在内部空间下方以在其间限定充气部(116)；以及与充气部以流体连通方式联接的排气系统(100)。灯头(28)具有灯面(32)，紫外光(34)和冷却空气(30)可以通过该灯面发出。该UV透射构件(88)被构造成使紫外光(34)透射到内部空间中并且将冷却空气(30)从该内部空间转向。所述排气系统(100)被构造成从充气部(116)排出冷却空气(30)。 | ||||||
| 34 | X光检查系统中的输送盆 | CN201080041327.3 | 2010-09-11 | CN102549458A | 2012-07-04 | H·布罗艾索; U·弗勒米格; C·哈斯; C·梅德; D·诺曼; D·斯奇米特 |
| 本发明涉及X光检查系统中的输送盆，具有与该盆固定连接的且带有盆特定标识的标识装置，其中，该标识装置具有存储器，在该存储器中可读取地存有全球唯一的身份码，尤其是通用唯一标识符(UUID)。 | ||||||
| 35 | DOUBLE TILT HOLDER AND MULTICONTACT DEVICE | PCT/NL2013050660 | 2013-09-13 | WO2014042531A4 | 2014-06-26 | ZANDBERGEN HENDRIK WILLEM |
| The present invention is in the field of a holder and multicontact device for use in microscopy, a method of loading the multicontact device, a container for the multicontact device, and a microscope comprising said holder and device. The present invention is in the field of microscopy, specifically in the field of electron and focused ion beam microscopy. However it application is extendable in principle to any field of microscopy. | ||||||
| 36 | TRANSPORT BIN IN AN X-RAY INSPECTION SYSTEM | PCT/EP2010005580 | 2010-09-11 | WO2011042109A3 | 2011-11-24 | BLOESL HARALD; FLEHMIG UWE; HAAS CHRISTIAN; MEDER CLAUS; NAUMANN DIRK; SCHMITT DANIEL |
| The invention relates to a transport bin in an X-ray inspection system, comprising identifying means rigidly connected to the bin, the identifying means having a bin-specific identifier, wherein the identifying means have a memory, in which an identification code that is unique worldwide, in particular a universally unique identifier (UUID), is stored in such a way that said identification code can be read out. | ||||||
| 37 | Production assemblies and removable target assemblies for isotope production | US14754878 | 2015-06-30 | US09991013B2 | 2018-06-05 | Martin Parnaste; Tomas Eriksson; Johan Larsson; Magnus Bondeson |
| Production assembly for an isotope production system. The production assembly includes a mounting platform including a receiving stage that faces an exterior of the mounting platform. The mounting platform includes a beam passage that opens to the receiving stage and a stage port that is positioned along the receiving stage. A particle beam is configured to project through the beam passage and through the receiving stage during operation of the isotope production system. The stage port is configured to provide or receive a fluid through the receiving stage during operation of the isotope production system. The production assembly also includes a target assembly having a production chamber configured to hold a target material for isotope production. The target assembly includes a mating side that is configured to removably engage the receiving stage during a mounting operation. | ||||||
| 38 | PRODUCTION OF MOLYBDENUM-99 USING ELECTRON BEAMS | US15847683 | 2017-12-19 | US20180102196A1 | 2018-04-12 | William DIAMOND; Vinay NAGARKAL; Mark de JONG; Christopher REGIER; Linda LIN; Douglas ULLRICH |
| An apparatus for producing 99Mo from a plurality of 100Mo targets through a photo-nuclear reaction on the m° Mo targets. The apparatus comprises: (i) an electron linear accelerator component; (ii) a converter component capable of receiving the electron beam and producing therefrom a shower of bremsstrahlung photons; (iii) a target irradiation component for receiving the shower of bremsstrahlung photons for irradiation of a target holder mounted and positioned therein. The target holder houses a plurality of 100Mo target discs. The apparatus additionally comprises (iv) a target holder transfer and recovery component for receiving, manipulating and conveying the target holder by remote control; (v) a first cooling system sealingly engaged with the converter component for circulation of a coolant fluid therethrough; and (vi) a second cooling system sealingly engaged with the target irradiation component for circulation of a coolant fluid therethrough. | ||||||
| 39 | Apparatus for slicing food products | US14855481 | 2015-09-16 | US09914237B2 | 2018-03-13 | Bernd Köster; Jörg Stremel; Alexander Burk |
| An apparatus for slicing food products, in particular a high-performance slicer, comprises a product feed which defines a feed plane and by means of which the products are fed along the feed plane in a feed direction to a cutting plane which is disposed in a slicing region and in which a cutting blade moves, in particular in a rotating and/or revolving manner, said cutting blade cooperating with a cutting edge which in particular extends in parallel with the feed plane and perpendicular to the feed direction to cut off slices from the products. The cutting apparatus additionally comprises a detection device for radiation reflected from the slicing region and an evaluation device for evaluating the detected radiation and an illumination device for illuminating the slicing region which is arranged for the at least substantially frontal illumination of the product end face in the half-space disposed in front of the slicing region and above the feed plane and comprises at least one radiation source ad well as a diaphragm arrangement associated therewith which defines a plurality of elongate illumination radiation paths which are optically separate from one another, which each extend in the direction of the slicing region and which are arranged adjacent to one another. | ||||||
| 40 | X-RAY GENERATOR | US15548489 | 2015-02-05 | US20180005721A1 | 2018-01-04 | Akihiro MIYAOKA |
| An X-ray generator capable of reliably reducing an X-ray focal spot size without depending on the focal spot size of an electron beam on a target. Providing, within the irradiation range of an electron beam B of a target laminated structure 3 comprising a target 2 and an X-ray irradiation window 1, a low X-ray absorptivity region 3a of localized low X-ray absorptivity in the irradiation direction of the electron beam B results in the suppression of emission to the outside of X-rays from among the X-rays generated as a result of the irradiation of the electron beam B onto the target 2 that are from regions other than the low X-ray absorptivity region 3a, and an X-ray focal spot of a size corresponding to the size of the low X-ray absorptivity region 3a is obtained regardless of the size of the irradiation region of the electron beam B. | ||||||
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