| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 121 | Low-energy large area electron beam irradiation apparatus using a field emission tip | JP2007502711 | 2005-03-09 | JP2007528497A | 2007-10-11 | ジュング、ヨウング−ウク; パーク、セオング−ヒー; ハン、ヨウング−フワン; リー、タエ−ジェー; リー、チェオル−ジン; リー、ビュング−チェオル; リム、ヨウング−キュング |
| 【課題】 電界放出チップを用いて、高電流密度で広い範囲の電子ビームの照射ができる、構造の単純化及び小型化を確保できる電子ビーム照射装置の提供【解決手段】 周りの一側に長さ方向に電子ビーム照射窓が形成された真空チャンバーと、真空チャンバーの内部中心の長さ方向に位置され、その周りの一側に電子ビーム照射窓に対応される電界放出チップが形成された陰極と、チャンバーの一端に位置され、前記陰極側に高電圧を印加させる高電圧印加部と、を含む電子ビーム照射装置。
【選択図】 図１ |
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| 122 | Aligner and manufacture thereof, and device manufacturing method | JP26017098 | 1998-09-14 | JP2000091209A | 2000-03-31 | KOMATSUDA HIDEKI; MURAYAMA TOKUO |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain good imaging performance of an aligner even when its projection system comprises a few optical members. SOLUTION: In an aligner, there are provided a light source 2-3, 100, 101 of an X-ray, an illumination system 4-7 for guiding the X-ray from its light source to a mask 8, and a projection system 9 for projecting the pattern of the mask 8 on an exposed surface 10 by guiding the X-ray to it via the mask 8. The projection system comprises a plurality of reflection mirrors 91-94, and at least one reflection mirror 91 of them is made exchangeable for a reflection mirror 97 having a different surface shape from the one of the reflection mirror 91. | ||||||
| 123 | JPH06502552A - | JP50887791 | 1991-04-26 | JPH06502552A | 1994-03-24 | |
| 124 | Device for uniformly irradiating fluidized fluid | JP8243383 | 1983-05-11 | JPS58205841A | 1983-11-30 | RESURII JII SUPEIA; EDOUIN ERU ADAMUSU |
| 125 | Ondoni binkanna butsushitsuo ganmasenhoshanyotsute shorisuru sochi | JP9943475 | 1975-08-15 | JPS5144797A | 1976-04-16 | ERUNSHUTO BOSUHARUTO |
| 126 | JPS4926240B1 - | JP8001869 | 1969-10-08 | JPS4926240B1 | 1974-07-06 | |
| 127 | JPS4892800A - | JP12881172 | 1972-12-21 | JPS4892800A | 1973-12-01 | |
| 128 | RI標識化合物製造装置及びRI標識化合物製造方法 | JP2017128138 | 2017-06-30 | JP2018084570A | 2018-05-31 | ▲高▼橋 成人 |
| 【課題】ターゲットガスが再利用可能で、放射性同位体の製造効率が高く、放射線被ばくの可能性をゼロに近づけ、更に、低価額で供給可能なRI標識化合物製造装置及びRI標識化合物製造方法を提供する。 【解決手段】ガス充填部10は、ターゲットガスを核反応容器10aに充填し、ガス密封部11は、前記ターゲットガスが充填された核反応容器10aを密封する。放射線照射部12は、前記ターゲットガスが密封された核反応容器10aに放射線を所定時間照射させ、当該ターゲットガスを核反応させ、RI標識化合物合成部13は、前記核反応容器10aの開放後に、前記核反応後のターゲットガスに含まれる放射性同位体を液状の化合物13aと反応させることで、RI標識化合物を合成する。そして、不純物トラップ部14は、前記反応後のターゲットガスから不純物を除去し、当該除去後のターゲットガスを前記核反応容器10aに戻す。 【選択図】図1 |
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| 129 | 中性子減速照射装置 | JP2016062865 | 2016-03-25 | JP2017173283A | 2017-09-28 | 土田 一輝; 鬼柳 善明; 瓜谷 章; 校篠 洋輔 |
| 【課題】中性子源が発生した中性子線を減速し、高速中性子の混入率が低減されていながら熱外中性子の強度が高い中性子線を出射することが可能な中性子減速照射装置を提供する。 【解決手段】中性子減速照射装置2は、荷電粒子線が照射されて中性子源5が発生した中性子線を減速させる減速材21A,21Bと、減速材21A,21Bの周囲を囲む反射材22と、減速材21A,21Bによって減速された中性子線の照射野を整形するコリメータ部24A,24Bとを備え、減速材21A,21Bは、中性子源5の下流側に配置された本体部21Aと、本体部21Aの上流側に配置されて中性子源5の周囲を囲む上流部21Bとを有する。 【選択図】図2 |
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| 130 | 電磁波顕微鏡及びＸ線顕微鏡 | JP2017505926 | 2015-03-17 | JPWO2016147320A1 | 2017-09-07 | 和浩 上田; 明男 米山 |
| 電磁波顕微鏡として、最大視野を分割する複数の領域間で試料が繰り返し移動される場合に、前記試料の移動のたび、前記試料の像を含む領域と前記試料の像を含まない領域の両方を含む最大視野相当の視野画像を取得する画像取得部と、前記試料の像を含まない領域と前記試料の像を含む領域の位置関係が異なる複数の前記視野画像を用いて試料吸収像を算出する演算装置とを有する顕微鏡を提案する。 | ||||||
| 131 | 電子ビーム装置のカソードハウジングサスペンション | JP2014517677 | 2012-06-27 | JP6181643B2 | 2017-08-16 | ハンス・ウィットワー; ウルス・ホシュテットラー; トニ・ウェイバー; ハンス・ロイセール |
| 132 | 原子線源 | JP2017507886 | 2016-08-18 | JP6178538B2 | 2017-08-09 | 辻 裕之; 高橋 知典; 近藤 好正; 北村 和正; 赤尾 隆嘉; 長江 智毅 |
| 133 | 電子衝撃によって物品を処理するための装置 | JP2016517252 | 2014-05-30 | JP6174792B2 | 2017-08-02 | ニコラ ジュロ |
| 134 | 滅菌デバイスおよび電子ビームエミッター | JP2016552963 | 2015-01-21 | JP2017508522A | 2017-03-30 | ホーカン・メルビン |
| 特に包装材を滅菌することを目的とし、第1のチャンバと、バリア要素と、接続範囲とを備え、第1のチャンバは、滅菌するために電荷キャリアを提供するように適合される滅菌デバイスであって、接続範囲が第3のチャンバに接続されることで、バリア要素が、第1の大気が存在する空間の境界の少なくとも一部を形成することを特徴とする滅菌デバイス。 | ||||||
| 135 | 電子線照射装置 | JP2013261924 | 2013-12-19 | JP2016211850A | 2016-12-15 | バクタリ カーヴェ |
| 【課題】照射窓に欠陥や腐食が生じにくく、照射窓の交換頻度を低減することができる電子線照射装置を提供する。 【解決手段】電子e−を発生させ得る電子発生源2と、この電子発生源2を内部30に配置する真空チャンバー3と、この真空チャンバー3の気密を保つとともに上記電子発生源2からの電子e−が透過し得る照射窓5と、この照射窓5を冷却する冷却手段32,31o,31iとを備える電子線照射装置1であって、上記照射窓5は、炭化珪素(SiC)のような耐食性熱伝導材料の無垢材(単一の塊)から形成されて、上記電子e−を透過させる薄膜部50と、この薄膜部50よりも厚くて厚さが連続的な厚膜部51とを有し、上記厚膜部51は、上記照射窓5の周縁部に位置する外側厚膜部を有し、この外側厚膜部は、上記真空チャンバー3を構成する壁31に支持されるとともに、上記冷却手段32,31o,31iに接続されるものである。 【選択図】図1 |
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| 136 | 紫外レーザ滅菌システム | JP2014098707 | 2014-05-12 | JP6042369B2 | 2016-12-14 | 崔祥辰; 莊頌▲彦▼; 林幸瑩; 黄貞翰; 廖華賢 |
| 137 | 組立体、出口窓金属箔における皺を減らす方法及び充填機械における方法 | JP2012551947 | 2011-02-01 | JP6007109B2 | 2016-10-12 | リンネ、ウルリカ; オーベリ、アンドレアス; ホステットラー、ウルス |
| 138 | 光照射装置および印刷装置 | JP2013551738 | 2012-12-26 | JP6006733B2 | 2016-10-12 | 内田 信也 |
| 139 | 電子衝撃によって物品を処理するための装置 | JP2016517252 | 2014-05-30 | JP2016522050A | 2016-07-28 | ジュロ ニコラ |
| 本発明は、放射によって物品を処理するための装置に関し、この装置は、物品搬送装置(10)が上に取り付けられているフレーム(1)を含み、その物品搬送装置(10)の一部分が、少なくとも1つの放射エミッタ(3)の付近の遮蔽チャンバ(2)内に収容されている。この遮蔽チャンバは、搬送装置の一部分が中に延びるジグザグ形の通路(50)を画定する内部横断方向隔壁(51、52、53、54)を含むトンネル(40)を備える。これらの隔壁は、概ね垂直な平面に沿ってジグザグ形の通路が延びるように配置されている。本出願は、さらに、こうした処理装置を備える、材料を容器の中に詰めるための装置も開示する。 | ||||||
| 140 | 電子ビーム発生装置のための制御グリッドの構成 | JP2013525295 | 2011-08-24 | JP5869572B2 | 2016-02-24 | クロエッタ、ドミニク |
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