子分类：
- G03H1/00： 应用光波、红外波或紫外波取得全息图或由此获得图像的全息摄影工艺过程或设备;及其特殊的零部件
- G03H2210/00： 对象的特性(不使用,见下位组)
- G03H2222/00： 光源或光线特性(不使用,见下位组)
- G03H2223/00： 光学元件(不使用,见下位组)
- G03H2224/00： 光化光波以外的写入方法(不使用,见下位组)
- G03H2225/00： 主动寻址光调制器(不使用,见下位组)
- G03H2226/00： 电光或与之相关的数字全息电子元件(不使用,见下位组)
- G03H2227/00： 机械部件或不另有规定的机械方面(不使用,见子组)
- G03H2230/00： 形式,或当没有注册到衬底上的全息图的形状(不使用,见下位组)
- G03H2240/00： 全息性质或属性(不使用,见子组)
- G03H2250/00： 层压体,其包括全息照相层(不使用,见下位组)
- G03H2260/00： 记录材料或记录过程(不使用,见子组)
- G03H2270/00： 基板承载全息图(不使用,见下位组)
- G03H3/00： 应用超声波、声波、次生波来取得全息图的全息摄影工艺或设备;用于从全息图获得光学图像的工艺过程或设备(G03H1/22 优先;使用全息摄 影方法来进行非破坏性的声学测试入G01N29/0663;使用声的震动的地震学入G01V1/00; 非全息摄影方法用于可视声波G10K15/00)
- G03H5/00： 应用不包含在G03H1/00或G03H3/00的其他电磁波或粒子来取得全息图的全息摄影工艺或设备;用于从全息图获得光学图像的工艺过程或设备(G03H1/22优先;电子显微镜的结构入H01J37/26;通过使用微波来研究或分析材料入G01N22/00,使用粒子波或X射线入G01N23/00, G21K7/00)
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 241 | 用于全息存储系统中的波长失配补偿的方法 | CN200710096510.3 | 2007-04-11 | CN101055731B | 2011-10-12 | 乔基姆·尼特尔; 弗兰克·普齐戈达 |
| 本发明涉及一种用于补偿全息存储系统(1)中的读出参考光束(8′)和记录参考光束(8)之间的波长失配的方法、以及实现该方法的全息存储系统(1)。根据本发明，确定(20)波长失配(Δλ)，并且根据所确定的波长失配(Δλ)，通过将读出参考光束(8′)散焦(22)、或通过调节(23)用于将读出参考光束(8′)聚焦到全息存储介质(10)中的物镜(9)的焦距，来调节(22、23)读出参考光束(8′)的至少一部分相对于全息存储介质(10)的方向。 | ||||||
| 242 | 含全息图的介质、其制造装置以及信息判定方法 | CN201110029153.5 | 2011-01-26 | CN102193480A | 2011-09-21 | 白仓明; 松原贵志 |
| 本发明提供了含全息图的介质、其制造装置和信息判定方法，该含全息图的介质是至少记录有两项识别信息的集成介质，其中这两项识别信息中的一项是当从预定角度照射时能够在预定角度范围内观察的全息图识别信息。 | ||||||
| 243 | 再现设备和再现方法 | CN200910146896.3 | 2009-06-19 | CN101609700B | 2011-08-03 | 原雅明 |
| 一种用于执行关于全息图记录介质的再现的再现设备，在所述全息图记录介质中，通过信号光和参考光之间的干涉，根据所述信号光记录全息图页，在所述信号光中位数据使用光强差别的信息以像素为增量排列，所述再现设备包括：参考光生成单元，用于生成当获得再现图像时照射的参考光；相干光生成单元，用于生成相干光，其强度大于所述再现图像的最小振幅的绝对值，并且具有与所述再现图像中的参考相位相同的相位；图像传感器，用于以像素为增量接收输入图像；以及光学系统，用于将所述参考光引导到所述全息图记录介质，并且还将根据所述参考光的照射而获得的再现图像和所述相干光引导到所述图像传感器。 | ||||||
| 244 | 存储控制器和将信息存储在全息数据存储媒体内的方法 | CN200810081357.1 | 2008-02-25 | CN101261846B | 2011-07-20 | 艾伦·K·贝茨; 丹尼尔·J·威纳尔斯基 |
| 本发明涉及存储控制器和将信息存储在全息数据存储媒体内的方法。这种方法供应包括编码对焦全息图和一个或多个编码数据全息图的全息数据存储媒体。这种方法将全息数据存储媒体配置在全息数据存储系统内，使得可动成像透镜处在第i个位置。这种方法照射编码对焦全息图，以产生第i个重建对焦图像，再通过可动成像透镜将第i个重建对焦图像投射到光检测器上。然后，计算出第i个所测对焦度量，确定第i个所测对焦度量是否大于或等于对焦度量门限。如果第i个所测对焦度量大于或等于对焦度量门限，对一个或多个编码数据全息图解码。 | ||||||
| 245 | 只读全息记录介质的记录再生方法、以及只读全息记录介质 | CN200980128100.X | 2009-07-17 | CN102099752A | 2011-06-15 | 安藤敏男; 清水健博; 正木一嘉 |
| 对全息记录介质的第1面照射记录信号光与记录参照光，在上述全息记录介质中记录作为干涉条纹的信息，接下来，使反射层与上述全息记录介质的与上述第1面相向的第2面上密接并设置，接下来，对上述全息记录介质的上述第1面照射再生参照光，使其在上述反射层反射，将来自上述全息记录介质的再生信号光在上述全息记录介质的上述第1面侧进行读出。 | ||||||
| 246 | 光信息记录再生装置以及光信息再生装置 | CN201010593255.5 | 2010-12-14 | CN102097108A | 2011-06-15 | 三上秀治; 宫本治一 |
| 一种光信息记录再生装置以及光信息再生装置。在今后的光盘的大容量化、高速化中，多层记录是有效的，但在现有技术中随着记录层数的增大，S/N比不足，成为限制大容量化的主因。在为提高S/N比而检测与不照射光盘的光的干涉光的方式中，难以通过简单的结构稳定地取得再生信号。此外，无法实现记录密度的提高，难以提高转发速度。在使两光束相向地会聚在光信息记录介质中的同一部位，记录通过所述两光束的干涉而生成的驻波的光信息记录再生装置中，多级别地调制两个光束的相位差来进行记录。在再生时，作为再生信号检测来自记录介质的再生光与别的再生用参照光的干涉光，用再生信号的低频成分进行使再生时的干涉的相位稳定的相位伺服控制。 | ||||||
| 247 | 用于表面浮雕凸印的深层结构或浮雕成像 | CN200980127500.9 | 2009-07-09 | CN102089719A | 2011-06-08 | 路易斯·M··斯波托; 迪恩·J··兰达扎索; 马特·戴尔斯奇 |
| 各种深层结构化装饰性图案来源于机器浮雕或者蚀刻。深层图案化或纹理化的蚀刻或浮雕被结合在薄膜凸印衬垫上，以在用于凸印薄膜或材料时模拟该深层图案或纹理的外观。浮雕表面(例如刷饰金属、机器成形图案和纹理化玻璃)的透明模型使用紫外线固化液体和透明基片形成。透明模型中的浮雕复制品通过照射或展开一束或多束激光源穿过所述透明模型而被映射到感光保护膜表面或板上。之后，所述薄膜凸印衬垫用于传统凸印机以形成薄膜凸印。然后，所述凸印薄膜被金属化和层压到基片上，以制造出当暴露在白光中时从不同角度观察到的变化的图案。 | ||||||
| 248 | 全息图再现设备，全息图再现方法和调相元件 | CN200810009841.3 | 2008-02-20 | CN101252004B | 2011-06-08 | 田中富士; 原雅明; 徳山一龙; 世古悟; 山田晋司; 冈田均 |
| 本发明公开一种全息图再现设备，全息图再现方法和调相元件。其中，全息图再现设备包括第一参考光光路，引导来自激光光源的激光，以致用第一参考光照射全息图记录介质；衍射光路，把因第一参考光的照射，从全息图记录介质产生的衍射光引导到具有多个像素的受光元件；和第二参考光光路，把具有和衍射光相同的偏振方向的第二参考光从激光光源引导到受光元件。第二参考光光路配有调相元件，以致在预定范围内，调节受光元件的受光面中衍射光和第二参考光之间的相差。 | ||||||
| 249 | 具有切趾装置的全息直视显示器 | CN200980124718.9 | 2009-01-16 | CN102077145A | 2011-05-25 | 诺伯特·莱斯特; 斯蒂芬·瑞切特 |
| 本发明通过在全息直视显示器中的切趾避免邻近眼睛中强度的串扰。为切趾掩模利用或调整公知的切趾函数，使得所述函数降低选择的较高量值的衍射的强度。出于该目的，全息直视显示器包含具有调制器单元并且将碰撞相干光调制为相位和/或振幅的可控光调制器，和切趾掩模阵列。对于预先确定的调制器单元组来说，切趾掩模具有相同的切趾函数，凭借该切趾函数可以为调制器单元设定复振幅透明度。该透明度对应于调制器单元的远场中的单独地预先确定的强度轮廓，其中预先确定的强度轮廓包括较高量值的衍射的光强度，和/或由光调制器发出的干涉光的光强度。为了检测切趾函数，提供迭代方法，该迭代方法在计算单元中以计算程序的方式运行。应用领域包括用于在全息直视显示器中实现不同类型调制的光调制器单元。 | ||||||
| 250 | 转印微米级图案至光学物品上的方法以及获得的光学物品 | CN200680046229.2 | 2006-12-06 | CN101326058B | 2011-05-25 | 克里斯泰勒·德弗朗科 |
| 一种方法，包括将一个图案(P)以被乳胶层(2)保留的转印材料(3，4b)一个或多个部分的形式，转印到光学物品(1)上。在乳胶层形成在物品上之后且乳胶干燥之前，转印材料的一个或多个部分随着印模被运用。将乳胶作为一种粘性材料使用，使得多种不同材料能够被使用以形成转印材料。这样的方法特别适合生成诸如全息图的图案在光学透镜上，尤其是眼镜片。乳胶层也可保护产品不被后续受到的震动所影响。 | ||||||
| 251 | 用于在存储介质中产生微结构的方法 | CN200980121896.6 | 2009-09-25 | CN102057335A | 2011-05-11 | 斯蒂芬·诺埃特; 罗伯特·托曼; 马塞厄斯·格斯帕克; 克里斯托弗·迪特里克 |
| 本发明涉及用于一种在存储介质中产生微结构的方法，其中，写入光束定向到写入轨迹上，在布置在那里的存储材料上聚焦并且相对于存储材料运动；其中，微结构通过在存储材料内逐点引入光束能量被写入到存储材料内；并且其中，将存储材料连续地或不连续地沿写入轨迹-运行方向继续运动。建议提供至少一个用于另外的存储介质的另外的写入轨迹，并且在第一写入轨迹上写入存储介质后将写入光束偏转到下一个写入轨迹上。 | ||||||
| 252 | 可光聚合的组合物 | CN200980117773.5 | 2009-04-15 | CN102037346A | 2011-04-27 | 普拉迪·帕瑞克; 安卓恩·马丁·达米恩·霍根 |
| 目前已知的全息记录媒体及感应器具有诸多缺点，例如以卤化银为基的记录媒体生产成本高昂且不适用于某些感应器应用，且以光聚合物为基的记录媒体使其难以记录多个全息影像，因此通常使其不适用于感应器。本发明的一种具体实例的全息记录媒体可包含聚合物基质及通过经由光环加成形成环状桥而二聚的化学基团。该等全息记录媒体具有成本效益，允许记录多个全息影像，且使得可产生对外在刺激具有受控可观察响应的感应器。 | ||||||
| 253 | 用于在像素化光调制器中编码计算机生成的全息图的方法 | CN200980116787.5 | 2009-03-10 | CN102027420A | 2011-04-20 | 诺伯特·莱斯特 |
| 本发明涉及一种用于在像素化光调制器中编码计算机生成的全息图的方法，光调制器的编码区域包括像素矩阵，像素矩阵的像素具有同样的像素形状和像素透明度，其中编码区域包含由子全息图(201，211)组成的全息图(12)，每个子全息图分配给要由全息图(12)重建的物体(10)的一个物点(30，31)。本发明的目的是将由实际像素形状和像素透明度引起的全息图重建的偏差普遍地消除，同时减少全息图校正的计算时间。解决方案是将各个计算机生成的子全息图(201，211)与矫正函数(K)相乘，然后将经校正的子全息图(201，211)相加以形成总全息图(12)，其中，将投射到全息面的与虚拟观察者窗口(11)有关的像素函数的互逆变换作为校正函数(K)。 | ||||||
| 254 | 组合物、光学数据存储介质及使用所述光学数据存储介质的方法 | CN201010277283.6 | 2010-08-31 | CN102005222A | 2011-04-06 | A·纳塔拉延; R·P·让-吉勒斯; 陈国邦; R·J·佩里; V·P·奥斯特罗弗霍夫; E·M·金; 李林庆怀; E·P·博登; P·J·麦克罗斯基; B·L·劳伦斯 |
| 本发明提供了组合物、光学数据存储介质和使用所述光学数据存储的方法。所述组合物包含非线性敏化剂，所述非线性敏化剂包含一种或多种能吸收光化辐射而导致向反应物的上能级三线态能量传递的铂乙炔基络合物，其中所述反应物在三线态激发时将发生光化学变化。 | ||||||
| 255 | 光学数据存储介质及其使用方法 | CN201010277335.X | 2010-08-31 | CN102005213A | 2011-04-06 | A·纳塔拉延; E·P·博登; 陈国邦; P·J·麦克洛斯基; V·P·奥斯特罗弗霍夫; E·M·金; D·G·加斯科伊恩; R·J·佩里; R·P·让-吉勒斯; J·L·李; B·L·劳伦斯 |
| 本发明提供了光学数据存储介质及使用其进行光学数据存储的方法。所述光学数据存储介质包含非线性敏化剂，所述非线性敏化剂能吸收光化辐射而导致向反应物的上能级三线态能量传递，其中所述反应物在三线态激发时将发生变化。所述介质的折射率变化(Δn)至少为约0.005，或甚至至少为约0.05。 | ||||||
| 256 | 具有空间上变化的倾角的液晶层 | CN201010248400.6 | 2010-08-09 | CN101995598A | 2011-03-30 | 大卫·M.·西蒙; 谭金龙 |
| 本发明提供一种制造包括具有空间上变化的倾角的液晶层的光学元件的方法，包括：使用线性光聚合的聚合物层涂覆衬底，使用线偏振紫外光以斜角照射线性光聚合的聚合物层，以及在所照射的线性光聚合的聚合物层的表面上涂敷一层液晶材料。液晶材料在其倾角和线偏振紫外光的总剂量之间有预定的关系。使用至少一个剂量的线偏振紫外光照射线性光聚合的聚合物层，所述至少一个剂量的线偏振紫外光足以引起在具有比相邻区域更大的面内双折射率的液晶层内形成多个离散区域。 | ||||||
| 257 | 用于微构造存储介质的设备和方法以及包括微构造区域的存储介质 | CN200780011934.3 | 2007-04-04 | CN101416114B | 2011-03-02 | S·内特; R·托曼 |
| 本发明涉及一种用于微构造存储介质(2)的设备，该设备包括用于根据电磁辐射来产生至少部分相干光束的辐射源(4)、具有多个单独可切换调制器单元的调制器(6)、用于照射调制器(6)的光束形成光学单元(8)、用于缩减由调制器(6)辐射的光束的缩减光学单元(10)和用于相对于缩减光学单元来转移存储介质(2)的传送台(12)。本发明的目的在于解决由于微构造的写入和单独衍射光学单元(DOE)、特别是具有高速度和高写入能量的由计算机生成的全息图所引起的技术问题。可以实现所述目的是因为缩减光学单元(10)被配置有受限的衍射并且所述单元(10)产生相对于单独调制器单元的表面至少为25的表面缩减。本发明也涉及一种用于控制所述设备的方法和一种由此描述的存储介质。 | ||||||
| 258 | 记录设备和相调制器件 | CN200710308189.0 | 2007-10-08 | CN101202061B | 2011-02-09 | 福本敦; 杉木美喜雄; 田中健二; 原雅明; 广冈和幸 |
| 本发明提供一种对全息记录介质至少进行记录的记录设备，其包括：光发射装置，用于发射将被照射到设置于预定位置处的该全息记录介质的光；特定光调制装置，配置为能够通过以像素为单位对入射光进行光强度调制而产生将被照射到所述全息记录介质的参考光和信号光；相调制装置，用于对来自所述特定光调制装置的照射光进行相调制；以及光学系统，配置来引导从所述光发射装置发射的光通过所述特定光调制装置和所述相调制装置到达所述全息记录介质。 | ||||||
| 259 | 可控照明装置 | CN200680014377.6 | 2006-04-25 | CN101167023B | 2011-02-02 | 拉尔夫·豪斯勒; 阿明·史威特纳 |
| 本发明涉及一种用于自动立体显示器或全息显示器的可控照明装置，该照明装置含有主光源照明矩阵和再现矩阵，其中主光源照明矩阵具有每个光源至少一个的照明元件和可控光调制器(SLM)。在可控光调制器(SLM)上编码的、由主光源照明的计算机生成的全息图(CGH)，在SLM下游的至少一个平面中生成矩阵具有二级光分布的二级光源的矩阵(2)，该矩阵由计算机生成的全息图(CGH)重新构建，用于照明再现矩阵(4)以及用于将光束通过成像矩阵聚焦到每个眼睛中。CGH以观察者的数量和位置以及系统参数为基础进行计算和重新构建。由于二级光源在多个平面中重新构建，所以不仅在观察者横向移动时，而且在其轴向移动时都可以为其跟踪显示器的图像信息。 | ||||||
| 260 | 全息图记录材料 | CN200680000423.7 | 2006-04-06 | CN101061442B | 2011-02-02 | 川口佳秀 |
| 本发明提供一种全息图记录材料，该全息图记录材料可以用可见光激光有效地调整折射率，并且即使在调整后也是高度透明的。该全息图记录材料的特征在于：包含(A)聚合物和(B)曝光于可见光时产生活性物质的光聚合引发剂源(B)，该聚合物为包含由式CH2＝C(R1)-C(＝O)O-R2＝CH2表示的丙烯酸基乙烯基单体作为不可缺少的组分的单体的聚合物，其中R1表示氢原子或甲基，R2表示具有1至20个碳原子的饱和或不饱和烃基，其分子内任选地含有杂原子或卤原子，该聚合物在其分子内具有游离基可聚合侧链乙烯基。尤其该光聚合引发源(B)是吸收可见光以产生活性物质的光聚合引发剂或是可见光敏化着色物质和光聚合引发剂的混合物。 | ||||||
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