1 |
液晶显示面板 |
CN201510118156.4 |
2015-03-17 |
CN104765208B |
2017-10-17 |
唐岳军 |
本发明公开了一种液晶显示面板,包括:第一衬底;第二衬底,其位于与第一衬底相对的位置上,并且在第二衬底上设置有像素电极和公共电极;辅助隔垫物,其位于第一衬底和第二衬底之间并固定于第一衬底上,其中,辅助隔垫物设置有顶部电极,第二衬底上对应顶部电极的位置处设置有公共电极的延伸电极和像素电极的延伸电极,以使得面板受到挤压后,顶部电极与公共电极的延伸电极和像素电极的延伸电极接触来导通公共电极和像素电极。本发明可以改善液晶显示面板的指压不良现象。 |
2 |
一种显示基板、显示面板及显示装置 |
CN201410262118.1 |
2014-06-12 |
CN104062800B |
2016-08-17 |
焦志强; 孙力 |
本发明公开了一种显示基板、显示面板及显示装置,由于显示基板的彩膜结构中至少一种颜色的色阻由层叠设置的至少两层滤光膜组成,由至少两层滤光膜组成的色阻中,各层滤光膜的折射率从衬底基板指向透明导电氧化物膜层的方向逐渐增大,且与衬底基板相邻的一层滤光膜的折射率大于衬底基板的折射率,与透明导电氧化物膜层相邻的一层滤光膜的折射率小于透明导电氧化物膜层的折射率,这样,在光从透明导电氧化物膜层处入射,经过彩膜结构后从衬底基板处出射的过程中,可以减少由于透明导电氧化物膜层与衬底基板之间较大的折射率差所导致的全反射现象,从而可以减少光在显示面板的传输过程中的损失,进而可以提高显示装置的显示亮度。 |
3 |
内嵌式液晶触控面板 |
CN201210326162.5 |
2012-09-05 |
CN103293736B |
2015-12-16 |
杨康; 李嘉灵; 马骏 |
本发明公开了一种内嵌式液晶触控面板,包括:设置有触控单元的彩膜基板;与彩膜基板相对设置的阵列基板;封装于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层;位于所述彩膜基板内侧的多个第一导电垫,每个所述第一导电垫电连接至一条用于触控信号传输的第一信号线;位于所述阵列基板内侧的多个第二导电垫,每个所述第二导电垫电连接至一条用于触控信号传输的第二信号线;位于所述第一导电垫与所述第二导电垫之间的导电物质,所述导电物质使得每个所述第一导电垫对应与一个所述第二导电垫电连接,同时使得所述第一导电垫之间相互绝缘。本发明所公开的内嵌式液晶触控面板提高了装置的集成度。 |
4 |
富勒烯/PEDOT:PSS混合溶液的制备方法及具有富勒烯/PEDOT:PSS复合透明导电膜的基板的制备方法 |
CN201510427292.1 |
2015-07-20 |
CN105085937A |
2015-11-25 |
胡韬; 武岳 |
本发明提供一种富勒烯/PEDOT:PSS混合溶液的制备方法及具有富勒烯/PEDOT:PSS复合透明导电膜的基板的制备方法,采用富勒烯类分子与PEDOT:PSS溶液来制备一种富勒烯/PEDOT:PSS混合溶液,所使用的材料来源广泛、价格低廉,制得的富勒烯/PEDOT:PSS混合溶液可用于进一步在基板或各种器件上制作富勒烯/PEDOT:PSS复合透明导电膜;在制备富勒烯/PEDOT:PSS复合透明导电膜时采用低成本、高效率的湿法涂布工艺,与ITO膜的制备方法相比省去了昂贵的PVD设备,降低了生产成本,同时制作方法简单,生产时间缩短,经济效益提高。 |
5 |
一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制造方法 |
CN201210349520.4 |
2012-09-19 |
CN102881688B |
2015-04-15 |
邓检 |
本发明公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制造方法,所述阵列基板包括多个像素单元,每个像素单元包括薄膜晶体管、透明导电金属层和像素电极,所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极,其中,所述有源层位于栅极的上方或者下方;所述透明导电金属层与有源层层叠接触;所述源极和漏极形成有源层的沟道,且所述漏极与像素电极连接。由于透明导电金属与有源层层叠接触,在阵列基板的制造过程中,在沉积透明导电薄膜和有源层薄膜之后,只需通过一次半色调掩模构图工艺即可形成像素电极图形和有源层图形,大大简化了生产工艺,同时也减少了该次掩模构图工艺可能带来的产品缺陷,大大提高了产能。 |
6 |
一种偏光片及其制作方法、显示面板和显示装置 |
CN201410832102.X |
2014-12-26 |
CN104503015A |
2015-04-08 |
石岳; 秦广奎; 姚继开 |
本发明的实施例提供一种偏光片及其制作方法、显示面板和显示装置,涉及显示技术领域,解决了显示器件会出现静电击穿的问题的基础上,避免了稀有金属的使用,降低了生产成本,保证了显示器件的性能,同时满足了工艺的匹配度。该偏光片包括:第一保护层和导电层,其中:所述导电层设置在所述第一保护层上;所述导电层的材料包括石墨烯。本发明应用于显示器的制作技术中。 |
7 |
液晶显示器 |
CN200980128115.6 |
2009-07-17 |
CN102099732B |
2015-03-25 |
金世罗; 赵正植; 朴文基; 金基暎; 韩仁天 |
本发明涉及一种包括导电压敏粘合剂层的液晶显示器。本发明可以提供一种液晶显示器,即使不使用为了抗静电目的而在液晶面板中的上衬底和偏振片之间常规形成的ITO层,所述液晶显示器也可以防止在制备或使用过程中产生的静电所造成的装置故障,且该液晶显示器具有优良的物理性质比如高温或高湿条件下的耐久可靠性和光学特性。 |
8 |
液晶滴下工艺用密封剂、液晶滴下工艺用密封剂的制造方法、上下导通材料及液晶显示元件 |
CN201280003824.3 |
2012-06-25 |
CN103229094B |
2014-11-05 |
长谷川刚; 三田耕平; 高桥骏夫; 中岛隆久 |
本发明的目的在于,提供基本不会引起液晶污染的液晶滴下工艺用密封剂。另外,本发明的目的在于,提供该液晶滴下工艺用密封剂的制造方法、以及使用该液晶滴下工艺用密封剂而制成的上下导通材料和液晶显示元件。本发明为一种液晶滴下工艺用密封剂,其是含有:含有自由基聚合性化合物的固化性树脂、和自由基聚合引发剂的液晶滴下工艺用密封剂,其中,溶解的氧的分压为10~4000Pa。 |
9 |
薄膜晶体管阵列基板、彩膜基板、制作方法和显示设备 |
CN201110086433.X |
2011-04-07 |
CN102645801B |
2014-10-29 |
张弥 |
本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板、彩膜基板、制作方法和显示设备,包括:薄膜晶体管阵列基板上的数据扫描线不直接与栅极扫描线交叠,而是在一条栅极扫描线两侧设计两条与栅极扫描线不相交的数据扫描线,避免了栅极扫描线和数据扫描线的交叠处被静电击穿后出现短接的问题,同时,利用彩膜基板上的数据传输线跨过栅极扫描线,导通栅极扫描线两侧的数据扫描线,使一条数据扫描线输入的数据信号通过彩膜基板上的数据传输线引入另一条数据扫描线,保证了通过数据扫描线传输数据信号的连续性。 |
10 |
黑色密封剂组合物,包括它的显示装置及制造该显示装置的方法 |
CN201310598000.1 |
2013-11-22 |
CN103834323A |
2014-06-04 |
田昌雨; 金珍郁; 金柄杰; 金成祐; 柳轻烈 |
本发明涉及一种黑色密封剂组合物、包括它的显示装置以及制造该显示装置的方法,所述黑色密封剂组合物包括:磁性纳米颗粒,包括芯和围绕该芯的壳;呈现黑颜色的导电性黑色颗粒;以及分散有所述磁性纳米颗粒和导电性黑色颗粒的树脂。 |
11 |
一种显示面板及其封装方法、液晶显示器件 |
CN201310325110.0 |
2013-07-30 |
CN103389588A |
2013-11-13 |
姜清华; 秦锋; 李小和; 刘永; 邵贤杰 |
本发明实施例公开了一种显示面板及其封装方法、液晶显示器件,涉及显示技术领域,所述显示面板包括:阵列基板和彩膜基板,所述阵列基板和所述彩膜基板通过封框胶粘合,所述阵列基板包括显示区域以及位于所述显示区域外侧的栅极驱动GOA电路,所述封框胶包括:形成于第一封装区域和/或第二封装区域的绝缘封框胶,以及形成于所述第二封装区域的用于将所述阵列基板和所述彩膜基板电连接的导电封框胶;所述第一封装区域包括所述显示区域外设置有所述GOA电路的区域,所述第二封装区域包括所述显示区域外未设置所述GOA电路的区域。可以避免电极之间发生短路,实现显示面板的窄边框设计。 |
12 |
导电封框胶、显示面板及其制作方法、显示装置 |
CN201310158396.8 |
2013-05-02 |
CN103232820A |
2013-08-07 |
张雨; 柳在健 |
本发明实施例提供导电封框胶、显示面板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够解决现有技术石墨烯发生团聚导致显示面板导电效果不良的问题,提高显示面板的显示效果。本发明的导电封框胶包括:包括封框胶材料和导电粒子,所述导电粒子为在树脂中添加石墨烯或碳纳米管的复合材料。 |
13 |
形成有氧化膜的导电膜及其制造方法 |
CN201180055243.X |
2011-11-17 |
CN103210453A |
2013-07-17 |
金智嬉; 金正凡; 李政炯; 朴珉春 |
本发明涉及一种导电膜以及制造该导电膜的方法,所述导电膜包括:衬底;在该衬底上形成的第一导电层;在所述第一导电层上形成的图形化的第二导电层,并在所述第二导电层的上部面和侧面形成有氧化膜。根据本发明的导电膜,能够防止因导电成的急剧氧化而导致的不良或者对衬底的损坏,并且能够提高发光均匀度。 |
14 |
液晶显示面板 |
CN201110342979.7 |
2011-10-25 |
CN102354069B |
2013-05-29 |
郑佳阳; 罗时勋; 袁山富 |
一种液晶显示面板,包括有源元件阵列基板、对向基板、液晶层、导电框胶及限位结构。有源元件阵列基板具有共通线、与共通线电性连接的转接焊盘及介电层,介电层具有开口以将转接焊盘暴露。对向基板具有共通电极,而液晶层配置于有源元件阵列基板与对向基板之间。导电框胶配置于有源元件阵列基板与对向基板之间并环绕液晶层。开口对应于导电框胶的角落,且导电框胶填入开口以使共通电极通过导电框胶与转接焊盘电性连接。此外,限位结构配置于有源元件阵列基板与对向基板之间,限位结构邻近于导电框胶的各个角落配置,以迫使导电框胶填入开口中。本发明无须进银胶制作,且液晶层由于限位结构的缘故而不易从介电层的开口渗出。 |
15 |
一种显示面板及其制造方法 |
CN201210349244.1 |
2012-09-19 |
CN102866523A |
2013-01-09 |
杜鹏; 姜佳丽 |
本发明公开了一种显示面板及其制造方法,显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板;第一基板上包括像素区和框胶,框胶环绕设置在像素区的周围,且框胶中含有加热熔融物质;第二基板上设置有导电走线;其中,导电走线和框胶重叠设置在第一基板和第二基板之间,且导电走线通电加热后使得框胶固化。通过上述方式,本发明的显示面板及其制造方法不需通过紫外光照射来实现框胶固化,能够简化制程。 |
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显示装置的制造方法 |
CN201180015615.6 |
2011-01-17 |
CN102822729A |
2012-12-12 |
西山荣; 吉田一义; 作田俊秀 |
本发明提供一种在不使用溅射法的情况下在玻璃基板设置导电膜的显示装置的制造方法。所述制造方法包括:化学研磨工序,使显示装置用玻璃基板表面与浸蚀液接触,由此将玻璃表面的算术平均粗糙度Ra设在0.7nm-70nm的范围;成膜工序,对化学研磨工序后的玻璃表面涂布导电性聚合物,形成400-1200Ω/sq的导电膜;将成膜工序后的玻璃基板的全光线透过率设成板厚0.5mm的玻璃基板的全光线透过率的87%以上。 |
17 |
阵列基板及应用其的显示装置 |
CN201210080930.3 |
2012-03-23 |
CN102654695A |
2012-09-05 |
周伟峰 |
本发明公开了一种阵列基板及应用其的显示装置,涉及液晶显示技术领域,解决了将彩色滤光片直接制备在边缘场开关型液晶显示面板的阵列基板上时,会降低边缘场开关型液晶显示面板的开口率的问题。本发明实施例中,由于在彩色树脂层中添加了导电颗粒,有效降低了彩色树脂层的等效介电厚度,使得彩色滤光片能直接制备在边缘场开关型液晶显示面板的阵列基板上,且不降低该显示面板的开口率,还能提高该显示面板的集成度和生产效率,从而使应用该阵列基板的显示装置具有较高的集成度和生产效率。 |
18 |
薄膜晶体管阵列基板、彩膜基板、制作方法和显示设备 |
CN201110086433.X |
2011-04-07 |
CN102645801A |
2012-08-22 |
张弥 |
本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板、彩膜基板、制作方法和显示设备,包括:薄膜晶体管阵列基板上的数据扫描线不直接与栅极扫描线交叠,而是在一条栅极扫描线两侧设计两条与栅极扫描线不相交的数据扫描线,避免了栅极扫描线和数据扫描线的交叠处被静电击穿后出现短接的问题,同时,利用彩膜基板上的数据传输线跨过栅极扫描线,导通栅极扫描线两侧的数据扫描线,使一条数据扫描线输入的数据信号通过彩膜基板上的数据传输线引入另一条数据扫描线,保证了通过数据扫描线传输数据信号的连续性。 |
19 |
显示设备和具有该显示设备的电子设备 |
CN200810170679.3 |
2008-10-30 |
CN101546052B |
2012-05-30 |
山口刚树; 大西益生 |
本发明涉及显示设备和具有该显示设备的电子设备。该显示设备包括:前盖;显示面板;后盖,该后盖构造成与所述前盖一起接收所述显示面板;以及片部件,该片部件夹设在所述显示面板的后表面和所述后盖之间,该片部件具有导电性和吸振减振特性,其中,所述片部件的主表面的面积与所述显示面板的主表面的面积大致相等。 |
20 |
透明导电性薄膜、其制造方法以及具备其的触摸面板 |
CN200810170074.4 |
2008-10-22 |
CN101417517B |
2012-05-30 |
梨木智刚; 菅原英男 |
本发明提供一种透明导电性薄膜,其具有笔输入耐久性及高温高湿可靠性优良的透明导电体层。在透明的薄膜基材的单面隔着至少一层底涂层而具有透明导电体层,其特征在于,所述透明导电体层的厚度d为15~35nm,平均表面粗糙度为0.37~1nm。 |