序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
141 Lamp device for hardening photoopolymelizable substance JP3914676 1976-04-07 JPS51125510A 1976-11-02 NOOMAN EI HERUDEINGU
142 Shigaisennyorukyuasochi JP11100175 1975-09-16 JPS5181834A 1976-07-17 FUREDERITSUKU ETSUCHI BAUZU
143 Shigaisenkyuaro JP4853775 1975-04-21 JPS5112456A 1976-01-31 ANTON EE ATSUSHUBAAGAA
144 モジュール式に構成されたLED発光体ユニットおよび該LED発光体ユニットの使用 JP2018501324 2016-07-05 JP2018532252A 2018-11-01 シュテファン マイアー; ヨハナ ヘック; イェアク ディートリヒ; マルコ ホーフマン
周知の多光線型のLED発光体ユニットでは、複数のLED発光体モジュールがまとめられており、これらのLED発光体モジュールにはそれぞれ、430nm未満の波長のUV光線または780nmを上回る波長のIR光線を放射する少なくとも1つのLEDが設けられている。LED発光体モジュールの数と共に、保守整備や組立にかかる手間も増大する。このことから出発して、保守整備および組立が簡単であると共に、設けられた構成空間を最適に利用するLED発光体ユニットを提供するために、本発明では、各LED発光体モジュールは、光線出射窓が設けられたケーシングを有しておりかつドッキングステーションに対する挿入構成群として形成されており、ドッキングステーションは、ケーシングとの形状接続式の機械的な結合を生ぜしめるための少なくとも1つの結合手段と、電気的な差込み接続部の差込み要素とを有しており、ケーシングは、結合手段に対応する機械的な対抗部材ならびに電気的な差込み接続部の差込み要素に対応する対抗要素を備えるケーシング背面を有しており、ドッキングステーションの結合手段と、ケーシング背面の対応する機械的な対抗部材とは、形状接続式の機械的な結合が、差込み要素と前記対抗要素との間の電気的な接続をも生ぜしめるように配置されていることを提案する。
145 移動式車両プラットフォームを使用するバイオマス燃料の乾燥方法および装置 JP2017528092 2015-10-22 JP6374112B2 2018-08-15 陳義龍; 胡書傳; 張岩豊
146 液晶表示装置 JP2017560203 2016-05-12 JP2018521341A 2018-08-02 ヴァン エスブレック、フーベルトゥス セオドルス ペトルス; シャルマ、デヴァンシュ; ラム、シウ ホン; チン、カー ファイ
第1基板と、第2基板と、第1基板および第2基板の間の中間の液晶層と、第1基板に対向する内面、および、外面を有する第1偏光板と、第2基板に配置されて、第1偏光板のそれと直交する偏光面を有する第2偏光板とを備え、内面および/または外面が、それ自体の対流冷却を可能とするために露出されるように、第1偏光子の内面は第1基板から離れている液晶表示装置。
【選択図】図2
147 デュアル楕円反射体 JP2014530932 2012-09-17 JP6309893B2 2018-04-11 チルダース, ドグ
148 マイクロチャンネル冷却型高熱負荷発光デバイス JP2015528444 2012-08-20 JP6150894B2 2017-06-21 ダーム,ジョナサン,エス.
149 組付けのための構成を備えた光学モジュール JP2015509319 2013-03-21 JP6133403B2 2017-05-24 ミヒャエル パイル; ズザンネ シャット; ハラルト マイヴェーク; マークス ヘルムリング
150 カール耐性を有する乾燥システム JP2016188669 2016-09-27 JP2017065926A 2017-04-06 ディラン エヌ フェルナンド; スチュアート ジェイ ボーランド; ロバート エフ ジェッセン
【課題】ウェブのカーリングに耐えるウェブハンドリングシステムを提供すること。
【解決手段】ウェブハンドリングシステムは、印刷動作の終了の際に順方向及び逆方向に印刷媒体のウェブ120に系合して移動させ、且つ、印刷動作中に順方向の移動を許容するように結合される第1ダンサーローラー305を含む。
【選択図】図3A
151 UV放射源のための熱−光分離 JP2016522325 2014-06-30 JP2016530550A 2016-09-29 オトマル・ズーガー
本発明は、UV放射を適用フィールドにおける基板に印加するための装置に関し、本装置は、ある空間度で可視光及び赤外放射とともにUV放射を放出する放射光源と、UV放射のほとんどを反射し、VIS及びIR放射のほとんどを透過する放射選択性偏向ミラーを含み、偏向ミラーが、互いに対して傾斜した少なくとも2つの平坦な帯状ミラーを含む。
152 時間制御された動作用の紫外線照射装置 JP2015538325 2013-10-22 JP2016505348A 2016-02-25 カルロス・リベイロ; タッソ・カルシュ; リューディガー・シェーファー; マルティン・カスパル
本発明は、紫外線及びW放射線(つまり、可視光及び/又は赤外線)の両方を放出する少なくとも一つの放射源と、45度の度において紫外線を反射してW放射線を透過させる少なくとも一つの波長選択フィルタと、波長選択フィルタによって偏向されなかったW放射線のビーム経路内の伝播方向において光フィルタの下流に位置する赤外線吸収手段と、を備えた照射デバイスに関し、赤外線吸収手段が可視光及び紫外線も吸収するように構成され、照射デバイスは、放射源のビーム経路の中及び外に波長選択フィルタを誘導するための移動手段を備える。
153 紫外線光を発生するランプシステム及び方法 JP2013520758 2011-07-15 JP5859001B2 2016-02-10 ボルスク,ジェームス,エム.; ハーレル,グレグ; マッギー,エドワード,シー.; スミス,ジェームス
154 連続材料のための紫外線硬化装置 JP2011530220 2009-10-01 JP5851837B2 2016-02-03 ブラッセル,ロバート; マックギー,エドワード,シー.; シュミットコンズ,ジェームズ,ダブリュ.
155 連続材料のための紫外線硬化装置 JP2015180409 2015-09-14 JP2016001625A 2016-01-07 ブラッセル,ロバート; マックギー,エドワード,シー.; シュミットコンズ,ジェームズ,ダブリュ.
【課題】広範囲の直径をもった細長い連続した基板に、一般に効率的な照射を行えるような反射鏡を備えた、効率的な硬化システムが望まれる。
【解決手段】プロセスチャンバと、プラズマランプと、マイクロ波発生器と、紫外線伝達導管と、第1楕円反射面を有する第1の反射鏡と、第2楕円反射面を有する第2の反射鏡とを備え、基板に照射される紫外線放射は、プラズマランプから直接照射されるものと、プラズマランプから第1の反射鏡で反射されて照射されるものと、プラズマランプから第2の反射鏡で反射されて照射されるものとを有する紫外線放射硬化システムにより解決する。
【選択図】図2
156 組付けのための構成を備えた光学モジュール JP2015509319 2013-03-21 JP2015522835A 2015-08-06 パイル ミヒャエル; シャット ズザンネ; マイヴェーク ハラルト; ヘルムリング マークス
本発明は、光学モジュールであって、互いに反対側に位置する2つの表面(1a,1b)と1つの縁部(1c)とを有する、確定された形状の基板(1)と、両表面(1a,1b)のうちの少なくとも1つの表面に、該表面を覆うように被着された層(2)と、を有しており、該層(2)は、透明なポリマ材料から成っていて、少なくとも1つの光学素子(3)を有しており、該光学素子(3)を用いて、基板(1)を起点として光学素子(3)を透過する光線が、屈折させられる光学モジュールにおいて、層(2)の組付け領域に、当該光学モジュールの組付け及び/又は調整のための構成(4,5)が設けられており、該構成は、材料均一にかつ層(2)と一体に構成されている。
157 複合ポリマーの製造方法 JP2014556539 2012-11-29 JP2015508114A 2015-03-16 サーノハウス,ジェイソン・エム; サーンストロム,トッド
木材パルプ繊維および熱可塑性ポリマーを含む複合高分子材料の製造方法が提供され、本方法は、混合デバイスの出口面積を、混合デバイスの断面積の40〜60%に減らす工程を含む。使用される木材パルプ繊維は、好ましくは漂白化学木材パルプ繊維である。本方法はさらに、複合ポリマー材料をペレットの形態に変えることを包含する。【選択図】図10
158 塗料の乾燥装置及び塗膜の形成方法 JP2013089646 2013-04-22 JP2014214888A 2014-11-17 TAKAHASHI SEITARO
【課題】赤外線炉の長所を備えた熱風炉による塗料の乾燥装置の提供。【解決手段】熱風炉で発生させた熱風を乾燥室11内に送り込む塗料の乾燥装置であって、電磁波長1.5〜15μmの波長帯の分光放射率が90%以上である電磁波発生物質22を含んだ電磁波発生体20を前記乾燥室11内に装着したことを特徴とする。この塗料の乾燥装置の乾燥室11内に、塗料31を塗布した被塗物30を載置して、該乾燥室11内における加熱と、その加熱により前記電磁波発生体20から発生した電磁波とによって、該塗料31を硬化させる。【選択図】図1
159 Low dielectric constant material cure treatment method JP2013003096 2013-01-11 JP2014135406A 2014-07-24 WASAMOTO MAKOTO; HANIYU SATOYUKI; YABU SHINTARO
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low dielectric constant material cure treatment method which can increase a mechanical strength while maintaining a low dielectric constant performance of a low dielectric constant material by radiating ultraviolet rays to the low dielectric constant material on a semiconductor substrate; and which can inhibit the semiconductor substrate from being overheated due to an influence of heat from a lamp.SOLUTION: In a low dielectric constant material cure treatment method, an ultraviolet light source which is a fluorescent lamp includes a luminous tube in which a gas for discharge containing a xenon gas is included and a pair of electrodes for causing discharge in an internal space of the luminous tube. A dielectric material lies at a border between at least one of the pair of electrodes and the internal space. A phosphor layer containing a fluorescent substance which is excited by light generated from the gas for discharge in the internal space by discharge is formed in the fluorescent lamp. The fluorescent substance radiates ultraviolet rays of a wavelength within a range of 180-300 nm.
160 Uv curing system JP2007070851 2007-03-19 JP5285864B2 2013-09-11 カルロス ロチャ‐アルヴァレス ユアン; ノワク トーマス; アール. デュ ボイス デール; バルージャ サンジーヴ; エー. ヘンドリックソン スコット; ダブリュー. ホー ダスティン; カスズバ アンドレー; ケー. チョー トム; マサド ヒケム; オー. ムクティ ダンカ
Embodiments of the invention relate generally to an ultraviolet (UV) cure chamber for curing a dielectric material disposed on a substrate and to methods of curing dielectric materials using UV radiation. A substrate processing tool according to one embodiment comprises a body defining a substrate processing region; a substrate support adapted to support a substrate within the substrate processing region; an ultraviolet radiation lamp spaced apart from the substrate support, the lamp configured to transmit ultraviolet radiation to a substrate positioned on the substrate support; and a motor operatively coupled to rotate at least one of the ultraviolet radiation lamp or substrate support at least 180 degrees relative to each other. The substrate processing tool may further comprise one or more reflectors adapted to generate a flood pattern of ultraviolet radiation over the substrate that has complementary high and low intensity areas which combine to generate a substantially uniform irradiance pattern if rotated. Other embodiments are also disclosed.
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