清洁基站及清洁系统 |
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| 申请号 | CN202410024200.4 | 申请日 | 2024-01-05 | 公开(公告)号 | CN117958696A | 公开(公告)日 | 2024-05-03 |
| 申请人 | 北京石头世纪科技股份有限公司; | 发明人 | 成盼; 米长; 张亮舟; 刘尚杰; | ||||
| 摘要 | 本公开涉及清洁设备技术领域，具体是关于一种清洁基站及清洁系统，所述清洁基站用于清洗清洁主机，所述清洁主机具有第一清洁构件，所述清洁基站包括：第一清洗模组，所述第一清洗模组包括支座和清洗盘，所述清洗盘容置于所述支座，所述清洗盘背离所述支座的一面上设置有第一清洗部和第二清洗部，所述第一清洗部用于清洗所述第一清洁构件的底面，所述第二清洗部用于清洗所述第一清洁构件的侧面。能够提升清洁基站对清洁主机的清洗效果。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站用于清洗清洁主机，所述清洁主机具有第一清洁构件，所述清洁基站包括： |
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| 说明书全文 | 清洁基站及清洁系统技术领域[0001] 本公开涉及清洁设备技术领域，具体而言，涉及一种清洁基站及清洁系统。 背景技术[0002] 随着技术的发展和进步，诸如扫地机器人等清洁设备的应用日益广泛。清洁基站作为扫地机器人的配套设备，用于对扫地机器人的拖布进行自动清洗，如此能够提高扫地机器人的自动化程度。相关技术中，清洁基站对清洁机器人的拖布的清洗效果较差。 [0004] 本公开的目的在于提供一种清洁基站及清洁系统，进而至少一定程度上提升清洁基站对拖布的清洗效果。 [0005] 根据本公开的一个方面，提供一种清洁基站，所述清洁基站用于清洗清洁主机，所述清洁主机具有第一清洁构件，所述清洁基站包括： [0006] 第一清洗模组，所述第一清洗模组包括支座和清洗盘，所述清洗盘容置于所述支座，所述清洗盘背离所述支座的一面上设置有第一清洗部和第二清洗部，所述第一清洗部用于清洗所述第一清洁构件的底面，所述第二清洗部用于清洗所述第一清洁构件的侧面。 [0007] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘背离所述支座的一侧形成有清洗空间，所述清洗空间用于容置所述第一清洁构件，所述第一清洗部设于所述清洗空间，所述第二清洗部设于所述清洗空间的边缘。 [0008] 根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部包括： [0009] 清洗段，所述清洗段的一端和所述清洗盘连接，且所述位于所述清洗空间的边缘； [0010] 压边，所述压边设于所述清洗段背离所述支座的一端，所述压边用于压紧所述第一清洁构件的顶面。 [0011] 根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部设于所述清洗盘的边缘，所述第二清洗部上形成有弧形清洗面，所述弧形清洗面能够贴合于所述第一清洁构件的侧面，以实现对所述第一清洁构件侧面的清洗。 [0012] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个所述第二清洗部包括： [0013] 主清洗部，所述主清洗部设于所述清洗空间的内边缘； [0014] 辅清洗部，所述辅清洗部设于所述清洗空间的侧边缘； [0015] 其中，所述清洁主机从所述清洗空间的外边缘进入所述清洗空间，所述清洗空间的内边缘为所述清洗空间背离外边缘的一侧，所述清洗空间的侧边缘为所述清洗空间内边缘和外边缘之间的边缘。 [0016] 根据本公开的一实施方式，所述辅清洗部的高度低于所述主清洗部的高度。 [0017] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有烘干孔； [0019] 根据本公开的一实施方式，所述清洁基站中设置有排水通道，所述烘干孔和所述排水通道连通。 [0020] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上还设置有凸出部，所述凸出部和所述烘干孔交错设置。 [0021] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有多个烘干孔列和多个凸出部列，所述烘干孔列和所述凸出部列交替设置，所述烘干孔列包括多个顺序排列的烘干孔，所述凸出部列包括多个顺序排列的凸出部。 [0022] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘和所述支座可拆卸连接。 [0023] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有第一卡接部，所述支座内设置有第二卡接部，所述第一卡接部和所述第二卡接部卡接。 [0024] 根据本公开的一实施方式，所述第一卡接部为卡接柱，所述第二卡接部为卡接孔，所述卡接孔贯穿所述支座的底面。 [0025] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有朝向所述支座的方向延伸的支撑部，响应于所述清洗盘安装至所述支座，所述支撑部抵于所述支座，以使所述清洗盘和所述支座之间形成间隙。 [0026] 根据本公开的一实施方式，所述支座上设置有限位凸起，所述清洗盘上设置有限位通孔，所述限位凸起连接于所述限位通孔。 [0027] 根据本公开的一实施方式，所述限位凸起为中空结构，以使流经所述清洗盘的清洗用水能够通过所述限位凸起和所述限位通孔。 [0028] 根据本公开的一实施方式，所述支座上设置有限位通孔，所述清洗盘上设置有限位凸起，所述限位凸起连接于所述限位通孔。 [0029] 根据本公开的一实施方式，所述清洁基站还包括： [0030] 第二清洗模组，所述第二清洗模组用于清洗所述清洁主机的第二清洁构件，所述清洁基站上设置有用于容置清洁主机的容置腔，所述容置腔具有开口，所述第二清洗模组设于所述容置腔内，或者所述第二清洗模组至少部分设于所述容置腔外。 [0031] 根据本公开的一实施方式，所述第二清洗模组包括： [0032] 清洗槽； [0033] 清洗件，所述清洗件在工作时可在所述清洗槽往复运动，以清洗所述第二清洁构件，所述清洗盘相对于所述支座固定，所述第一清洁构件相对于所述清洗盘转动。 [0034] 根据本公开的一实施方式，所述支座和所述清洗槽流体连通，并且所述支座底部朝向所述清洗槽倾斜，以使水能够从所述支座流向所述清洗槽。 [0035] 根据本公开的第二个方面，提供一种清洁基站，用于清洗清洁主机，所述清洁主机包括第一清洁构件和第二清洁构件，所述清洁基站包括： [0036] 第一清洗模组，所述第一清洁模组包括清洗盘，所述清洗盘用于清洗所述第一清洁构件； [0037] 第二清洗模组，所述第二清洗模组包括清洗槽和清洗件，所述清洗件可在所述清洗槽运动； [0038] 其中，在对所述第一清洁构件进行清洁时，所述清洗盘固定，所述第一清洁构件相对于所述清洗盘转动，所述清洗件在所述清洗槽往复运动，以清洗所述第二清洁构件。 [0039] 根据本公开的一实施方式，所述第一清洗模组包括支座和清洗盘，所述清洗盘容置于所述支座，所述清洗盘背离所述支座的一面上设置有第一清洗部和第二清洗部，所述第一清洗部用于清洗所述第一清洁构件的底面，所述第二清洗部用于清洗所述第一清洁构件的侧面。 [0040] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘背离所述支座的一侧形成有清洗空间，所述清洗空间用于容置所述第一清洁构件，所述第一清洗部设于所述清洗空间，所述第二清洗部设于所述清洗空间的边缘。 [0041] 根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部包括： [0042] 清洗段，所述清洗段的一端和所述清洗盘连接，且所述位于所述清洗空间的边缘； [0043] 压边，所述压边设于所述清洗段背离所述支座的一端，所述压边用于压紧所述第一清洁构件的顶面。 [0044] 根据本公开的一实施方式，所述第二清洗部设于所述清洗盘的边缘，所述第二清洗部上形成有弧形清洗面，所述弧形清洗面能够贴合于所述第一清洁构件的侧面，以实现对所述第一清洁构件侧面的清洗。 [0045] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个所述第二清洗部包括： [0046] 主清洗部，所述主清洗部设于所述清洗空间的内边缘； [0047] 辅清洗部，所述辅清洗部设于所述清洗空间的侧边缘； [0048] 其中，所述清洁主机从所述清洗空间的外边缘进入所述清洗空间，所述清洗空间的内边缘为所述清洗空间背离外边缘的一侧，所述清洗空间的侧边缘为所述清洗空间内边缘和外边缘之间的边缘。 [0049] 根据本公开的一实施方式，所述辅清洗部的高度低于所述主清洗部的高度。 [0050] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有烘干孔； [0051] 所述清洁基站内设置有热风组件，所述热风组件通过烘干风道和所述支座连通，以将热风传输至所述支座。 [0052] 根据本公开的一实施方式，所述清洁基站中设置有排水通道，所述烘干孔和所述排水通道连通。 [0053] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上还设置有凸出部，所述凸出部和所述烘干孔交错设置。 [0054] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有多个烘干孔列和多个凸出部列，所述烘干孔列和所述凸出部列交替设置，所述烘干孔列包括多个顺序排列的烘干孔，所述凸出部列包括多个顺序排列的凸出部。 [0055] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘和所述支座可拆卸连接。 [0056] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有第一卡接部，所述支座内设置有第二卡接部，所述第一卡接部和所述第二卡接部卡接。 [0057] 根据本公开的一实施方式，所述第一卡接部为卡接柱，所述第二卡接部为卡接孔，所述卡接孔贯穿所述支座的底面。 [0058] 根据本公开的一实施方式，所述清洗盘上设置有朝向所述支座的方向延伸的支撑部，响应于所述清洗盘安装至所述支座，所述支撑部抵于所述支座，以使所述清洗盘和所述支座之间形成间隙。 [0059] 根据本公开的一实施方式，所述支座上设置有限位凸起，所述清洗盘上设置有限位通孔，所述限位凸起连接于所述限位通孔。 [0060] 根据本公开的一实施方式，所述限位凸起为中空结构，以使流经所述清洗盘的清洗用水能够通过所述限位凸起和所述限位通孔。 [0061] 根据本公开的一实施方式，所述支座上设置有限位通孔，所述清洗盘上设置有限位凸起，所述限位凸起连接于所述限位通孔。 [0062] 根据本公开的一实施方式，所述清洁基站上设置有用于容置清洁主机的容置腔，所述容置腔具有开口，所述第二清洗模组设于所述容置腔内，或者所述第二清洗模组至少部分设于所述容置腔外。 [0063] 根据本公开的一实施方式，所述支座和所述清洗槽流体连通，并且所述支座底部朝向所述清洗槽倾斜，以使水能够从所述支座流向所述清洗槽。 [0064] 根据本公开的第三个方面，提供一种清洁系统，所述清洁系统包括： [0065] 上述的清洁基站； [0066] 清洁主机，所述清洁主机包括第一清洁构件，所述第一清洁构件为边拖，所述第一清洗模组用于清洗所述边拖。 [0067] 本公开实施例提供的清洁基站，包括第一清洗模组，边拖清洗模组包括支座和清洗盘，清洗盘设于支座的顶部，清洗盘背离支座的一面上设置有第一清洗部和第二清洗部，第一清洗部用于清洗第一清洁构件的底面，第二清洗部用于清洗第二清洁构件的侧面，通过第一清洗模组实现了对第一清洁构件的全方位清洗，提升了清洁基站的清洁效果。 [0069] 此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 [0070] 图1为本公开示例性实施例提供的一种清洁基站的结构示意图； [0071] 图2为本公开示例性实施例提供的一种坡道板的结构示意图； [0072] 图3为本公开示例性实施例提供的一种边拖清洗模组的结构示意图； [0073] 图4为本公开示例性实施例提供的一种边拖清洗模组的爆炸图； [0074] 图5为本公开示例性实施例提供的一种清洁主机的结构示意图； [0075] 图6为本公开示例性实施例提供的一种清洁系统的结构示意图。 [0076] 附图标记说明： [0077] 100、清洁基站；10、基站主体；101、容置腔；102、阻挡部，20、坡道板；21、凸起部；211、抬升段；212、下降段；22、凸边；30、第一清洗模组；31、支座；311、第二卡接部；312、限位凸起；32、清洗盘；321、第一清洗部；322、第二清洗部；3221、主清洗部；3222、辅清洗部；323、第一卡接部；324、烘干孔；325、限位通孔；326、凸出部；40、第二清洗模组；200、清洁主机； 210、第一清洁构件。 具体实施方式[0078] 下面将结合本公开示例实施例中的附图，对本公开示例实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。本文中的描述的示例实施例仅仅是用于说明的目的，而并非用于限制本公开的保护范围，因此应当理解，在不脱离本公开的保护范围的情况下，可以对示例实施例进行各种修改和改变。 [0079] 在本公开的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“第一”、“第二”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”是指两个或两个以上；术语“和/或”包括一个或多个相关联列出项目的任何组合和所有组合。特别地，提到“该/所述”对象或“一个”对象同样旨在表示可能的多个此类对象中的一个。 [0080] 除非另有规定或说明，术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，或电连接，或信号连接；“连接”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。 [0081] 进一步地，本公开的描述中，需要理解的是，本公开的示例实施例中所描述的“上”、“下”、“内”、“外”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本公开的示例实施例的限定。还需要理解的是，在上下文中，当提到一个元件或特征连接在另外元件(一个或多个)“上”、“下”、或者“内”、“外”时，其不仅能够直接连接在另外(一个或多个)元件“上”、“下”或者“内”、“外”，也可以通过中间元件间接连接在另外(一个或多个)元件“上”、“下”或者“内”、“外”。 [0082] 本公开示例性实施例首先提供一种清洁基站100，如图1和图6所示，清洁基站100用于清洗清洁主机200，清洁主机200具有第一清洁构件210，清洁基站100包括第一清洗模组30，第一清洗模组30包括支座31和清洗盘，清洗盘容置于支座31，清洗盘背离支座31的一面上设置有第一清洗部321和第二清洗部322，第一清洗部321用于清洗第一清洁构件210的底面，第二清洗部322用于清洗第一清洁构件210的侧面。 [0083] 本公开实施例提供的清洁基站100，包括第一清洗模组30，第一清洗模组30包括支座31和清洗盘，清洗盘容置于支座31，清洗盘背离支座31的一面上设置有第一清洗部321和第二清洗部322，第一清洗部321用于清洗第一清洁构件210的底面，第二清洗部322用于清洗第一清洁构件210的侧面，通过第一清洗模组30实现了对第一清洁构件210的全方位清洗，提升了清洁基站100的清洁效果。 [0084] 进一步的，本公开实施例提供的清洁基站100还可以包括基站主体10、坡道板20和第二清洗模组，坡道板20和基站主体10连接，第一清洗模组30设于坡道板20。第二清洗模组设于基站主体10，第二清洗模组用于清洗清洁主机200的主拖。 [0085] 下面将对本公开实施例提供的清洁基站100进行详细说明： [0086] 清洁基站100用于清洗清洁主机200，清洁主机200上可以设置有第一清洁构件210和第二清洁构件。第一清洁构件210和第二清洁构件分别设于清洁主机200的底部。比如，第一清洁构件210可以是边拖，第二清洁构件可以是主拖。主拖在工作时，对于待清洁区域进行扫拖，第一清洁构件210位于清洁主机200的边缘，并且第一清洁构件210至少部分伸出清洁主机200的边缘，第一清洁构件210用于清扫墙角等区域。 [0087] 基站主体10上设置有用于容置清洁主机200的容置腔101，容置腔101具有开口，坡道板20设于基站主体10设置开口的一侧，开口的底部设置有阻挡部102，阻挡部102高于坡道板20。清洁主机200从容置腔101开口的一侧进入基站主体10，清洁主机200可以部分位于容置腔101内，部分位于容置腔101外。当然在实际应用中，清洁主机200也可以全部位于容置腔101内，本公开实施例并不以此为限。 [0088] 阻挡部102位于基站主体10的底部，阻挡部102分隔坡道板20和基站主体10，一方面阻挡垃圾等异物进入基站主体10，另一方面也用于提升基站主体10的强度。阻挡部102高于坡道板20，因此在清洁主机200上桩的过程中，阻挡部102可能会阻碍清洁主机200上装，通过凸起部21抬高清洁主机200，也能够避免阻挡部102阻碍清洁主机200上桩。 [0089] 在基站主体10内还可以设置有供水模组、集尘模组及烘干模组。供水模组可以包括水箱、供水管路和水泵，水箱用于存储清洗用水，通过供水管路和水泵将清洗用水传输至第二清洗模组40及第一清洗模组30。当然在实际应用中，也可以通过外部水源向第一清洗模组30及第二清洗模组40供水。集尘模组用于将清洁主机200所收集的垃圾及灰尘收集至清洁基站100。烘干模组用于提供热风，在第一清洁构件210及主拖清洗完毕后，对第一清洁构件210和主拖进行烘干。 [0090] 基站主体10可以包括防护壳，防护壳用于形成清洁基站100的轮廓。供水模组、集尘模组和烘干模组设于防护壳内，防护壳保护设置在其内部的器件。示例的，防护壳可以呈长方体或者近似长方体的结构，防护壳可以包括相对设置的顶板和底板，以及位于顶板和底板之间的多个侧板，容置腔101的开口设于一个侧板上。当然在实际应用中，防护壳也可以呈圆柱结构等，本公开实施例并不以此为限。 [0091] 第一清洗模组30和第二清洗模组40设于基站主体10，第一清洗模组30位于基站主体10设置开口的边缘处。第二清洗模组40可以设于基站主体10的容置腔101内，或者，第二清洗模组40部分位于容置腔101内，或者第二清洗模组40也可以设于容置腔101之外。 [0092] 坡道板20和基站主体10连接，坡道板20设于基站主体10设置开口的一侧。坡道板20的底面和基站主体10的底面平齐，坡道板20的顶面为倾斜面，坡道板20的厚度沿靠近基站主体10的方向递增。在实际应用中，坡道板20和基站主体10的底板可以是一体成型，或者坡道板20和基站主体10的底板为分体成型结构。当坡道板20和基站主体10为分体成型结构时，坡道板20和基站主体10可以是可拆卸连接，比如，卡接或螺栓连接。当然在实际应用中，坡道板20和基站主体10可以通过、粘接、铆接或者焊接等方式连接，本公开实施例并不以此为限。 [0093] 坡道板20的顶面为斜面，也即是坡道板20在清洁主机200上桩(回归至清洁基站100)时起到过渡作用，从使得清洁主机200能够平滑的上桩，减小上桩阻力，提升上桩成功率。 [0094] 坡道板20上具有主机行走区，主机行走区位于第一清洗模组30背离基站主体10的一侧，清洁主机200在沿着主机行走区的延伸方向进入清洁基站100或者离开清洁基站100时，清洁主机200的与主机行走区相接触。主机行走区设置有凸起部21，凸起部21用于用于在清洁主机200进入清洁基站100的过程中抬升清洁主机200的高度以使第一清洁构件210的至少部分越过第一清洗模组30的上方。通过凸起部21抬升清洁主机200，提升了清洁主机200和坡道板20的距离，从而避免清洁主机200上桩时易和凸起的第一清洗模组30干涉的问题。 [0095] 如图2所示，凸起部21包括抬升段211和下降段212，抬升段211的高度沿第一方向递增，第一方向为清洁主机200进入清洁基站100的行走方向；下降段212位于抬升段211靠近基站主体10的一侧，并且下降段212的高度沿第一方向递减。行走轮在抬升段211前进时，抬升段211的高度递增，清洁主机200逐渐被抬高，此时，第一清洁构件210至少部分位于第一清洗模组30的上方。行走轮经过抬升段211后进入下降段212，下降段212的高度逐渐递减，此时，第一清洁构件210向第一清洗模组30靠近，最终第一清洁构件210和第一清洗模组30接触。 [0096] 其中，在抬升段211中可以包括多个子抬升段，多个自抬升段211的曲率不同。比如，抬升段211可以包括第一子抬升段、第二子抬升段和第三子抬升段，第一子抬升段、第二子抬升段和第三子抬升段沿靠近基站主体10的方向依次排布，第一子抬升段的曲率大于第二子抬升段的曲率，第三子抬升段的曲率大于第二子抬升段的曲率。通过曲率大的的第一子抬升段和第三子抬升段能够快速抬升清洁主机200，通过曲率小的第二子抬升段能够对清洁主机200进行缓冲，避免清洁主机200长期行驶在大曲率段而导致上桩困难的问题。 [0097] 可以理解的是，在一些实施方式中，凸起部21还可以包括过渡段，过渡段设于抬升段211和下降段212之间，且过渡段分别连接抬升段211和下降段212。过渡段为平直段，也即是过渡段的表面和坡道板20的底面平行。 [0098] 凸起部21的边缘设置有凸边22，且凸边向凸起部21背离坡道板20的方向凸起。示例的，在凸起部21沿第一方向的两边上设置有凸边22，第一方向为清洁主机200上桩时的方向(靠近基站主体10的方向)。凸边22用于支撑清洁主机200的主刷组件，避免主刷组件和凸起部21接触而影响清洁主机200上桩。凸边22的顶面高于凸起部21的顶面，比如，凸边22的顶面和凸起部21的顶面的高度差为1mm、1.5mm、2mm或3mm等。 [0099] 凸起部21的最大高度被配置为当行走轮位于凸起部21的最高点时，清洁主机200高于第一清洗模组30的高度。也即是，清洁主机200的底面的高于第一清洗模组30顶面，且第一清洁构件210的底面高于第一清洗模组30的顶面。进而避免了清机主机上桩时，清洁主机200易被第一清洗模组30阻挡的问题。 [0100] 坡道板20上具有间隔设置的第一主机行走区和第二主机行走区，第一主机行走区设置有第一凸起，所述第二行走区设置有第二凸起主机行走区设置有第一凸起部和第二凸起部，第一凸起部和第二凸起部之间具有预设间隔。第一凸起部朝向第二凸起部的边缘设置有第一凸边，第二凸起部朝向第一凸起部的边缘设置有第二凸边。 [0101] 其中，第一凸起部和第二凸起部分别对应清洁主机200的行走轮，在清洁主机200上桩时，第一凸起部和第二凸起部分别支撑清洁主机200一侧的行走轮。也即是，第一凸起部和第二凸起部分别布置于清洁主机200行走轮的行走轨迹上。 [0102] 第一凸起部和第二凸起部之间具有预设间隔，第一凸起部和第二凸起部之间的预设间隔的宽度大于主刷组件的长度。第一凸起部和第二凸起部之间的预设间隔是指第一凸起部靠近第二凸起部的边缘到第二凸起部靠近第一凸起部的边缘的距离。一方面，两个凸起部21之间的区域没有行走轮，因此在两个凸起部21之间设置间隔区能够减少用料，节约成本。另一方面，由于主刷组件凸出于清洁主机200的底面，因此第一清洗部321和第二清洗部322之间的间隔能够允许主刷组件通过，避免主刷组件和凸起部21摩擦而影响清洁主机200上桩。 [0103] 需要说明的是，本公开实施例中第一凸起部和第二凸起部的间隔实现了对主刷组件的避让，第一凸起部和第二凸起部之间的距离大于主刷组件的长度。但是在实际应用中，清洁主机200上桩时的轨迹可能和理想轨迹存在误差，此时，主刷组件部分可能会搭在凸起部21之上，而凸起部21的摩擦力较大，从而会影响清洁主机200的上桩。通过设置在凸起部21边缘的凸边22能够避免主刷组件和凸起部21接触，从而便于清洁主机200的上桩。 [0104] 在本公开实施例中为了保证清洁主机200能够上桩，可以在凸起部21的表面设置防滑结构。防滑结构可以是凸起部21表面的纹理结构，比如，防滑结构可以是凸起部21表面平行设置的多个防滑凸筋，防滑凸筋的延伸方向和清洁主机200的前进方向垂直。或者，防滑结构也可以是凸起部21表面的十字沟槽、菱形沟槽等。 [0105] 当凸起部21的表面设置有防滑结构时，凸起部21上的凸边22，高于防滑结构。比如，防滑结构包括防滑凸筋，防滑凸筋在凸边22侧面上的投影位于凸边22内。能够防止防滑凸筋和主刷组件摩擦，而导致清洁主机上下桩困难的问题。 [0106] 第一清洗模组30设于基站主体，且第一清洗模组30凸出于坡道板20的顶面。第一清洁构件210设置于清洁主机200的边缘，为了和第一清洁构件210对位，第一清洗模组30位于基站主体10靠近容置腔101开口的部位。第一清洗模组30至少部分位于基站主体10之外，并嵌于坡道板20上的缺口处。当清洁主机200上桩完成后，第一清洁构件210位于容置腔101之外，且第一清洁构件210和第一清洗模组30对正。 [0107] 如图3和图4所示，第一清洗模组30包括支座31和清洗盘32，清洗盘32设于支座31的顶部，清洗盘32背离支座31的一面上设置有第一清洗部321和第二清洗部322，第一清洗部321凸出于清洗盘的表面，第二清洗部322凸出于清洗盘32的表面，第一清洗部321用于清洗第一清洁构件210的底面，第二清洗部322用于清洗第一清洁构件210的侧面。 [0108] 清洗盘32可以为圆盘，第一清洗部321和第二清洗部322设于圆盘的顶面，并且第一清洗部321和第二清洗部322和清洗盘32连接。第一清洗部321和清洗盘32可以是一体成型结构，或者第一清洗部321和清洗盘32可以是分体成型结构。第二清洗部322和清洗盘32可以是一体成型结构，或者第二清洗部322和清洗盘32可以是分体成型结构。当第一清洗部321和第二清洗部322与清洗盘32为分体成型结构时，第一清洗部321和清洗32盘的连接方式可以是粘接、焊接、螺栓连接、卡接或者铆接等方式。 [0109] 清洗盘32背离支座31的一侧形成有清洗空间，清洗空间用于容置第一清洁构件210，第一清洗部321设于清洗空间，第二清洗部322设于清洗空间的边缘。 [0110] 第一清洗部321具有清洗第一清洁构件210底面的功能的同时还具有将第一清洁构件210上的污水刮除的作用。第一清洗部321背离支座31的一面和清洗盘倾斜设置，以使第一清洗部321背离支座31的一面和第一清洁构件210的顶面不平行。通过将第一清洗部321的顶面倾斜设置，清洗第一清洁构件210的底面时，通过该倾斜面能够将从第一清洁构件210上刮下的污水导流至支座31。 [0111] 示例的，当第一清洁构件210为圆形结构时，第一清洁构件210和第一清洗模组30对位后，第一清洗部321在第一清洁构件210上的投影覆盖第一清洁构件210的圆心。进一步的，第一清洗部321的顶面中高的边缘过第一清洁构件210的圆心，能够实现对第一清洁构件210底面无死角的清洗。 [0112] 在实际应用中第一清洁构件210可以包括拖盘和拖布，拖布包覆拖盘的底面、侧面和部分的顶面。在拖地过程中拖布的底面、侧面和顶面均会被污染，因此在清洗时，需要对拖布的底面、侧面和顶面进行清洗。为了实现对拖布的全面清洗，第二清洗部322设于清洗盘的边缘，第二清洗部322可以包括清洗段和压边，清洗段和清洗盘连接，且清洗段位于清洗空间的边缘，压边位于清洗段背离清洗盘的一端，压边用于压紧第一清洁构件210的顶面。清洗段用于清洗第一清洁构件210的侧面，压边从清洗段向内延伸，当第一清洁构件210位于第一清洁构件210清洗架上时压边和第一清洁构件210的顶面接触，实现对第一清洁构件210顶面的清洗和压紧。 [0113] 示例的，第二清洗部322设于清洗盘32的边缘，第二清洗部322上形成有弧形清洗面，清洗面能够贴合于第一清洁构件210的侧面，以实现对第一清洁构件210的清洗。弧形清洗面设于第二清洗部322的内侧面上，第二清洗部322的内侧面为第二清洗部322靠近清洗盘中轴的一面。当清洗盘上设置有多个第二清洗部322时，多个第二清洗部322沿清洗盘的边缘分布。 [0114] 清洗盘上设置有多个第二清洗部，多个第二清洗部包括主清洗部3221和辅清洗部3222，主清洗部3221设于清洗空间的内边缘；辅清洗部3222设于清洗空间的侧边缘；其中，清洁主机200从清洗空间的外边缘进入清洗空间，清洗空间的内边缘为清洗空间背离外边缘的一侧，清洗空间的侧边缘为清洗空间内边缘和外边缘之间的边缘。比如，当清洗盘32为圆盘时，清洗盘32沿清洁主机200上桩方向的直径的两端分别为内边缘和外边缘。 [0115] 清洁主机200在上桩时，理想情况下清洁主机200严格按照预设轨迹运动，此时，第一清洁构件210和主清洗部3221接触，通过主清洗部3221对第一清洁构件210的侧面进行清洗。但在实际应用中，由于定位误差等原因，清洁主机200可能会偏离理想位置，此时，第一清洁构件210可能会无法接触到主清洗部3221，通过在侧边缘设置的辅清洗部3222能够保证在该种情况下对第一清洁构件210侧面的清洗。并且辅清洗部3222能够在清洗过程中对第一清洁构件210进行限位，避免清洗时由于振动或者旋转等导致第一清洁构件210偏离清洗空间。 [0116] 辅清洗部3222的高度低于主清洗部3221的高度，辅清洗部3222位于主清洗部3221的前侧，而在清洁主机200上桩时，辅清洗部3222易和清洁主机100的底面(第一清洁构件的底面)发生刮擦，因此将辅清洗部3222的高度设置为低于主清洗部3221的高度，能够避免辅清洗部3222刮擦清洁主机的底部，有利于清洁主机200上桩。 [0117] 清洗盘32上还可以设置有烘干孔324，清洁基站100内设置有热风组件，热风组件通过烘干风道和支座连通，以将热风传输至所述支座。清洗盘上的烘干孔324用于使热风通过，以对第一清洁构件210进行烘干。清洁基站100中设置有排水通道，烘干孔324和排水通道连通。也即是，烘干孔还起到排水的作用，如此能够节约清洗盘32上的空间。 [0118] 清洗盘32上还设置有凸出部326(比如，凸点或者凸筋)，凸出部326和烘干孔324交错设置。通过凸出部326能够提升清洗效果，并快速对第一清洁构件210进行脱水。 [0119] 示例的，清洗盘32上设置有多个烘干孔列和多个凸出部列，烘干孔列和所述凸出部列交替设置，烘干孔列包括多个顺序排列的烘干孔324，凸出部列包括多个顺序排列的凸出部326。 [0120] 清洗盘上还可以设置有限位通孔325，限位通孔325一方面用于对清洗盘进行限位，限位通孔325另一方面用于使清洗水流通过清洗盘，以对第一清洁构件210进行清洗。 [0121] 支座31呈中空结构，比如，支座31可以为中空的圆柱结构。支座31内可以设置有限位凸起312，限位凸起312和清洗盘上的限位通孔325配合，并且限位凸起312内设置有清洗管路，清洗管路用于提供第一清洁构件210清洗用水。 [0122] 基站主体10内设置有烘干模组，支座31和基站主体10连通，形成热风通道，以将热风传输至烘干孔324。支座31上设置有过风孔，过风孔和基站主体10的热风通道连通，烘干模组所产生的热风经过热风通道进入支座31内的空腔，并经过清洗盘中的烘干孔324对第一清洁构件210进行烘干。清洗管路和基站主体10内的供水模组连接，供水模组中的清洗用水通过清洗管路被传输至清洗盘。 [0123] 可以理解的是，在另外一些实施例中，支座31上设置有限位通孔，清洗盘32上设置有限位凸起，限位凸起连接于限位通孔，本公开实施例对此不做具体限定。 [0124] 在一可行的实施方式中，清洗盘和支座31可拆卸连接。比如，清洗盘和支座31卡接，清洗盘上设置有第一卡接部323，支座31内设置有第二卡接部311，第一卡接部323和第二卡接部311卡接。 [0125] 其中，第一卡接部323为卡接柱，第二卡接部311为设置于支座31上的卡接孔，卡接柱伸入卡接孔内。在卡接孔的内壁上设置有凸点，在卡接柱上设置有弹性卡接段，当第一卡接部323和第二卡接部311连接时，卡接孔内的凸点至少部分嵌于弹性卡接段，实现清洗盘和支座31的轴向定位。进一步的，为了避免卡接孔内积水，卡接孔可以贯穿支座31的底面。并且卡接孔贯穿支座31的底面能够增加排水路径，有利于快速排水。 [0126] 支座31上的限位凸起312和卡接柱平行设置，通过限位凸起312防呆，一方面便于安装定位，另一方面实现清洗盘32的周向定位。限位凸起312内为中空结构，该中空结构形成清洗管路，通过限位凸起312实现了限位和供水两种功能，有效地节约了空间和成本。 [0127] 可以理解的是，在实际应用中，清洗盘32和支座31也可以是固定连接，比如，清洗盘32和支座31为一体成型结构。或者，清洗盘和支座31可以是粘接或者焊接等方式连接，本公开实施例并不以此为限。 [0128] 清洗盘和支座31之间可以具有间隙，以便于排出污水。示例的，清洗盘32上设置有朝向支座的方向延伸的支撑部，响应于清洗盘32安装至支座31，支撑部抵于支座31，以使清洗盘和支座31之间形成间隙。 [0129] 本公开实施例中，当清洗第一清洁构件210时，第一清洁构件210位于第一清洗模组30的上方，第一清洁构件210转动，基站主体10向第一清洗模组30供水，通过限位通孔325将水喷射至第一清洁构件210，第一清洁构件210转动时通过第一清洗部321对第一清洁构件210的底面进行清洗，通过第二清洗部322对第一清洁构件210的侧面进行清洗。清洗完成后，通过烘干孔324将热风传输至第一清洁构件210，对第一清洁构件210进行烘干。 [0130] 第二清洗模组40设于容置腔101内，第二清洗模组40用于清洗清洁主机200的第二清洁构件(比如，主拖)。清洁基站100上设置有用于容置清洁主机200的容置腔101，容置腔101具有开口，第二清洗模组40设于容置腔101内，或者第二清洗模组40至少部分设于容置腔101外。通过将第二清洗模组40至少部分设于所述容置腔101，能够减小清洁基站的宽度，有利于清洁基站的小型化。 [0131] 在清洁主机200中，主拖的面积大于边拖面积，主拖在清洁过程中其主要作用，边拖用于清洁主拖无法清扫到的边角区域。 [0132] 第二清洗模组40包括清洗槽和清洗件，清洗件在工作时可在清洗槽内往复运动，以清洗第二清洁构件，清洗盘相对于支座31固定，第一清洁构件210相对于清洗盘32转动。 [0133] 其中，清洗槽内设置有沿第二方向的导向槽，第二方向和第一方向垂直。清洗件和驱动件连接，驱动件驱动清洗件沿导向槽往复运动，从而实现对第一清洁构件的清洗。 [0134] 支座31和清洗槽流体连通，并且支座31底部朝向清洗槽倾斜，以使水能够从支座流向清洗槽。实现了第一清洗模组30和第二清洗模组40共用排水通道，节约空间和成本。 [0135] 值得注意的是，在本公开实施例中清洁基站100用于清洗清洁主机200，但清洁基站100的作用并不局限于清洗清洁主机200，清洁基站100还可以用于清洁主机200的集尘和充电等。 [0136] 本公开实施例提供的清洁基站100，包括第一清洗模组30，第一清洗模组30包括支座31和清洗盘，清洗盘设于支座31的顶部，清洗盘背离支座31的一面上设置有第一清洗部321和第二清洗部322，第一清洗部321用于清洗第一清洁构件210的底面，第二清洗部322用于清洗第一清洁构件210的侧面，通过第一清洗模组30实现了对第一清洁构件210的全方位清洗，提升了清洁基站100的清洁效果。 [0137] 本公开示例性实施例还提供另一种清洁基站，用于清洗清洁主机，清洁主机包括第一清洁构件210和第二清洁构件，清洁基站包括：第一清洗模组30和第二清洗模组40，第一清洁模组30包括清洗盘32，清洗盘用于清洗第一清洁构件210；第二清洗模组40包括清洗槽和清洗件，清洗件可在清洗槽内运动；其中，在对第一清洁构件210进行清洁时，清洗盘32固定，第一清洁构件210相对于清洗盘32转动，清洗件在清洗槽往复运动，以清洗第二清洁构件。 [0138] 本公开实施例提供的清洁基站，包括第一清洗模组30和第二清洗模组40，第一清洁模组包括清洗盘32，清洗盘32用于清洗第一清洁构件210，第二清洗模组40包括清洗槽和清洗件，清洗件和清洗槽滑动连，在清洁基站工作时，清洗盘32固定，第一清洁构件210相对于清洗盘32转动，清洗件在清洗槽往复运动，以清洗第二清洁构件，结合了旋转清洗和往复式清洗，提升了清洗能力，并提高了清洁基站的集成能力。 [0139] 需要说明的是，本公开实施例中的第一清洗模组30和第二清洗模组40，以及与之配合的基站主体10的的具体结构已在上面的实施例中进行了详细说明，在此不复赘述。 [0140] 本公开示例性实施例还提供一种清洁系统，清洁系统包括清洁基站100和清洁主机200，清洁主机200包括第一清洁构件210，第一清洁构件210为边拖，第一清洗模组30用于清洗边拖。第一清洗模组30用于清洗第一清洁构件210。清洁基站100包括第一清洗模组30，第一清洗模组30包括支座31和清洗盘，清洗盘设于支座31的顶部，清洗盘背离支座31的一面上设置有第一清洗部321和第二清洗部322，第一清洗部321用于清洗第一清洁构件210的底面，第二清洗部322用于清洗第一清洁构件210的侧面。 [0141] 本公开实施例提供的清洁系统包括清洁基站100，在清洁基站100中第一清洗模组30包括支座31和清洗盘，清洗盘设于支座31的顶部，清洗盘背离支座31的一面上设置有第一清洗部321和第二清洗部322，第一清洗部321用于清洗第一清洁构件210的底面，第二清洗部322用于清洗第一清洁构件210的侧面，通过第一清洗模组30实现了对第一清洁构件 210的全方位清洗，提升了清洁基站100的清洁效果。 [0142] 进一步的，清洁主机200还可以包括主体部和主刷组件，行走轮和第一清洁构件210设于主体部的底部；主刷组件设于主体部，且主刷组件至少部分凸出于主体部的底面； 其中，坡道板20上设置有第一凸起部和第二凸起部，第一凸起部和第二凸起部之间具有预设间隔，在清洁主机200进入清洁基站100的过程中，主刷组件位于第一凸起部和第二凸起部之间。 [0143] 示例的，如图5所示，清洁主机200可以是清洁机器人，清洁机器人还可以包括壳体、收集组件、行走组件、拖地组件和控制组件等。主刷组件、收集组件、行走组件和控制组件安装于壳体，收集组件用于收集清扫物，行走组件用于驱动清洁机器人运动，拖地组件用于拖地，控制组件用于检测和控制清洁机器人工作。 [0144] 壳体用于形成清洁主机200的外轮廓，比如，壳体呈圆柱状。拖地组件包括第一清洁构件210和第二清洁构件，第一清洁构件210设于壳体的底部，并且第一清洁构件210部分超出于壳体的侧面，第二清洁构件安装于壳体的底面。主刷组件设于壳体的底面，主刷组件用于将垃圾和灰尘等扫入清洁主机200内，主刷组件至少部分凸出于壳体的底面。 [0145] 壳体可以包括顶板、底板和侧板，顶板和底板相对设置，侧板连接顶板和底板，并在顶板和底板之间围成容置腔101。在清洁机器人工作时，底板朝向底面，行走组件、拖地组件和主刷组件设于底板，收集组件可以设于壳体内的容置腔101内，控制组件可以设于顶板或者侧板。 [0146] 收集组件可以包括集尘盒和吸尘部，集尘盒设于容置腔101内，集尘盒用于收集清扫物，在底板上可以开设有开口，该开口和集尘盒连通，清扫物通过底板上的开口进入集尘盒。吸尘部和集尘盒连通，吸尘部用于将清扫物吸入集尘盒。在集尘盒和吸尘部之间可以设置有过滤网，该过滤网用于防止异物进入吸尘部。 [0147] 行走组件可以包括转向轮和从动轮等，转向轮安装于底板，转向轮用于带动清洁机器人运动，并控制清洁机器人的运动方向。从动轮安装于底板，从动轮用于减少清洁机器人和地面的摩擦力。当然在实际应用中，行走组件也可以是其他形式，比如，行走组件可以是履带式等，本公开实施例并不以此为限。 [0148] 控制组件可以包括控制模块和检测模块，检测模块可以包括雷达、摄像头、速度传感器、光电传感器、陀螺仪和接触传感器等，通过检测模块检测环境场景和清洁机器人的自身状态。控制模块和检测模块，控制模块用于根据检测模块检测到的信号，控制清洁机器人。 [0149] 进一步的，控制组件还可以包括通信模块，通信模块和控制模块连接，通信模块用于连接网络设备或者控制终端等。通信模块可以包括WiFi模块、蓝牙模块、红外通信模块或者近场通信模块等。 [0150] 本公开实施例提供的清洁系统包括清洁基站100，在清洁基站100中第一清洗模组30包括支座31和清洗盘，清洗盘设于支座31的顶部，清洗盘背离支座31的一面上设置有第一清洗部321和第二清洗部322，第一清洗部321用于清洗第一清洁构件210的底面，第二清洗部322用于清洗第一清洁构件210的侧面，通过第一清洗模组30实现了对第一清洁构件 210的全方位清洗，提升了清洁基站100的清洁效果。 |
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