1.显示装置，包括：
衬底；
晶体管，在所述衬底上；
像素电极，电连接至所述晶体管；
像素限定层，在所述像素电极上并且具有与所述像素电极重叠的第一开口；
发射层，在所述像素电极上；
公共电极，在所述像素限定层和所述发射层上；
封装层，在所述公共电极上；
光提取图案，在所述封装层上并且具有第一折射率；以及
反射控制层，覆盖所述光提取图案并且具有与所述第一折射率不同的第二折射率。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述反射控制层接触所述光提取图案。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述光提取图案具有网格形状或晶格形状。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中：
所述光提取图案具有梯形的剖面形状。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述光提取图案包括微透镜阵列。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述第二折射率大于所述第一折射率。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述第二折射率小于所述第一折射率。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述反射控制层包括四氮杂卟啉。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述反射控制层具有与所述第一开口重叠的第二开口。
10.根据权利要求9所述的显示装置，还包括至少在所述第二开口中并且具有第三折射率的平坦化层。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其中：
所述第三折射率与所述第二折射率相同。
12.根据权利要求10所述的显示装置，其中：
所述第三折射率大于所述第二折射率。
13.根据权利要求10所述的显示装置，其中：
所述平坦化层包括所述第二开口中的部分和所述反射控制层上的部分。
14.根据权利要求10所述的显示装置，其中：
所述反射控制层的上表面和所述平坦化层的上表面形成平坦的表面。
15.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
触摸导电层，在所述封装层上；以及
绝缘层，在所述触摸导电层上，
其中，所述光提取图案在所述绝缘层上。
16.显示装置，包括：
衬底；
晶体管，在所述衬底上；
像素电极，电连接至所述晶体管；
像素限定层，在所述像素电极上并且具有与所述像素电极重叠的第一开口；
发射层，在所述像素电极上；
公共电极，在所述像素限定层和所述发射层上；
封装层，在所述公共电极上；
反射控制层，在所述封装层上，包括散射体并且具有与所述第一开口重叠的第二开口；
以及
平坦化层，至少在所述第二开口中。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中：
所述散射体在所述反射控制层中分布在所述反射控制层的2/3或更小的高度处。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其中：
所述反射控制层包括四氮杂卟啉。
19.根据权利要求16所述的显示装置，还包括：
触摸导电层，在所述封装层上；以及
绝缘层，在所述触摸导电层上，
其中，所述反射控制层在所述绝缘层上。
20.根据权利要求16所述的显示装置，还包括与所述反射控制层重叠的光阻挡构件。