1.一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：
将经预处理铜膜进行粗化、固化和钝化处理后，得钝化铜膜，钝化铜膜再进行表面硅烷化处理：将钝化铜膜浸入改性硅烷溶液中涂覆，取出置于80‑120℃条件下固化0.5‑2.5h，完成高性能铜膜的处理工艺；
所述改性硅烷溶液通过如下步骤制得：
步骤S1、γ‑氨丙基三乙氧基硅烷和苯基三甲氧基硅烷经水解后制备得到超支化聚硅氧烷；
步骤S2、向超支化聚硅氧烷中加入去离子水和乙醇，常温搅拌5min，升温至60℃，加入戊二醛，搅拌分散15min，加入硼氢化钠，继续搅拌3h，降温至20℃，搅拌30min后加入二硫化碳，继续搅拌反应30min，得混液，向混液中加入乙醇水洗3次，得改性硅烷溶液。
2.根据权利要求1所述的一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，步骤S2中所述超支化聚硅氧烷、去离子水、乙醇、戊二醛、硼氢化钠和二硫化碳的用量比为20g：200mL：150mL：2g：
2.5g：6g。
3.根据权利要求1所述的一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，所述超支化聚硅氧烷的制备过程：
步骤S11、向苯基三甲氧基硅烷中加入γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、甲醇和四氢呋喃,常温搅拌5min，升温至55‑60℃，继续搅拌15min，加入盐酸调控pH为5.0‑5.4，恒温搅拌3h，再加入碳酸氢钠调控pH为7.2‑7.4，旋蒸除去溶剂和水，得超支化聚硅氧烷。
4.根据权利要求3所述的一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，步骤S11中所述苯基三甲氧基硅烷、γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、甲醇和四氢呋喃的用量比为0.1mo l：0.2mo l：
100mL：50mL。
5.根据权利要求1所述的一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，所述粗化、固化和钝化处理过程：
粗化：将经预处理铜膜进行电沉积粗化处理，粗化液配方：硫酸铜40g/L；浓硫酸40mL/
2
L；钨酸钠0.1g/L；硫酸亚锡1g/L，电沉积条件：电流密度9‑12A/dm；温度20‑40℃；时间8‑
12s，处理后得粗化铜膜；
固化：将粗化铜膜进行电沉积固化处理，固化液配方：硫酸锌70g/L；硫酸镍27g/L；酒石
2
酸锑钾3g/L；电沉积条件：电流密度3‑4A/dm ,时间20‑25s,温度为30‑45℃，处理后得固化铜膜；
钝化：将固化铜膜进行电沉积钝化处理，钝化液配方：钼酸钠8g/L；植酸2mL/L；电沉积
2
条件：电流密度为0.2A/dm ,电沉积时间为10s，处理后得钝化铜膜。
6.根据权利要求1所述的一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，所述铜膜的预处理过程：
将铜膜进行碱洗除油2min，然后利用去离子水冲洗铜膜表面1min，接着对铜膜表面进行酸洗30s，再利用去离子水冲洗1min，烘干，完成铜膜的预处理。
7.根据权利要求6所述的一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，所述碱洗包括碱洗液，碱洗液的组成：1.2％‑1.5％NaOH，4％‑6％Na2CO3，4％‑6％Na3PO4，1％‑1.2％Na2SiO3，余量为去离子水。
8.根据权利要求6所述的一种高性能铜膜处理工艺，其特征在于，所述酸洗包括酸洗液，酸洗液的组成：1％H2SO4，1.5％‑2％Na2S2O8，余量为去离子水。