一种磁控溅射真空镀膜装置 |
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| 申请号 | CN202311842860.5 | 申请日 | 2023-12-28 | 公开(公告)号 | CN117867458A | 公开(公告)日 | 2024-04-12 |
| 申请人 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司; | 发明人 | 孙桂红; 黄国兴; 梁红; 祝海生; 李俊杰; 李新栓; 寇立; 薛闯; 桂丹; 刘柏桢; 黄乐; | ||||
| 摘要 | 本 发明 公开了一种 磁控溅射 真空 镀 膜 装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室 侧壁 上的一组以上靶材组件，旋转架上安装有多 块 用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕旋转架的转动轴线均匀间隔布置，各组靶材组件包括两靶并排设置的靶材，每靶靶材内设有中间磁棒和位于中间磁棒两侧的两根侧部磁棒，中间磁棒和两根侧部磁棒的两端分别为S极和N极，中间磁棒的S极端和两根侧部磁棒的N极端位于靶材一端，中间磁棒的N极端和两根侧部磁棒的S极端位于靶材另一端，两根侧部磁棒分别通过 角 度调节组件以能绕靶材轴线调节角度的方式安装在靶材内。采用该磁控溅射 真空镀膜 装置便于改善镀膜均匀性。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种磁控溅射真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架(1)和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材组件(2)，所述旋转架(1)上安装有多块用于放置基片(100)的矩形挂板(3)，多块矩形挂板(3)环绕所述旋转架(1)的转动轴线均匀间隔布置，其特征在于： |
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| 说明书全文 | 一种磁控溅射真空镀膜装置技术领域背景技术[0002] 磁控溅射真空镀膜装置的核心部分包括镀膜腔室、旋转架、靶材和位于靶材内的磁棒，旋转架安装在镀膜腔室中，靶材位于镀膜腔室侧壁上，其中，旋转架一般安装多块矩形挂板用于放置基片，多块矩形挂板环绕旋转架均匀间隔布置拼接成类似多边形筒状结构，各矩形挂板上放置基片后也呈似多边形筒状结构。当转动旋转架使各基片运动至靶材位置处进行镀膜时，由于基片在横向方向(切向)上各点到靶材的距离不同，会导致膜层厚度不一致，影响镀膜的均匀性。 发明内容[0003] 本发明要解决的技术问题是克服现有技术存在的不足，提供一种便于改善镀膜均匀性的磁控溅射真空镀膜装置。 [0004] 为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案： [0005] 一种磁控溅射真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材组件，所述旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕所述旋转架的转动轴线均匀间隔布置，各组靶材组件包括两靶并排设置的靶材，每靶靶材内设有中间磁棒和位于所述中间磁棒两侧的两根侧部磁棒，所述中间磁棒和两根侧部磁棒的两端分别为S极和N极，所述中间磁棒的S极端和两根侧部磁棒的N极端位于靶材一端，所述中间磁棒的N极端和两根侧部磁棒的S极端位于靶材另一端，两根侧部磁棒分别通过角度调节组件以能绕靶材轴线调节角度的方式安装在靶材内。 [0006] 作为上述技术方案的进一步改进： [0007] 所述角度调节组件包括固定设置在靶材内的支撑轴和转动连接在所述支撑轴上的摆动架，所述侧部磁棒固定安装在所述摆动架上。 [0008] 所述角度调节组件还包括用于锁紧固定所述摆动架的锁紧机构。 [0010] 两根侧部磁棒共用一根所述支撑轴。 [0011] 所述靶材呈管状。 [0012] 两根侧部磁棒相对于所述中间磁棒的角度调节范围均为0°～90°。 [0013] 与现有技术相比，本发明的优点在于： [0014] 本发明的磁控溅射真空镀膜装置在每靶靶材内设有中间磁棒和两根侧部磁棒，中间磁棒和两根侧部磁棒的两端分别为S极和N极，中间磁棒的S极端和两根侧部磁棒的N极端位于靶材一端，中间磁棒的N极端和两根侧部磁棒的S极端位于靶材另一端，两根侧部磁棒分别通过角度调节组件以能绕靶材轴线调节角度的方式安装在靶材内，可灵活调节靶材内两根侧部磁棒与中间磁棒之间的间距和夹角，从而实现磁场的调节，便于控制溅射粒子的分布，从而改善镀膜均匀性。附图说明 [0015] 图1为磁控溅射真空镀膜装置的部分结构示意图。 [0016] 图2为旋转架的局部放大结构示意图。 [0017] 图3为两根侧部磁棒相对于中间磁棒的角度变化图。 [0018] 图4为本发明磁控溅射真空镀膜装置的镀膜效果图。 [0019] 图5为现有技术的镀膜效果图。 [0020] 图例说明： [0021] 1、旋转架；100、基片；2、靶材组件；21、靶材；22、中间磁棒；23、侧部磁棒；3、矩形挂板；4、角度调节组件。 具体实施方式[0022] 以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。 [0023] 如图1至图4所示，本实施例的磁控溅射真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架1和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材组件2，旋转架1上安装有多块用于放置基片100的矩形挂板3，多块矩形挂板3环绕旋转架1的转动轴线均匀间隔布置，各组靶材组件2包括两靶并排设置的靶材21，每靶靶材21内设有中间磁棒22和位于中间磁棒22两侧的两根侧部磁棒23，中间磁棒22和两根侧部磁棒23的两端分别为S极和N极，中间磁棒22的S极端和两根侧部磁棒23的N极端位于靶材21一端，中间磁棒22的N极端和两根侧部磁棒23的S极端位于靶材21另一端，两根侧部磁棒23分别通过角度调节组件4以能绕靶材21轴线调节角度的方式安装在靶材21内。 [0024] 该磁控溅射真空镀膜装置在每靶靶材21内设有中间磁棒22和两根侧部磁棒23，中间磁棒22和两根侧部磁棒23的两端分别为S极和N极，中间磁棒22的S极端和两根侧部磁棒23的N极端位于靶材21一端，中间磁棒22的N极端和两根侧部磁棒23的S极端位于靶材21另一端，两根侧部磁棒23分别通过角度调节组件4以能绕靶材21轴线调节角度的方式安装在靶材21内，可灵活调节靶材21内两根侧部磁棒23与中间磁棒22之间的间距和夹角，从而实现磁场的调节，便于控制溅射粒子的分布，从而改善镀膜均匀性。 [0025] 本实施例中，角度调节组件4包括固定设置在靶材21内的支撑轴和转动连接在支撑轴上的摆动架，侧部磁棒23固定安装在摆动架上。该角度调节组件4的结构简单紧凑、成本低、便于制作装配。 [0026] 本实施例中，角度调节组件4还包括用于锁紧固定摆动架的锁紧机构，便于在调整好侧部磁棒23角度后使其稳定保持在调好的角度。 [0027] 本实施例中，锁紧机构包括锁紧螺钉，锁紧螺钉螺纹配合连接在摆动架上并能通过旋拧压紧和松开支撑轴。锁紧螺钉松开支撑轴时，摆动架可绕支撑轴转动以调节角度，调节好角度后，旋拧锁紧螺钉压紧支撑轴即可防止摆动架绕支撑轴转动，从而实现锁紧固定。该锁紧机构的结构简单、成本低、易于操作。 [0028] 本实施例中，两根侧部磁棒23共用一根支撑轴，可提高结构紧凑性、降低成本。 [0029] 本实施例中，靶材21呈管状。 [0030] 本实施例中，两根侧部磁棒23相对于中间磁棒22的角度调节范围均为0°～90°，参见图3，图中由左至右分别为两根侧部磁棒23相对于中间磁棒22的角度为0°、45°和90°的状态图，该角度调节范围广，且不影响整体磁场。 |
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