一种片状掩膜版的制作方法 |
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| 申请号 | CN202210586324.2 | 申请日 | 2022-05-27 | 公开(公告)号 | CN115161591B | 公开(公告)日 | 2024-04-19 |
| 申请人 | 成都拓维高科光电科技有限公司; | 发明人 | 刘鑫; 李博; 赵阳; 吴义超; 杨凡; 李哲; | ||||
| 摘要 | 本 申请 公开了一种片状掩膜版的制作方法，包括以下步骤：S1:取厚度为h0的基材,金属基材的A面为上表面，B面为下表面；S2:在基材上涂覆光阻膜，曝光，显影，蚀刻后形成 基板 ，基板包括有效区和将有效区包围在内的辅助区，有效区与辅助区之间设有 焊接 区，有效区为由横向骨架和纵向骨架形成的镂空的网格状；S3:对S2形成的基板减薄处理。本申请方法制成的掩膜版张网焊接时用较小的拉 力 可以使片状掩膜版整平，使得F‑mask本体不易发生 变形 ，从而提高了蒸 镀 质量 的 稳定性 。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种片状掩膜版的制作方法，包括以下步骤： |
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| 说明书全文 | 一种片状掩膜版的制作方法技术领域背景技术[0003] OLED或AMOLED制程工艺中，蒸镀为决定OLED或AMOLED性能关键的工艺之一，与蒸镀系统配合的掩膜版（Mask）是决定蒸镀系统性能的关键，FMM的主要作用是在OLED生产过程中沉积RGB有机物质并形成像素，准确和精细地沉淀有机物质，提高分辨率和良率。FMM的开孔直接决定OLED显示屏的像素高低，开孔越小，像素越高。 [0004] FMM在使用过程中，由于重力和受热膨胀的原因，会有500μm的下垂量，下垂量越大，造成的混色的比例和风险越大，分辨率越高，影响越严重。在实际生产过程中，为了减少下垂量，采用F‑mask（由Frame（框）和sheet（片状）掩膜版组成）来支撑FMM。由于F‑mask刚度大，下垂量比FMM小，约为200μm。F‑mask的使用在一定程度上减少了FMM的下垂量，降低了混色的比例和影响程度。但是现有的F‑mask使用后蒸镀质量的稳定性较差。 [0005] 上述背景技术是为了便于理解本发明，并非是申请本发明之前已向普通公众公开的公知技术。 发明内容[0006] 基于上述问题，本申请提供一种sheet（片状）掩膜版的制作方法，该方法制作的掩膜版张网焊接时用较小的拉力可以使sheet（片状）掩膜版整平，使得F‑mask本体不易发生变形，从而提高了蒸镀质量的稳定性。 [0007] 一种sheet（片状）掩膜版的制作方法，包括以下步骤： [0008] S1: 取厚度为h0的基材, 金属基材的A面为上表面，B面为下表面；S2:在基材上涂覆光阻膜，曝光，显影，蚀刻后形成基板，基板包括有效区和将有效区包围在内的辅助区，有效区与辅助区之间设有焊接区，有效区为由横向骨架和纵向骨架形成的镂空的网格状； [0009] S3: 对S2形成的基板减薄处理。 [0010] 可选地，所述S3中，基板减薄处理为A面减薄处理或/和B面减薄处理。 [0011] 可选地，所述减薄处理幅度<30%。 [0012] 可选地，所述S3中，基板减薄处理为辅助区处理。 [0013] 可选地，所述sheet（片状）掩膜版的制作方法还包括以下步骤： [0014] S4:有效区的横向骨架及纵向骨架减宽处理。 [0015] 可选地，所述减宽为由中心向两边宽度逐渐变窄。 [0016] 可选地，所述sheet（片状）掩膜版的制作方法还包括以下步骤： [0017] S4:辅助区的A面或/和B面蚀刻图案。 [0018] 可选地，所述图案的长度由中间向四角逐渐变短。 [0019] 可选地，所述sheet（片状）掩膜版的制作方法还包括以下步骤： [0020] S4: 有效区的横向骨架及纵向骨架减宽处理，辅助区的A面或/和B面蚀刻图案。 [0021] 可选地，所述减宽为由中心向两边宽度逐渐变窄；图案的长度由中间向四角逐渐变短。 [0022] 本发明还提供一种sheet（片状）掩膜版，包括由厚度为h0的基材形成的基板，该基板包括有效区和将有效区包围在内的辅助区，有效区与辅助区之间设有焊接区，有效区为由横向骨架和纵向骨架形成的镂空的网格状，所述横向骨架，其厚度>0.7 h0，且 [0023] 可选地，所述横向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差，纵向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差。 [0024] 可选地，所述横向骨架的下表面与焊接区的下表面之间具有高度差，纵向骨架的下表面与焊接区的下表面之间具有高度差。 [0025] 可选地，所述横向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差，纵向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差；横向骨架的下表面与焊接区的下表面之间具有 高度差，纵向骨架的下表面与焊接区的下表面之间具有高度差。 [0026] 可选地，所述横向骨架宽度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向骨架宽度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少。 [0027] 可选地，所述横向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差，纵向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差。 [0028] 可选地，所述横向骨架的下表面与焊接区的下表面之间具有高度差，纵向骨架的下表面与焊接区的下表面之间具有高度差。 [0029] 可选地，所述横向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差，纵向骨架的上表面与焊接区的上表面之间具有高度差；所述横向骨架的下表面与焊接区的下表面之间 具有高度差，纵向骨架的下表面与焊接区的下表面之间具有高度差。 [0030] 可选地，所述辅助区厚度 [0031] 可选地，所述辅助区厚度 [0032] 可选地，所述辅助区厚度 [0033] 可选地，所述辅助区的上表面上刻蚀刻有若干第一凹槽，第一凹槽包括横向的第一凹槽和纵向的第一凹槽，横向的第一凹槽的长度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第一凹槽的长度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少。 [0034] 可选地，所述辅助区的下表面若干第二凹槽，第二凹槽与第一凹槽交错排列，第二凹槽包括横向的第二凹槽和纵向的第二凹槽，横向的第二凹槽的长度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第二凹槽的长度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少。 [0035] 本申请还提供一种F‑mask掩膜版。 [0036] 一种F‑mask掩膜版，包括sheet（片状）掩膜版和Frame框，所述sheet（片状）掩膜版为上述的sheet（片状）掩膜版。 [0037] 发明原理及有益效果： [0038] 本申请发明人经研究发现，F‑mask的sheet（片状）在张网焊接到Frame的过程中，需要施加很大的拉力使其平坦度达到设定值以下（通常是50μm），同时给Frame施加相反方向的推力，然后将sheet（片状）焊接到Frame上。这个一对持续力的作用结果，导致后期使用过程中，F‑mask本体发生变形，从而影响蒸镀工艺质量，导致蒸镀质量的稳定性较差。 [0039] 本申请通过对sheet（片状）掩膜版的有效区的骨架及辅助区域进行化学蚀刻减薄处理，张网焊接时用较小的拉力可以使sheet（片状）整平，使得F‑mask本体不易发生变形，从而提高了蒸镀质量的稳定性。 附图说明 [0040] 图1为金属原材结构示意图； [0041] 图2为本发明背景技术sheet（片状）掩膜版示意图； [0042] 图3为sheet（片状）掩膜版张网时sheet（片状）掩膜版的受力方向示意； [0043] 图4为本发明实施例3sheet（片状）掩膜版结构示意图，其中4a 为A面或B面减薄那面向上的示意图， 4b为未减薄那面向上的示意图； [0044] 图5为本发明实施例5 sheet（片状）掩膜版结构示意图； [0045] 图6为本发明实施例7 sheet（片状）掩膜版结构示意图； [0046] 图7为本发明实施例9 sheet（片状）掩膜版结构示意图； [0047] 图8为本发明实施例11 sheet（片状）掩膜版结构示意图； [0048] 图9为本发明实施例13 sheet（片状）掩膜版结构示意图，其中9a为A面俯视图示意图，9b为B面俯视图示意图； [0049] 图10为本发明实施例15 sheet（片状）掩膜版结构示意图，其中10a为A面俯视图示意图，10 b为B面俯视图示意图。 具体实施方式[0050] 下面将结合附图对本申请作进一步说明。 [0051] 在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖向”、“纵向”、“侧向”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的 方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。 [0052] 在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“开有”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接 ，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。 [0053] 实施例1:现有的F‑mask的sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0054] 现有的F‑mask的sheet（片状）的制作方法,包括以下步骤： [0055] S1: 取如图1厚度为h0的金属基材（材料优选为Invar或SUS），h0为100~200μm（根据客户需求确定）, 金属基材的A面为上表面，B面为下表面。 [0056] S2:在基材上涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图2所示的sheet（片状）结构，图2的sheet（片状）掩膜版结构，包括基板1，基板1包括有效区2和将有效区2包围在内的辅助区3，有效区2与辅助区3之间设有焊接区6，有效区2为由横向骨架4和纵向骨架5形成的镂空的网格状，横向骨架4厚度=纵向骨架5厚度=辅助区3厚度=焊接区6= h0。横 向骨架4宽度=纵向骨架5宽度=L0。图2中，横向骨架4、纵向骨架5、辅助区3、焊接区6的上表面与下表面均在同一水平面。 [0057] 实施例2：现有的F‑mask的的制作工艺 [0058] 现有的F‑mask的的制作方法,包括以下步骤： [0059] 将实施例1制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0060] 张网的示意如图3，张网时，对sheet（片状）掩膜版施加拉力使其平坦度达到规格值（一般＜50N），然后调整Pixel精度使其达到规格值，sheet（片状）掩膜版拉力F的方向由sheet（片状）掩膜版向Frame框7。 [0061] 实施例3：本申请的一种sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0062] 取实施例1制作的sheet（片状）掩膜版，进行后续工艺，包括以下步骤： [0063] S3: 有效区2单面减薄（单面减薄可以为A面，也可以为B面，两者的工艺相同）。 [0064] 将实施例1制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图4的sheet（片状）掩膜版结构（其中图4a为A面或B面减薄那面向上的示意图，图4b为未减薄那面向上的示意图），图4中，sheet（片状）掩膜版结构，包括基板1，基板1包括有效区2和将有效区2包围在内的辅助区3，有效区2与辅助区3之间设有焊接区6，有效区2为由横向骨架4和纵向骨架5形成的镂空的网格状，横向骨架4厚度=纵向骨架5厚度= h1，辅助区3厚度=焊接区6= h0，0.7 h0 [0065] 实施例4：实施例3的F‑mask的制作工艺 [0066] 将实施例3制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0067] 实施例5：本申请的另一种sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0068] 取实施例3制作的sheet（片状）掩膜版，进行后续工艺，包括以下步骤： [0069] S4: 有效区2的横向骨架及纵向骨架减宽 [0070] 将实施例3制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图5的sheet（片状）掩膜版结构俯视图示意图，图5中，横向骨架4宽度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，sheet（片状）掩膜版横向中心线的横向骨架4宽度大于边缘位置的横向骨架4宽度，纵向骨架5宽度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少，sheet（片状）掩膜版纵向中心线的纵向骨架5宽度大于边缘位置的纵向骨架5宽度。sheet（片状）掩膜版纵向中心线的纵向骨架5宽度≤L1。 [0071] 实施例6：实施例5的F‑mask的制作工艺 [0072] 将实施例5制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0073] 实施例7本申请的另一种sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0074] 取实施例1制作的sheet（片状）掩膜版，进行后续工艺，包括以下步骤： [0075] S3: 有效区2双面减薄。 [0076] 将实施例1制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图6的sheet（片状）掩膜版结构，图6中，sheet（片状）掩膜版结构，包括基板1，基板1包括有效区2和将有效区2包围在内的辅助区3，有效区2与辅助区3之间设有焊接区6，有效区2为由横向骨架4和纵向骨架5形成的镂空的网格状，横向骨架4厚度=纵向骨架5厚度= h1，辅助区3厚度=焊接区6= h0，0.7 h0 [0077] 本实施例形成的sheet（片状）掩膜版从A面与B面看结构无差别。 [0078] 实施例8：实施例7的F‑mask的制作工艺 [0079] 将实施例7制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0080] 实施例9本申请的另一种sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0081] 取实施例7制作的sheet（片状）掩膜版，进行后续工艺，包括以下步骤： [0082] S4: 有效区2的横向骨架及纵向骨架减宽 [0083] 将实施例7制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图7的sheet（片状）掩膜版结构俯视图示意图，图7中，横向骨架4宽度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，sheet（片状）掩膜版横向中心线的横向骨架4宽度大于边缘位置的横向骨架4宽度，纵向骨架5宽度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少，sheet（片状）掩膜版纵向中心线的纵向骨架5宽度大于边缘位置的纵向骨架5宽度。sheet（片状）掩膜版纵向中心线的纵向骨架5宽度≤L1。 [0084] 实施例10：实施例9的F‑mask的制作工艺 [0085] 将实施例9制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0086] 实施例11：本申请的另一种sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0087] 取实施例1制作的sheet（片状）掩膜版，进行后续工艺，包括以下步骤： [0088] S3: 辅助区3单面减薄（单面减薄可以为A面，也可以为B面，两者的工艺相同）。 [0089] 将实施例1制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图8的sheet（片状）掩膜版结构减薄面俯视图示意图，图8中，sheet（片状）掩膜版结构，包括基板1，基板1包括有效区2和将有效区2包围在内的辅助区3，有效区2与辅助区3之间设有焊接区6，有效区2为由横向骨架4和纵向骨架5形成的镂空的网格状，横向骨架4厚度=纵向骨架5厚度= h0，焊接区6= h0，横向骨架4宽度=纵向骨架5宽度= L1，L1= L0。辅助区3的一面上刻蚀刻有若干第一凹槽8，第一凹槽8由焊接区6向sheet（片状）掩膜版的边缘延伸，横向的第一凹槽8 的长度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的凹槽8 的长度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少。 [0090] 实施例12：实施例11的F‑mask的制作工艺 [0091] 将实施例11制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0092] 实施例13：本申请的另一种sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0093] 取实施例1制作的sheet（片状）掩膜版，进行后续工艺，包括以下步骤： [0094] S3: 辅助区3双面减薄。 [0095] 将实施例1制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图9的sheet（片状）掩膜版结构俯视图示意图（其中a为A面俯视图示意图，b为B面俯视图示意图），图中，sheet（片状）掩膜版结构，包括基板1，基板1包括有效区2和将有效区2包围在内的辅助区3，有效区2与辅助区3之间设有焊接区6，有效区2为由横向骨架4和纵向骨架5形成的镂空的网格状，横向骨架4厚度=纵向骨架5厚度= h0，焊接区6= h0，横向骨架4宽度=纵向骨架5宽度= L1，L1= L0。辅助区3的一面上刻蚀刻有若干第一凹槽8，第一凹槽8由焊接区6向sheet（片状）掩膜版的边缘延伸，横向的第一凹槽8的长度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第一凹槽8的长度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少。辅助区3的另一相对的面上刻蚀刻有若干第二凹槽9，第二凹槽9由焊接区6向 sheet（片状）掩膜版的边缘延伸，横向的第二凹槽9的长度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第二凹槽9的长度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减 少。第二凹槽9与第一凹槽8交错排列。 [0096] 实施例14：实施例13的F‑mask的制作工艺 [0097] 将实施例13制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0098] 实施例15：本申请的另一种sheet（片状）掩膜版的制作工艺 [0099] 取实施例1制作的sheet（片状）掩膜版，进行后续工艺，包括以下步骤： [0100] S3: 有效区2、辅助区3双面减薄。 [0101] 将实施例1制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成sheet（片状）掩膜版结构，该sheet（片状）掩膜版结构，包括基板1，基板1包括有效区2和将有效区2包围在内的辅助区3，有效区2与辅助区3之间设有焊接区6，有效区2为由横向骨架4和纵向骨架5形成的镂空的网格状，横向骨架4厚度=纵向骨架5厚度=辅助区3厚度= h1，焊接区6= h0，0.7 h0 [0102] 本步骤形成的sheet（片状）掩膜版从A面与B面看结构无差别。 [0103] S4: 有效区2的横向骨架及纵向骨架减宽、以及辅助区3图案凹槽制作 [0104] 将S3制作的sheet（片状）掩膜版涂覆光阻膜（干法或湿法），曝光，显影，蚀刻后形成图10的sheet（片状）掩膜版结构俯视图示意图（其中a为A面俯视图示意图，b为B面俯视图示意图），图10中，横向骨架4宽度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，sheet（片状）掩膜版横向中心线的横向骨架4宽度大于边缘位置的横向骨架4宽度，纵向骨架5宽度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少，sheet（片状）掩膜版纵向中心线的纵向骨架5宽度大于边缘位置的纵向骨架5宽度。sheet（片状）掩膜版纵向中心线的纵向骨架5宽度≤L1。辅助区3的一面上刻蚀刻有若干第一凹槽8，第一凹槽8由焊接区6向sheet（片状）掩膜版的边缘延伸，横向的第一凹槽8的长度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第一凹槽8的长度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少。辅助区3的另一相对的面上刻蚀刻有若干第二凹槽9，第二凹槽9由焊接区6向sheet（片状）掩膜版的边缘延伸，横向的第二凹槽9的长度沿sheet（片状）掩膜版横向中心线向外渐次减少，纵向的第二凹槽9的长度沿sheet（片状）掩膜版纵向中心线向外渐次减少。第二凹槽9与第一凹槽8交错排列。 [0105] 实施例16： [0106] 将实施例15制作而成的sheet（片状）掩膜版张网焊接到Frame框7上，张网焊接时，沿焊接区6焊接，焊接后，将辅助区3裁切掉，形成F‑mask掩膜版。 [0107] 本发明的sheet（片状）掩膜版张网焊接时sheet（片状）掩膜版用较小的拉力可以使其整平，相应地，施加给Frame的反向作用力（counter force）就会小，因此后期使用过程中，F‑mask产生的形变就会小，蒸镀质量的稳定性会提高。 [0108] 以上所述仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。 |
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