【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、狭い気孔寸法分布を有する触媒担体及び触媒、それらの製造方法及び使用に関する。 【0002】 【従来の技術】米国特許第5,191,144号明細書は、熱水合成により製造される、微孔性範囲(<2n m)内で変動することができる極めて均一な気孔寸法0.2〜1nmを有するゼオライトを開示している。 小さい気孔寸法に基づき、反応することができる分子の寸法は制限される。 SiO 2バインダーはゼオライトで使用されるので、これらのゼオライトは700℃まで安定であるにすぎず、400℃以上では化学的抵抗を有していず、かつこれらの機械的安定性は不十分である。 更に、該ゼオライトは強酸性表面を有しており、このことはその使用を酸触媒反応に制限する。 【0003】Chem. Ind. , 10 (1993) 48-49は、高熱分解酸化物(SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 ) からハロゲン化物をオキシヒドロゲンフレーム内で反応させることによるメソ気孔範囲(2〜50nm)内の触媒担体を製造する方法を開示している。 該担体の気孔寸法は10〜70nmであり、8nm未満の範囲内の気孔は形成されない。 しかしながら、気孔分布は広い。 【0004】Chem. Ing. Tech. , 56 (1984) 455-46 3は、メラミンをマクロ気孔形成剤として開示している。 しかしながら、熱分解すると亀裂形成が生じる。 【0005】米国特許第3,755,204号明細書は、 セラミック粉末、ポリオレフィン(ポリエチレンコポリマー)及び可塑化剤(鉱油、ジエチレングリコール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン)の混合物を成形し、熱分解しかつ焼結することにより製造された多孔質セラミック成形体を開示している。 熱分解中にセラミック成形体中に生じる亀裂は、可塑化剤を表面活性剤水溶液で抽出することにより回避することができる(西独国特許出願公開第2459475号明細書)。 これらは、連続気孔が熱可塑性成形によチャンネル構造として導入されたセラミックハネカム成形体である。 【0006】西独国特許出願公開第2459475号明細書は、金属粉末、ポリオレフィン及び可塑化剤を配合しかつ可塑化剤を熱分解前に溶剤を使用して混合物から浸出させることよりなる成形された多孔質金属構造を開示している。 【0007】西独国特許出願公開第4120687号明細書は、ポリオレフィン、可塑剤及びバインダー系と混和不能である添加物を使用して製造された多孔性の金属又はセラミックの焼結部材を開示している。 該添加物は、ポリスチレンをベースとするビニル芳香族コポリマーであり、金属とセラミック粒子の間のスペーサとして20〜250μmの粒子寸法として導入される。 添加物粒子寸法の変更は、異なった、但し不特定の気孔寸法が形成されることを可能にする。 該気孔寸法分布はバイモードでありかつ広い。 それというのも、一面では、添加物の粒子寸法分布により、かつ他面では金属又はセラミック粒子間の間隙空間により気孔が形成されるからである。 【0008】欧州特許出願公開第444708号明細書は、緻密な金属成形部材の製造方法を開示しかつ欧州特許出願公開第444475号明細書は熱可塑性組成物の成形を介する緻密なセラミック成形体を開示している。 【0009】欧州特許出願公開第413231号明細書は、緻密な無機の焼結成形部材の製造方法を開示しており、該方法は、焼結可能な粉末及びバインダーとしてポリオキシメチレン又は主成分のオキシメチレン単位を含有するコポリマーの生の成形材料を押出又は射出成形法により成形することよりなる。 該バインダーは迅速に除去され、亀裂を生じることも、またガス状酸又は三フッ化ホウ素での処理によるこれらの生の部材の変形を生じることもない。 該バインダー不含の多孔質部材は極めて低い機械的安定性を有し、かつ充実密度に焼結される。 この方法は、緻密な、セラミック又は金属製構造材料又は複雑な形状を有する機能材料を製造するために使用され、これらは触媒担体又は触媒のためには適当でない。 【0010】この製造方法を使用して、テフロン(欧州特許出願公開第513500号明細書)、ポリイミド又は可塑化不能なポリマー(欧州特許出願公開第5170 25号明細書)のような焼結可能な有機ポリマーも緻密な部品に加工することができる。 【0011】独国特許出願公開第4120645号明細書から、公知方法を使用して極めて微細な粉末又はセラミック粉末(粒子寸法約1μm)から一定の気孔分布を有する機械的に安定な部品を再現可能に製造することは極めて困難であることが公知である。 【0012】 【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、前記の欠点を排除するための解決手段を提供することである。 【0013】 【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明により、BET比表面積0.01〜250m 2 /g及び水銀加圧多孔度測定法に基づき測定した平均気孔直径50〜 300,000nmを有する単一モード又は多モード気孔寸法分布を有する新規のかつ改良された単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒において、 a)気孔容積の10〜95%が平均気孔直径の0.2〜 100倍である及び/又は b)気孔容積の10〜80%が平均気孔直径の0.8〜 100倍である及び/又は c)気孔容積の50〜95%が平均気孔直径の0.2〜 1倍である及び/又は d)気孔容積の50〜80%が平均気孔直径の0.8〜 1倍である及び e)気孔寸法分布の半分の高さの幅が平均気孔直径の0.6倍より小さいことにより、及びまた A) I)元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、 錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、 銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、イットリウム、 ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの酸化物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又はそれらの混合物から選択される無機粉末及び/又は II)元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマリウム、ジスポロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、 ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、 白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、 タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの金属及び合金、WC、TiC、TaC、VC又はそれらの混合物、 WC-コバルト、TiC-コバルト、Ta C-コバルト、VC-コバルト又はそれらの混合物、及びまた炭素のうちから選択される金属性粉末及び/又は III)無機酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、 ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、 鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム、それらの混合物から選択される金属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、亜硫酸塩、セレン化物、 テルル化物、窒化物、硫化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化物、チオシアン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オスニウム酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらのアンモニウム化合物又はそれらの混合物の群から選択される活性成分及び/又は IV)テフロン又はポリイミドの群から選択される有機粉末15〜70容量%、 B)ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又はエチレン、プロピレン、1−ブテンもしくはイソブテンのコポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレートコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、 又は B 1 )ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー50〜100重量%と B 2 )平均粒子寸法1μm未満で、均質にB 1 )中に溶解又は分散されたポリマー0〜50重量%の混合物30〜 85容量%、の混合物30〜85容量%、 C)分散剤0〜15容量%からなる混合物を成形し、3 00〜600℃での残滓熱分解によりバインダーを除去し、引き続き600〜1400℃で前焼結し、かつ所望により、1回以上の浸漬、含浸、スプレー含浸、沈着、 ハイコーティング、ウォッシュコーティング又は噴霧乾燥により活性成分IIIを成分A)に又は前焼結した組成物に施すことよりなり、その際バインダーの熱分解的除去後の触媒担体又は触媒が、BET比表面積0.01〜 250m 2 /g及び水銀圧多孔度測定法により測定した気孔寸法分布50〜300.000nmを有する前記触媒担体及び触媒の製造方法、及びまた該単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を、非定常状態のディーコン法において塩化水素から塩素を製造するため、非定常状態オキシ水素化においてチルベンゼンの反応させることによるスチレンの製造のため、エタノールアミンからアジリジンを製造するため、トリメチルシクロヘキセノンを反応させることによるトリメチルフェノールの製造のため、還元、水素添加、酸化、脱水素化、酸又は塩基触媒反応又は流動床における反応のため、ディーゼル排気ガスから燃焼残留物を除去するため、廃ガスからNO x を除去するため、細菌と一緒にバイオ反応器で使用するため及び固定した酵素又は微生物と一緒にバイオ触媒として使用することにより解決されることが判明した。 【0014】本発明による触媒担体又は触媒は、有利にはゼオライトではなくかつBET比表面積0.01〜2 50m 2 /g、有利には0.1〜200m 2 /g 、特に有利には0.5〜120m 2 /g及び水銀加圧多孔度測定法に基づき測定した平均気孔直径50〜300,00 0nm、有利には100〜50,000nm、特に有利には150〜25,000nmを有する単一モード又は多モード、即ちバイモード、トリモード、テトラモード又はそれ以上のモード、有利にはバイモード、トリモードの気孔寸法分布を有し、かつ a)気孔容積の10〜95%、有利には30〜95%、 特に有利には50〜95%が平均気孔直径の0.2〜1 00倍である及び/又は b)気孔容積の10〜80%、有利には30〜80%、 特に有利には50〜80%が平均気孔直径の0.8〜1 00倍である及び/又は c)気孔容積の50〜95%、有利には70〜95%、 特に有利には80〜95%が平均気孔直径の0.2〜1 倍である及び/又は d)気孔容積の50〜80%、有利には60〜80%、 特に有利には65〜80%が平均気孔直径の0.8〜1 倍である及び e)気孔寸法分布の半分の高さの幅が平均気孔直径の0.6倍より小さい、即ち0.001〜0.59倍、有利には0.005〜0.4倍、特に有利には0.1〜 0.35倍である。 【0015】本発明による触媒担体又は触媒のうちで有利であるのは、条件a)とb)又はa)とc)又はa) とd)又はb)とc)又はb)とd)又はC)とd)が同時に満足されているもの、特に有利であるのは、条件a)、b)及びc)、又はa)、b)及びd)、又はa)、c)及びd)、又はb)、c)及びd)が同時に満足されているものであり、特に有利であるのは、4つの全ての条件a)、b)、c)及びd)が同時に満足されるものである。 【0016】本発明の触媒担体又は触媒は、以下のようにして製造することができる:有利には加熱装置を備えた混合装置、例えばニーダー、押出機又は剪断ローラー押出機内で、成分A)、無機、金属、有機粉末及び/又は活性成分、次いで成分C)の分散剤を、又は先ず成分C)、次いで成分A)を、又は成分A)とC)を一緒に、80〜250℃、有利には100〜220℃、特に有利には120〜200℃で溶融状態の成分B)のポリマーに加える。 初期(激しく)混合した組成物を、例えば造粒、プレス、ローリング、連続注型、押出又は射出成形により、特に射出成形により、120〜250℃、 有利には140〜220℃、特に有利には150〜20 0℃でかつ500〜2000バール、有利には600〜 1800バール、特に有利には700〜1600バールの圧力で成形することができる。 この場合、40〜16 0℃、有利には60〜150℃、特に有利には80〜1 40℃の射出成形機温度での成形工程で、任意の所望の形状、例えば個々の部品の堆積物、又は例えばラッシヒリング、サドル、星形リングの形の一体成形体、穿孔した及び/又はリブ付き幾何学的成形体、例えばリング、 球、直方体、立方体、円錘体、角錐体、プリズム、八面体、円筒体、角錐台、及び円錐台のような触媒担体又は触媒を、一般に更に成形することなく製造することが可能である。 【0017】120〜280℃、特に有利には180〜 200℃で一体成形体を製造するために、車輪形成形体、ハネカム形成形体、窓枠形成形体を押出成形することができる。 【0018】成形工程後に得られた生の成形体は、30 0〜600℃、有利には350〜600℃、特に誘導体00〜600℃で処理し、かつ引き続き、一般に600 〜1400℃、有利には600〜1100℃、特に有利には600〜800℃で酸化条件(空気)、不活性ガス(N 2 ,Ar,He)又は還元条件(N 2 /H 2 ,Ar/ H 2 )下で前焼成することにより、それらの最終的強度及び気孔分布を有する触媒担体又は触媒に変換することができる。 前焼結工程は一般に安定性及び多孔質成形体の硬度を著しく増大する。 800℃で前焼成した試料の切断硬度は、一般に1〜8kg(800℃)、有利には1.5〜7kg(800℃)、特に有利には2〜6kg (800℃)である。 1100℃で前焼結した試料の場合には、20kgまでの切断硬度が達成される。 吸水量は、一般に0.05〜5ml/g、有利には0.1〜3 ml/g、特に有利には0.1〜1ml/gであるので、一般に、硬度の重要な減損を伴うことなく、本発明による触媒担体に一層活性の成分を施すことができる。 計算した活性成分吸収により、該触媒は、使用後に活性成分を再含浸することにより容易にリサイクルすることができる。 厳密に単一モードの気孔寸法分布に加えて、 またこのようにして多モード(バイモード、トリモード、テトラモード及びそれ以上のモード)の気孔寸法分布を製造することができる。 この方法は、高強度及び高熱又は化学的安定性を有する触媒担体及び触媒を製造することを可能にする。 成形体の考えられる形状は、造粒、ローリング、プレス、押出又は射出成形により製造することができるあらゆる形状である。 該成形体は、触媒反応器内でばらの材料として又は一体成形体の形で使用することができる。 【0019】本発明による触媒担体及び触媒のBET比表面積は、一般に0.01〜250m 2 /g、有利には0.1〜150m 2 /g、特に有利には1〜100m 2 / g、殊に2〜8m 2 /g(800℃)である。 【0020】平均気孔寸法は、一般に、単に使用される粉末粒子間の間隙空間により成分A)、無機、金属、有機粉末及び/又は活性成分の粒子寸法により決定される。 従って、平均気孔寸法及び気孔寸法分布は、使用される平均気孔寸法及び粒子寸法分布に左右される。 このようにして、市販の金属又はセラミック粉末は、本発明による触媒担体及び触媒のような、機械的に安定な、亀裂不含の、単一もしくは多モード多孔質材料を製造することを可能にする。 従って、狭い気孔寸法分布を、所望に応じてメソ気孔又はマクロ気孔版にセットすることができ、かつ一般に硬度に単分散性の気孔分布をもたらす。 【0021】多モードの触媒担体及び触媒を得たい場合には、多モード寸法分布又は内部多孔性を有する粉末を使用する。 【0022】本発明に基づき使用される成分A)の粉末の平均粒子寸法は、一般に、粒子寸法から0〜30%、 有利には0〜20%、特に有利には0〜10%により偏移する粒子の80%、有利には90%、特に95%の粒子寸法で、5nm〜500,000nm、有利には30 0〜100,000nm、特に有利には500〜50,0 00nmのナノ範囲の結晶質粉末であってもよい。 【0023】適当な成分A)は、以下のものである: I)元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、 錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、 銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、 イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの酸化物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又はそれらの混合物、有利には元素マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、錫、鉛、アンチモン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金、銅、 銀、金、亜鉛、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、セリウムの酸化物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩又はそれらの混合物、特に有利には元素マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、錫、 アンチモン、コバルト、ニッケル、銅、イットリウム、 チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガンの酸化物、窒化物、炭化物又はそれらの混合物の群から選択される無機粉末、 II)元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマリウム、ジスプロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、 ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、 白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、 タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの金属及び合金、WC、TiC、TaC、VC又はそれらの混合物、 WC-コバルト、TiC-コバルト、Ta C-コバルト、VC-コバルト又はそれらの混合物、及びまた炭素、有利には元素ホウ素、アルミニウム、ケイ素、錫、鉛、アンチモン、セレン、ネオジウム、サマリウム、ジスプロシウム、鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、パラジウム、銅、銀、 金、亜鉛、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、セリウム、WC、Ti C、TaC、VCの金属及び合金又はそれらの混合物、 WC-コバルト、TiC-コバルト、TaC-コバルト、 VC-コバルト又はそれらの混合物、及びまた炭素、特に有利には元素ホウ素、アルミニウム、ケイ素、錫、ネオジウム、サマリウム、ジスプロシウム、鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、銅、 亜鉛、イットリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、WC、TiC、TaC、VCの金属及び合金又はそれらの混合物、 WC-コバルト、TiC- コバルト、TaC-コバルト、VC-コバルト又はそれらの混合物のうちから選択される金属性粉末、 III)無機酸、特にH 2 SO 4 ,H 3 PO 4 ,HNO 3及びヘテロ多酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、 アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、 ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、 スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、 ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム、それらの混合物から選択される金属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、 セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、硫化物、セレン化物、テルル化物、窒化物、リン化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化物、チオシアン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オスニウム酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらのアンモニウム化合物又はそれらの混合物、有利にはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、ポロニウム、鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、 銀、金、亜鉛、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、レニウム、セリウム、それらの混合物から選択される金属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、セレン酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、硫化物、 セレン化物、テルル化物、窒化物、リン化物、ヒ化物、 酢酸塩、アセチルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、マンガン酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらのアンモニウム化合物又はそれらの混合物、特に有利にはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、 アルミニウム、ケイ素、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金、銅、銀、亜鉛、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、セリウム、それらの混合物から選択される金属、又はそれらの炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、硫化物、窒化物、炭化物、それらのアンモニウム化合物又はそれらの混合物の群から選択される活性成分。 【0024】有利には、金属としてはアルミニウム、 鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、 モリブデン、亜鉛、チタン、ジルコニウム、タングステン、ニオブ、クロム及び炭素の群から選択されるもの、 無機粉末としてはAl 2 O 3 ,MgO,SiO 2 ,Ti O 2 ,Y 2 O 3 ,ZrO 2 ,ZnO,Fe 2 O 3 ,CoO,C o 2 O 3 ,Cr 2 O 3 ,NiO,B 2 O 3 ,Ce 2 O 3 ,CeO 2 ,Pr 2 O 3 ,B 4 C,SiC,WC,TiC,TaC, Si 3 N 4 ,AlN,BN,TiN及びZrN又はそれらの2種以上の混合物の群から選択されるもの、より有利には、金属としては鉄、コバルト、ニッケル、クロム、 パラジウム、モリブデン及びチタンの群から選択されるもの、無機粉末としてはSiC,Si 3 N 4 ,BN, B 4 C,WC,TiC,TiN、ZrN及びAlNの群又はそれらの2種以上の混合物から選択されるものが使用され、特に有利には無機粉末としてはSiC,Si 3 N 4及びそれらの混合物から選択されるものが使用される。 【0025】担体無しの触媒を製造すべき場合には、成分A)は活性成分III)だけ、及び所望により、IV)テフロン又はポリイミドの群から選択される有機粉末からなっている。 【0026】適当な成分B)は、以下のものからなる: ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又はエチレン、プロピレン、1−ブテンもしくはイソブテンのコポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレートコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、又は B 1 )欧州特許出願公開第444475号明細書から公知であるような、ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー50〜100重量%、有利には70〜90重量%、特に有利には80〜88重量%及び B 2 )平均粒子寸法1μm未満で、B 1 )中に均質に溶解された又はB 1 )中に分散されたポリマー、有利にはポリ−1,3−ジオキソラン、ポリ−1,3−ジオキサン、ポリ−1,3−ジオキセパン、特に有利にはポリ− 1,3−ジオキセパン0〜50重量%、10〜30重量%、特に有利には12〜25重量%の混合物。 【0027】有機バインダーは、また、ポリアセタール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレンメチルメタクリレートのような1種以上の熱可塑性樹脂とポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンブタンジオールホルマール、 フタル酸エステル、エチレン-ビニルアセテート及びモンタンエステルワックスのような1種以上の可塑剤との混合物からなっていてもよい。 【0028】適当なポリアセタールバインダーは、例えば、有利には10,000〜50,000の分子量を有するポリオキシメチレンである。 ホルムアルデヒド又はトリオキサンのホモポリマーとは別に、別の適当なバインダーは、トリオキサンと、例えば環式エーテル例えばエチレンオキシド、及び1,3−ジオキソラン又はホルマール例えば1,3−ジオキセパンとのコポリマーもしくはそれらの混合物、又はホモポリマーのポリ−1,3− ジオキソラン、ポリ−1,3−ジオキサン、又はポリ− 1,3−ジオキセパンであり、この場合コポリマーの量は一般にポリマーの10〜30重量%である。 【0029】更に、これらは熱可塑性バインダー、例えばポリエチレン、ポリメチルメタクリレートもしくはポリエチレン、及び分散剤もしくは滑剤例えばポリエチレングリコール、ステアリン酸、脂肪アルコール、ポリビニルピロリドンもしくはポリビニルアルコールのような助剤を含有することができる。 助剤の量は一般に全材料の0.1〜12重量%である。 【0030】適当な成分C)は、欧州特許出願公開第4 44475号明細書から公知であるような分散剤、例えば有機カルボン酸、アミン、アミド又はマレインイミド、ステアリン酸、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンオキシド及びモンタンワックス、有利には有機カルボン酸、アミン、アミド又はマレインイミド、ポリエチレングリコール及びポリエチレンオキシド、特に有利には有機カルボン酸、アミン、マレインイミド、ポリエチレングリコール及びポリエチレンオキシドである。 【0031】本発明による触媒担体又は触媒を製造する(一緒に混合する)ために使用される混合物は、一般に成分A)15〜70重量%、有利には30〜70重量%、特に有利には50〜65重量%、成分B)30〜8 5重量%、有利には30〜70重量%、特に有利には3 5〜50重量%及び成分C)0〜15重量%、有利には1〜12重量%、特に有利には2〜8重量%を有するか又はなっていてもよい。 【0032】適当な担体材料は、AI,II及びIVのセラミック、金属又は有機粉末である。 【0033】担体無しの触媒の場合には、活性成分を直接粉末として使用することができ、又は、担体触媒の場合には、これらを無機粉末I)、金属粉末II)、有機粉末IV)もしくはそれらの混合物に施し、引き続き担体材料に施すか又は担体材料と一緒に配合することができる。 【0034】更に、例えばAl 2 O 3 ,SiO 2 ,Si C,Si 3 N 4 ,Cもしくはそれらの混合物の無機もしくは有機遷移もしくはホイスカーを、本発明による組成物に添加することができる。 【0035】本発明による製造方法においては、成分A)を一般に分散剤C)を用いて解凝集化し、かつこうして均一な寸法にした出発粉末を比較的高い成分A)含量で有機バインダー[成分B)]に練込む。 有機バインダーは、粉末粒子間の一般に均一な寸法のかつ規則的に配置された間隙空間に充満される。 凝集物形成の結果として成分A)の出発粉末内に存在するほぼ100μm周辺のマクロ気孔は、一般に解凝集化により排除される。 狭い単一モード粒子寸法分布を有する粉末を使用することにより、有機バインダー及び有機分散液の除去により、粉末粒子間に極めて均一な寸法の気孔が残る。 一般に、平均気孔直径は使用粉末の平均粒子直径の25%である([単位:dm/kg]参照)。 多モードの粒子寸法分布を使用する場合又は多孔質粉末を使用する際には、多モード(バイモード、トリモード、テトラモード又はそれ以上のモード)の気孔分布を製造することもでき、この際には気孔寸法は粉末粒子間の間隙空間により及び粉末粒子の内部多孔度により決定される。 【0036】本発明による触媒は、不均一の担体触媒又は担体無し触媒であってもよい。 担体無しの触媒は不活性多孔質セラミック又は金属触媒担体に触媒活性成分もしくは触媒活性成分の先駆物質を浸漬、含浸、噴霧含浸、噴霧乾燥、沈着、ハイコーティング、ウォッシュコーティングにより被覆することにより製造することができる。 【0037】更に、本発明は、 A) I)元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、 錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、 銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、 イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの酸化物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又はそれらの混合物の群から選択される無機粉末及び/又は II)元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマリウム、ジスプロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、 ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、 白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、 タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの金属及び合金、WC、TiC、TaC、VC又はそれらの混合物、 WC-コバルト、TiC-コバルト、Ta C-コバルト、VC-コバルト又はそれらの混合物、及びまた炭素のうちから選択される金属性粉末及び/又は III)無機酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、 ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、 鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム、それらの混合物から選択される金属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、硫化物、セレン化物、テルル化物、窒化物、リン化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化物、チオシアン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オスニウム酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらのアンモニウム化合物又はそれらの混合物の群から選択される活性成分及び/又は IV)テフロン又はポリイミドの群から選択される有機粉末15〜70容量%、 B)ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又はエチレン、プロピレン、1−ブテンもしくはイソブテンのコポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレートコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、 又は B 1 )ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー50〜100重量%と B 2 )平均粒子寸法1μm未満で、均質にB 1 )中に溶解された又はB 1 )中に分散されたポリマー0〜50重量%の混合物30〜85容量%、 C)分散剤0〜15容量%からなる混合物を成形し、ガス状酸で100〜160℃での処理、400〜600℃ での熱分解によりバインダーを除去し、引き続き600 〜1400℃で前焼結し、かつ所望により、活性成分を成分A)に又は前焼結した組成物に、1回以上の浸漬、 含浸、スプレー含浸、沈着、ハイコーティング、ウォッシュコーティング又は噴霧乾燥により活性成分IIIを成分A)に又は前焼結した組成物に施すことにより製造された、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒に関し、その際バインダーの熱分解的除去後の触媒担体又は触媒は、BET比表面積0.01〜250m 2 /g及び水銀圧多孔度測定法により測定した気孔寸法分布50〜3 00.000nmを有する。 【0038】本発明による触媒担体及び触媒は、一般に以下の目的に使用するために好適である:還元(水素添加)、例えばアルキンの水素添加、例えばC 2 ,C 3 ,C 4混合物中のアセチレンの選択的水素添加、C 4フラクション中のビニルアセチレンの選択的水素添加及びブテンジオール又はブタンジオールを得るためのブチンジオールの水素添加、アルケンの水素添加、例えばオキソ法における不飽和化合物の水素添加、アミン化水素添加、芳香族化合物の水素添加、ジオレフィン水素添加例えば熱分解ガソリン中のジオレフィンの水素添加、脂肪水素添加、水素添加脱硫例えば例えば硫化水素を得るための無機硫黄化合物、例えばCOS,CS 2 ,SO 2及びS xの水素添加、芳香族化合物又はパラフィンの水素添加精製、有機塩素化合物の水素添加、アルデヒド、カルボン酸、カルボン酸エステル、ケトン、ニトリル、ニトロ化合物、オキシム及びオキソ生成物の水素添加、例えばアニリンを得るためのニトロベンゼンの水素添加、例えばホワイトスプリットを製造するためのカルボニル基及び芳香族化合物の水素添加、トリメチルヒドロキノンを得るための水素添加、ヘキサメチレンジアミン、アクリロニトリル、NH 3を得るためのアジポニトリルの水素添加、ヘキサンジオールを得るためのアジピン酸の水素添加、シクロヘキシルヒドロペルオキシドのシクロヘキサノールへの水素添加、シトロネルラールを得るための水素添加、デヒドロリリアールからのリリアールの製造、 アンモニア又はアルカンを用いた還元による排気ガスからのNO xの除去及び合成ガスからのアルカン、オレフィン、アルコール、アルデヒド及び/又はカルボン酸の製造、アミノカプロニトリルを得るためのアジポジニトリルの水素添加、アミノカプロニトリルを得るためのアジピン酸のアミン化水素添加;酸化(脱水素化)、例えば:アルカンの酸化例えばスチレンを得るためのエチルベンゼンの脱水素化又は2,6−ジメチルアニリンを得るためのジメチルシクロヘキシルアミンの脱水素化、アルケンの脱水素化、アルコールの脱水素化例えばシクロヘキサノンを得るためのシクロヘキサノールの脱水素化及びエチルヘキサノールからのエチルヘキサン酸およびエチルヘキサナールの製造、アンモ酸化例えばメタンからのシアン化水素の製造又はプタロジニトリルを得るためのo−キシレンのアンモ酸化、芳香族化合物のアンモ酸化、エポキシ化、酸化性ハロゲン化、酸化性カップリング、クラウス法により硫黄を得るための硫化水素含有ガスの酸化、オキシ塩素化法による塩化ビニルの製造(スタウファー法:Stauffer process)、二酸化硫黄を得るための硫化水素及び/又は有機硫黄化合物の酸化、 SO 2含有ガスからの接触法による硫酸の製造、o−キシレン及び空気からの無水フタル酸の製造、炭化水素、 溶剤又はCO汚染排気ガスの触媒燃焼、エチレンのオキシ塩素化による二塩化エチレンの製造、アクリル酸を得るためのプロペンの酸化、メタクロレインからのメタクリル酸の製造、イソ酪酸からのメタクリル酸の製造、キシリジンを得るためのDMCHAの脱水素化及びトリメチルフェノール得るためのトリメチルシクロヘキサンの脱水素化、エチレンの酸化エチレンへの酸化、ブタジエンの酸化ブタジエンへの酸化、プロペンのアクロレインへの酸化、メタクロレインのメタクリル酸への酸化;酸性もしくは塩基性触媒反応、例えば:例えばエチレンオキシド又はプロピレンオキシドのアルコキシル化、例えばα−メトキシエチルホルムアミドからN−ビニルホルムアミドを得るための脱アルコキシル化、アルキル化、 アシル化、水和、例えばエタノールアミンからアジリジンを得るための又はホルムアミドからシアン酸を得るための脱水、アミン化、アルドール反応、オリゴマー化、 重合、ポリマー類似反応、環化、異性化、エステル化、 例えば蒸気及び場合によりCO 2を使用した天然ガスのガス状炭化水素の分解、プロペンのアクロレインへの酸化、例えばN−ビニルホルムアミドを得るためのN−ホルミルアラニンニトリルの離脱反応、例えばメタノールプロピンにα−メトキシ基への付加。 【0039】更に、100〜100,000nmの気孔寸法を有するマクロ孔質担体は、ディーゼル排気ガスから燃焼残渣(煤)を除去するため及びバクテリア(1〜 2μm)の使用と組み合わせたバイオ反応器のために適当である。 【0040】本発明による方法により製造される触媒担体又は触媒は、比較的高い機械的強度を有し、かつ従って特に流動床反応のために適当である。 【0041】流動床反応は、例えばε−カプロラクタムを得るためのシクロヘキサノンオキシムの転位反応のため、例えばベンゾニトリルを得るためののトルエンのアンモ酸化もしくはアクリロニトリルを得るためのプロペンのアンモ酸化、ブテンからの無水マレイン酸の製造、 又はニトロベンゼンからのアニリンの製造のために使用することができる。 【0042】従って、本発明はまた、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる非定常状態のディーコン(Deacon)法において塩化水素から塩素を製造する方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる非定常状態オキシ脱水素化においてエチルベンゼンの反応させることによるスチレンの製造方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによるエタノールアミンからアジリジンを製造する方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによるトリメチルシクロヘキセノンを反応させることによるトリメチルフェノールの製造方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる還元方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる水素添加方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる酸化方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる脱水素化方法、 単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる酸又は塩基触媒反応を実施する方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる流動床反応を実施する方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによるディーゼル排気ガスから燃焼残留物を除去する方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる廃ガスからNO xを除去する方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる細菌と一緒にバイオ反応器で反応を実施する方法、及び固定した酵素又は微生物と一緒にバイオ触媒として単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによるバイオ触媒の存在化に反応を実施する方法に関する。 【0043】本発明はまた、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、非定常状態のディーコン法において塩化水素から塩素を製造する方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、非定常状態オキシ脱水素化においてスチレンを得るためのエチルベンゼンを反応させる方法、 単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、エタノールアミンからアジリジンを製造する方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、トリメチルフェノールを得るためのトリメチルシクロヘキセノンを反応させる方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる還元方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる水素添加方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる酸化方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、脱水素化方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、酸又は塩基触媒反応を実施する方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、流動床における反応を実施する方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、ディーゼル排気ガスから燃焼残留物を除去する方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、 廃ガスからNO xを除去する方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、細菌の存在下にバイオ反応器で反応を実施する方法、固定した酵素又は微生物と一緒に、触媒担体として単一モード又は多モードの触媒担体を使用することによる、バイオ触媒の存在下に反応を実施する方法に関する。 【0044】前記において、適用される触媒担体又は触媒は、本発明による触媒担体又は触媒である。 【0045】 【実施例】 例1 第I表に記載のセラミック粉末1を、平均分子量15 0,000を有するトリオキサンとブタンジオールホルマール2.5重量%のポリオキシメチレンコポリマー(POM/PBDF)からなるポリアセタールをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均分子量5 0,000を有するポリブタンジオールホルマール20 重量%及び分子量800を有するポリエチレングリコール5重量%(使用粉末に対して)と一緒に180℃で押出成形して、直径4mmを有する押出物を製造し、該押出物をマッフル炉内でN 2雰囲気下で600℃で1時間熱分解し、次いで空気中で種々の温度で前焼結した。 操作パラメータは、第I表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa及びb表に示されている。 【0046】例2 第I表に記載のセラミック粉末2を二軸シグマニーダー内で220℃で分子量150,000及び密度0.95 g/mlを有するポリエチレン及び分子量400を有するポリエチレンオキシドを添加して混練した。 グラニュールをマッフル炉内でN 2下で600℃で1時間熱分解し、次いで空気中で800℃で2時間前焼結した。 操作パラメータは、第II表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa及びb表に示されている。 【0047】例3 第I表に記載のセラミック粉末3を二軸シグマニーダー内で200℃で分子量100,000及び密度1.04 g/mlを有するポリエチレン及び分子量400を有するポリエチレンオキシドを添加して混練した。 該供給原料を排出スクリュウを介してグラニュール化した。 該グラニュールを回転管型炉内でN 2下で500℃で0.5 時間熱分解し、次いで空気50l/h下でで800℃で0.5時間前焼結した。 操作パラメータは、第II表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa及びb表に示されている。 【0048】例4 第I表に記載のセラミック粉末4を二軸シグマニーダー内で200℃で、Si 3 N 4 (HC STRRCK, LC12)90重量%、Y 2 O 3 ( HC STRRCK;グレード・ファイン)5重量%及びAl 2 O 3 (ALCOA, CT3000SG)5重量%と一緒に分子量150,000及び密度1.17g/mlを有するポリメチルメタクリレート及び分子量400を有するポリエチレンオキシドを添加して混練した。 該供給原料を排出スクリュウを介してグラニュール化した。 該グラニュールをマッフル炉内でN 2下で600℃で1時間熱分解し、次いで空気中で600℃で2時間前焼結した。 操作パラメータは、第II表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa及びb表に示されている。 【0049】例5 第I表に記載のセラミック粉末5を、平均分子量15 0,000を有するトリオキサンとブタンジオールホルマール2.5重量%のポリオキシメチレンコポリマー(POM/PBDF)からなるポリアセタールをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均分子量5 0,000を有するポリブタンジオールホルマール20 重量%及び分子量800を有するポリエチレングリコール5重量%(使用粉末に対して)と一緒に180℃で押出成形して、直径4mmを有する押出物を製造し、該押出物をマッフル炉内でN 2雰囲気下で600℃で1時間熱分解し、次いで空気中で800℃で2時間前焼結した。 操作パラメータは、第II表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa及びb表に示されている。 【0050】例6 第I表に記載のセラミック粉末6を、平均分子量15 0,000を有するトリオキサンとブタンジオールホルマール2.5重量%のポリオキシメチレンコポリマー(POM/PBDF)からなるポリアセタールをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均分子量5 0,000を有するポリブタンジオールホルマール20 重量%及び分子量800を有するポリエチレングリコール5重量%(使用粉末に対して)と一緒に180℃で押出成形して、直径4mmを有する押出物を製造し、該押出物をマッフル炉内でN 2雰囲気下で600℃で1時間熱分解し、次いで空気中で1100℃で2時間前焼結した。 操作パラメータは、第II表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa及びb表に示されている。 【0051】例7 最大1μmを有するバイモードの粒子寸法分布を有する第I表に記載のセラミック粉末7を、平均分子量15 0,000を有するトリオキサンとブタンジオールホルマール2.5重量%のポリオキシメチレンコポリマー(POM/PBDF)からなるポリアセタールをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均分子量5 0,000を有するポリブタンジオールホルマール20 重量%及び分子量800を有するポリエチレングリコール5重量%(使用粉末に対して)と一緒に混練し、18 0℃で押出成形して、直径4mmを有する押出物を製造し、該押出物をマッフル炉内で窒素雰囲気下で600℃ で1時間熱分解し、次いで空気中で800℃で2時間前焼結した。 操作パラメータは、第II表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa 及びb表に示されている。 【0052】例8 最大1μmを有するバイモードの粒子寸法分布を有する第I表に記載のセラミック粉末8を、平均分子量15 0,000を有するトリオキサンとブタンジオールホルマール2.5重量%のポリオキシメチレンコポリマー(POM/PBDF)からなるポリアセタールをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均分子量5 0,000を有するポリブタンジオールホルマール20 重量%及び分子量800を有するポリエチレングリコール5重量%(使用粉末に対して)と一緒に混練した。 冷却した生成物を、カッターミル内でグラニュール化した。 該グラニュールを窒素雰囲気下で600℃で1時間熱分解し、次いで空気中で1100℃で2時間前焼結した。 操作パラメータは、第II表に示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIa及びb表に示されている。 【0053】 【表1】 【0054】 【表2】 【0055】 【表3】 【0056】 【表4】 【0057】比較例A Si 3 N 4 (HC STARCK, LC12)586gをY 2 O 3 (HC ST ARCK;グレードファイン)32g、α−Al 2 O 3 (ALCO A, CT3000SG)32g、H 2 O 150及びHNO 3 48g と一緒に35分間混練しかつ45〜150℃で押出して4mmの押出物を得た。 【0058】該押出物を空気中で600,800及び1 100℃で焼成した。 焼成中に、押出物は粉末(切断硬度=0kg)に崩壊した。 【0059】比較例B ローン・ポーレンク(Rhone Poulenc)社から市販のα −Al 2 O 3触媒担体SPHS12は、匹敵するBET 5.4m 2 /g及び全気孔容積(TPA)0.51ml /gで、本発明に基づき使用されかつ第IIIa表及び第I IIb表、例No. 1b及び図1bに示されたALCOA からのAl 2 O 3触媒担体CT3000SGよりも著しく広い気孔分布(図13参照)を有していた。 【0060】比較例C 通常の混練及び押出後に、ZrO 2は低い硬度を有している。 【0061】TOSOH社のZrO 2粉末(例5の出発物質)TZ−3YS 300g及び押出助剤9gを、水31mlと混合し、ニーダー内で2.5時間濃密にし、 引き続き押出機で成形して3mmの充実の押出物を得た。 該押出物を120℃で2時間乾燥させ、引き続き空気中で800℃(例5と同じ焼成温度)で2時間焼成した。 【0062】該充実の押出物で以下の特性が測定された: 【0063】 【表5】 【0064】比較例D 高い焼成温度でも従来のZrO 2担体の著しく低い硬度 高い表面積のZr(OH) 4 (BET:310m 2 /g) 100gを押出助剤3g及び水45mlと混合しかつニーダー内で1.5時間混練した。 このZrO 2担体を押出により成形するための試みは成功しなかった。 それというのも、該押出物は乾燥過程で再び粉末に崩壊したからである(切断硬度=0kg)。 従って、押出成形してない混練した組成物を500℃で2時間焼成した。 50 0℃で焼成した後の粉末のBET表面積は、68.9m 2 /gであった。 800℃で2時間焼成した後の粉末のBET表面積は、11.2m 2 /gであった。 【0065】例9[非定常状態のディーコン(Deacon) 法] 触媒1 Si 3 N 4担体上のCu-K-Fe-Na Si 3 N 4担体の製造 Si 3 N 4 (HC STARCK;LC12)900gと、Y 2 O 3 (HC STARCK;グレードファイン)50g及びAl 2 O 3 (ALCO A;CT3000SG)50gとを、平均分子量150,000を有するトリオキサンとブタンジオールホルマール2.5 重量%のポリオキシメチレンコポリマー(POM/PB DF)276gからなるポリアセタールをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均分子量50,00 0を有するポリブタンジオールホルマール69g及び分子量800を有するポリエチレングリコール50gと一緒に180℃で混練し、グラニュール化し、かつマッフル炉内でN 2下に600℃で2時間熱分解しかつ100 0℃で2時間前焼成した。 BET表面積22.3m 2 / g及び吸水度0.6ml/gを有するSi 3 N 4担体が得られた。 【0066】Si 3 N 4の含浸 Si 3 N 4担体に、その都度蒸留水に溶解させたCuCl 2・2H 2 O 7.06g、KCl 5.58g、NaCl 5.58g及びFeCl 3・6H 2 O 9.29gの溶液67.8mlを2回(全溶液135.6ml)を含浸させ、120℃で16時間乾燥させ(それぞれの含浸工程後に)かつ450℃で3時間焼成した。 このようにして、BET表面積9.93m 2 /gを有する褐色のグラニュールが得られた。 突固め密度は0.978g/ml (粒子寸法0.5〜1mm)であった。 【0067】更なるFeCl 3 -NaCl溶液での含浸 予め含浸したSi 3 N 4担体25gに、再度水15.9m l中のNaCl 1.39g及びFeCl 3・6H 2 O 2.21gの溶液をを含浸させ、120℃で16時間乾燥させかつ450℃で3時間焼成した。 該触媒の突固め密度は0.995g/ml(粒子寸法0.5〜1mm) であった。 該触媒は、銅1.8重量%及び鉄3重量%を含有していた。 【0068】触媒2 Si 3 N 4担体上のCu-K-Fe-Na Si 3 N 4担体の製造 SiC(HC STARCK;UF15)1000gを、 平均分子量150,000を有するトリオキサンとブタンジオールホルマール2.5重量%のポリオキシメチレンコポリマー(POM/PBDF)281gからなるポリアセタールをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均分子量50,000を有するポリブタンジオールホルマール70g及び分子量800を有するポリエチレングリコール50gと一緒に180℃で混練し、ロールミル上で溶解させて厚さ0.5mmのシートに加工し、小板に破砕し、かつこれらを回転管型炉内でN 2下に600℃ で2時間熱分解しかつ前焼成した。 BET表面積22. 3m 2 /g及び吸水度0.35ml/gを有するSi 3 N 4担体が得られた。 【0069】SiCの含浸 SiC小板に、その都度蒸留水に溶解させたCuCl 2 ・2H 2 O 23.7g、、KCl 10.38g、Fe Cl 3・6H 2 O 42.78g及びNaCl 9.26g の溶液53mlを2回(全溶液106ml)を含浸させ、120℃で16時間乾燥させ(それぞれの含浸工程後に)かつ450℃で3時間焼成した。 【0070】更なるFeCl 3 -NaCl溶液での含浸 予め含浸したSiC小板70gに、再度水15.9ml 中のNaCl 1.39g及びFeCl 3・6H 2 O 2. 21gの溶液22ml(全溶液25ml)を含浸させ、 120℃で16時間乾燥させかつ450℃で3時間焼成した。 このようにして、銅3.3重量%及び鉄7.8重量%を含有する帯赤褐色の小板が得られた。 【0071】塩素の非定常状態製造のための一般的方法 固定触媒床20mlを有する加熱式管型反応器に、0. 5〜1mmの触媒寸法フラクションを装填した。 乾燥H Cl流を使用した負荷期及び引き続いての不活性ガス(N 2又はCO 2 )を用いたフラッシング期後に、再生(脱塩素化)を純粋な空気又は純粋な酸素を使用して実施した。 このサイクルを繰り返した。 【0072】HCl濃度及び塩素濃度を連続してそれぞれオン・ラインIR分析及びオン・ラインUV分析を使用して高い時間解像力で測定した。 脱塩素化中に発生した塩素の合した量を、検査目的のために、付加的に湿式化学的方法(ヨウ素滴定)により測定した。 結果は第1 及び2表にまとめられている。 【0073】 【表6】 【0074】 【表7】 【0075】比較例E[非定常状態ディーコン法] 比較触媒 ( Al 2 O 3担体上のCu-Fe-K )Al 2 O 3 (Pural SCF rings)200gに、CuCl 2・2H 2 O 32.1 6g、FeCl 3・6H 2 O 58g、KCl 30g及び水114mlの溶液92mlを含浸させ(吸水度=0. 46ml/g)、120℃で16時間乾燥させ、450 ℃で3時間焼成し、かつ引き続き残りの溶液85mlを含浸させ、120℃で16時間乾燥させ、450℃で3 時間焼成した。 該比較触媒は、Cu3.8重量%及びF e4.5重量%を含有し、 突固め密度:0.974g/ml(0.5〜1mm寸法フラクション); BET表面積:68.6m 2 /g であった。 【0076】触媒に3回含浸させようとした実験では、 該触媒は崩壊した。 【0077】Al 2 O 3上のCu-Fe-K 例1〜3の塩素の非定常状態製造のための一般的方法に類似した方法を使用して、比較触媒Al 2 O 3上のCu- Fe-Kに、365℃で及びHCl 25%を含有する(該担体は、高いHCl濃度には耐えられなかった)H Clガス流4〜5Nl/hで負荷し、HCl漏出時間は10〜14分であった。 脱塩素化を空気20Nl/hを用いて再生温度365℃で実施し、脱塩素化時間は60 分間で、合した塩素量は0.9gであり、これから塩素34kg/触媒t・hの空時収率時が得られた。 【0078】脱塩素化を空気20Nl/hを使用して再生温度380℃で実施した場合、脱塩素化時間は35分間及び塩素の合した量は0.7gであった、これは塩素38kg/触媒t・hの空時収率時に相当する。 【0079】負荷及び脱塩素化の際の反応器温度400 ℃で、脱塩素化時間(塩素<2容量%まで)25分間で最大塩素濃度Cl 2 8容量%及び平均塩素濃度Cl 2 4 容量%が達成された。 発生した塩素の合した量は1gであった、測定された最大空時収率は塩素40kg/触媒t・hであった。 【図面の簡単な説明】 【図1】第II表に記載の実施例1bの気孔寸法分布を示す図である。 【図2】第II表に記載の実施例2の気孔寸法分布を示す図である。 【図3】第II表に記載の実施例3の気孔寸法分布を示す図である。 【図4】第II表に記載の実施例4の気孔寸法分布を示す図である。 【図5】第II表に記載の実施例5の気孔寸法分布を示す図である。 【図6】第II表に記載の実施例6の気孔寸法分布を示す図である。 【図7】第II表に記載の実施例7の気孔寸法分布を示す図である。 【図8】第II表に記載の実施例8の気孔寸法分布を示す図である。 【図9】第II表に記載の比較例Bの気孔寸法分布を示す図である。 ───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 6識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 23/00 B01J 23/10 Z 23/10 27/00 Z 27/00 27/24 Z 27/24 29/00 Z 29/00 37/00 H 37/00 37/08 37/08 C01B 7/04 A C01B 7/04 6958−4H C07C 5/333 C07C 5/333 6958−4H 15/46 15/46 9155−4H 37/06 37/06 9155−4H 39/06 39/06 9159−4C C07D 203/00 C07D 203/00 C12N 11/14 C12N 11/14 C07B 61/00 300 // C07B 61/00 300 B01D 53/36 104A (72)発明者 ギュンター ラウト ドイツ連邦共和国 ラッツェンブルク ヒ ンデンブルクヘーエ 15 (72)発明者 ウーヴェ ディンガーディッセン ドイツ連邦共和国 ゼーハイム−ユーゲン ハイム リネヴェーク 1 (72)発明者 フランツ ヨーゼフ ブレッカー ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー フェン シュヴァンターラーアレー 20 (72)発明者 クレメンス フリック ドイツ連邦共和国 ヘルクスハイム アム ビルトシュテッケル 16 |