1.一种多晶硅抛光组合物，以纳米二氧化硅胶体为磨料，其特征在于，还包括聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质作为表面活性剂；各组分含量为：纳米二氧化硅胶体5 24wt%、~
表面活性剂0.006 1.2wt%、碱性化合物0.5 7wt%、pH调节剂0.01 1wt%，余量为去离子水；
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所述聚醇醚类物质表面活性剂选自聚乙二醇单甲醚、聚乙二醇二甲醚、聚乙二醇单辛醚、聚乙二醇三甲基壬基醚、聚乙二醇二乙烯基醚、聚乙二醇辛基苯基醚、聚乙二醇壬基苯基醚、聚乙二醇烯丙基甲基醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇十二烷基醚、聚乙二醇十六烷基醚、聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇缩水甘油基十二烷基醚、聚乙二醇双(3‑氨丙基)醚、聚乙二醇单(2‑月桂酰胺基乙基)醚、聚丙二醇单甲醚、聚丙二醇单丁醚、聚丙二醇‑单异十三烷基醚、聚丙二醇十八烷基醚、聚丙二醇二缩水甘油醚中的至少任一种；
所述烷基葡糖酰胺类物质表面活性剂选自羟乙基月桂葡糖酰胺、丁基月桂葡糖酰胺、辛基葡萄糖酰胺、十二酰基胺乙基葡糖酰胺、十二烷基甲基葡糖酰胺、己酰基甲基葡糖酰胺、癸酰基甲基葡糖胺、辛酰基甲基葡糖胺、壬酰基甲基葡萄糖胺、十四烷基葡糖酰胺、十六烷基葡糖酰胺、十八烷基葡糖酰胺、乙酰基正八烷葡糖酰胺、乙酰基正十烷葡糖酰胺、乙酰基正十二烷葡糖酰胺、丙酰基正八烷葡糖酰胺、丙酰基正十烷葡糖酰胺、丙酰基正十二烷葡糖酰胺、N‑(3‑三乙氧硅基丙基)葡糖酰胺、椰油酰基甲基葡萄糖胺、肉豆蔻酰甲基葡糖酰胺中的至少任一种；
所述表面活性剂中聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质的质量比为1:1   1:14；
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所述pH调节剂调节所述多晶硅抛光组合物的pH值为10 12。
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2.根据权利要求1所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，各组分含量为：纳米二氧化硅胶体10 18wt%、表面活性剂0.15 0.75wt%、碱性化合物1 5wt%、pH调节剂0.05 0.5wt%，余~ ~ ~ ~
量为去离子水。
3.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述表面活性剂中聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质的质量比为1:4   1:9。
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4.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述纳米二氧化硅胶体的平均粒径为60‑90nm，质量浓度为20 wt% 30wt%。
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5.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述聚醇醚类物质表面活性剂选自聚乙二醇单甲醚、聚乙二醇三甲基壬基醚、聚乙二醇烯丙基甲基醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇十二烷基醚、聚丙二醇单丁醚、聚丙二醇二缩水甘油醚中的至少任一种。
6.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述烷基葡糖酰胺类物质表面活性剂选自癸酰基甲基葡糖胺、十二烷基甲基葡糖酰胺、辛酰基甲基葡糖胺、十八烷基葡糖酰胺、N‑(3‑三乙氧硅基丙基)葡糖酰胺中的至少任一种。
7.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述碱性化合物选自高哌嗪、甲基高哌嗪、乙基高哌嗪、甲酰基高哌嗪、哌嗪、甲基哌嗪、吡嗪、哒嗪、单乙醇胺、异丙醇胺、咪唑、甲基咪唑、碳酸胍、四甲基胍、乙二胺、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵中的至少任一种。
8.根据权利要求7所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述碱性化合物选自单乙醇胺、乙二胺、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵。
9.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述pH调节剂选自赖氨酸、组氨酸、脯氨酸、丙氨酸、甘氨酸、缬氨酸、丝氨酸、酪氨酸、谷氨酸、苏氨酸、异亮氨酸、亮氨酸、色氨酸、甲硫氨酸、苯丙氨酸、天冬氨酸、半胱氨酸中的至少任一种。
10.根据权利要求9所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述pH调节剂为赖氨酸、甘氨酸。
11.权利要求1‑10任一项所述的多晶硅抛光组合物在多晶硅化学机械抛光中的应用。