161 |
阵列基板及显示面板 |
CN202510315687.6 |
2025-03-17 |
CN119902399A |
2025-04-29 |
梁玉姣; 叶利丹 |
本发明公开了一种阵列基板及显示面板,涉及显示技术领域,其中阵列基板包括衬底、多个子像素、第一金属走线以及第二金属走线;多个子像素间隔排布于衬底表面,相邻的两个子像素之间为非显示区,每一子像素包括主区和次区,主区包括第一像素电极,次区包括第二像素电极;第一金属走线与第一像素电极和第二像素电极均电连接,并用于为第一像素电极和第二像素电极提供第一电压信号;第二金属走线与第一像素电极或第二像素电极电连接,并用于为第一像素电极或第二像素电极提供第二电压信号;其中,第一金属走线和第二金属走线均位于非显示区。本发明解决了现有金属走线设置在显示区导致显示面板反射率较高的问题,提高了显示面板的显示效果。 |
162 |
阵列基板和显示装置 |
CN202311397751.7 |
2023-10-26 |
CN119902398A |
2025-04-29 |
孙平原; 金红贵; 段智龙; 王佩佩; 边若梅; 刘洋; 张勇; 杨越 |
本发明提供过一种阵列基板和显示装置。阵列基板包括驱动模组,驱动电路包括输入模块、输出模块和降噪模块,输入模块在输入信号的控制下,将第一输入信号传输至第一节点,输出模块在第一节点的电位的控制下,将第二输入信号传输至驱动电路的输出端,降噪模块在第二节点的电位的控制下,将第一电压信号至第一节点和/或输出端;驱动电路包括多个晶体管;多个晶体管中的至少一个晶体管通过第一过孔与第一节点电连接,多个晶体管中的至少一个晶体管通过第二过孔与第二节点电连接;第一过孔与第二过孔之间间隔有至少一个晶体管。本发明改善窄边框显示产品容易出现的信赖性腐蚀不良现象。 |
163 |
背光光源及显示设备 |
CN202411150584.0 |
2024-08-20 |
CN119902396A |
2025-04-29 |
闫春辉; 孙伟; 杜彦浩; 陈志威; 聂大伟; 王恺君 |
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种背光光源及显示设备。背光光源被配置为提供m个不同波长的蓝光、n个不同波长的绿光及l个不同波长的红光,其中,m≥1,n≥1,l≥1,m+n≥2,m+n+l≥4。通过在背光光源中增加原色的数量,从而获得多边形宽色域背光,背光的可调范围大,色域的提升空间大,技术难度低,成本低。 |
164 |
液晶显示装置 |
CN202411344892.7 |
2024-09-25 |
CN119902391A |
2025-04-29 |
寺下慎一; 渡边光一 |
提供一种能够充分抑制取向缺陷的产生,并且作为能够进行反射模式的显示的In‑cell型触摸面板也是有用的液晶显示装置。液晶显示装置包括:第一基板、第二基板以及液晶层,第一基板具有:反射光的反射层;第一电极和第二电极,第一电极和第二电极能够在液晶层生成横向电场;以及第一水平取向膜,其与液晶层接触,第一电极及第二电极中的至少一方具有:多个带状部;和狭缝,其位于多个带状部中相互邻接的两个带状部之间,在各像素中,多个带状部由相互大致平行且在同一方向上延伸的直线形状构成,且不包含弯曲部,第二基板具有与液晶层接触的第二水平取向膜,液晶层包含介电常数各向异性为正型的液晶分子,并且在电压未施加时取得扭转取向。 |
165 |
光元件、激光模块、视网膜投影装置以及近眼可佩戴装置 |
CN202411303740.2 |
2024-09-19 |
CN119902328A |
2025-04-29 |
志村淳; 高木靖博; 原裕贵 |
本发明涉及光元件、激光模块、视网膜投影装置以及近眼可佩戴装置。光元件具备转换可见光的偏振波模式的模式转换器。模式转换器具备将可见光的偏振波模式从TM0模式转换为TE1模式的转换部、和分支部,该分支部将TE1模式的可见光分支为TE0模式的第1分支光和TE0模式的第2分支光并且调整第1分支光和第2分支光之间的相位差。分支部具备供第1分支光传输的第1分支波导和供第2分支光传输的第2分支波导。第1分支波导中的第1分支光的光路长和第2分支波导中的第2分支光的光路长彼此不同。 |
166 |
电致变色器件及其制作方法 |
CN202510101594.3 |
2025-01-22 |
CN119900007A |
2025-04-29 |
姚力军; 姚舜; 李松松; 王予丛; 沈栋栋 |
本发明涉及电致变色器件制备技术领域,具体公开了一种电致变色器件及其制作方法。该电致变色器件的制作方法包括:提供基材;在基材上镀制第一透明导电层,采用溅射镀膜的方式进行第一透明导电层的溅射成型,控制溅射腔室内氧气与氩气的比例含量为1:(50~500),镀膜温度为室温;在第一透明导电层的上方镀制第一电致变色层,采用溅射镀膜的方式进行第一电致变色层的溅射成型,控制溅射腔室内氧气与氩气的比例含量为(1~2):1,镀膜温度为200℃~400℃;在第一电致变色层的上方镀制离子导通层;在离子导电层的上方镀制第二电致变色层;在第二电致变色层的上方镀制第二透明导电层。使用该方法制作出的电致变色器件的第一透明导电层的电阻较低,提高了变色效果。 |
167 |
一种液晶显示模组的上料治具 |
CN202411490052.1 |
2024-10-24 |
CN119898597A |
2025-04-29 |
喻贵; 肖洪斌; 马小飞; 王松林; 陈志斌 |
本发明涉及液晶显示屏加工设备技术领域,本发明公开了一种液晶显示模组的上料治具,包括机台,所述机台的内壁均匀设置有上料辊,所述机台的顶部转动连接有清理机构;该液晶显示模组的上料治具还包括:限位机构,该限位机构用于在工作人员液晶显示模组的表面贴上各向异性导电胶,所述限位机构的底部与机台的顶部固定连接,旋转机构,所述旋转机构的底部与机台的顶部靠近清理机构的一侧固定连接,该设备通过增大液晶显示屏的受力面积,减少在翻转的过程中液晶显示模组边缘受到的力,避免尺寸过大的液晶显示屏在翻转时发生破裂的情况,同时不需要对上料治具进行拆卸就能完成翻转,减少操作难度,方便翻转的同时节省加工时间。 |
168 |
一种液晶显示屏的脱泡机及脱泡检测方法 |
CN202510013241.8 |
2025-01-06 |
CN119414623B |
2025-04-29 |
陈俊伟 |
本发明涉及脱泡机技术领域,且公开了一种液晶显示屏的脱泡机及脱泡检测方法,包括脱泡机主体,所述脱泡机主体的一侧设有外盖,所述脱泡机主体的内部设有空心盒、升降螺纹杆、旋转螺纹杆、脱泡主体杆,所述脱泡机主体的中部两侧均安装有升降螺纹杆,所述脱泡机主体位于升降螺纹杆的顶端以及底端均开设有升降螺纹杆的容置槽,所述升降螺纹杆可在容置槽内进行旋转,两个所述升降螺纹杆之间均设有等距排列的空心盒,所述空心盒远离外盖的一端两侧均固定连接有转向管,本发明通过空心盒在持续下降的同时,受到与半涡轮之间提供的旋转力进行旋转,直至保持水平状态,这种设计有助于气泡在液晶显示屏中均匀分布并更容易被排出。 |
169 |
基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置 |
CN202411536674.3 |
2024-10-31 |
CN119043195B |
2025-04-29 |
肖峰; 王帅 |
本发明属于液晶盒厚度检测技术领域,尤其公开了基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置,包括纳米定位台、成像系统、计算机、照明系统、Mirau干涉物镜和硅基液晶盒,所述成像系统包括分光棱镜、成像透镜和面阵相机,所述照明系统包括低相干光源、聚光透镜和投影透镜,照明系统通过低相干光源连接计算机。本发明通过测量盖板玻璃下表面的三维形貌数据和硅基底板上表面的三维形貌数据,并将两个面的三维形貌数据拟合成平面,通过计算两个拟合平面在垂直方向上的坐标差值计算得到硅基液晶盒的厚度H,能够对硅基液晶盒进行全局且全面的检测,且全局检测的速度快,精度高。 |
170 |
电光元件 |
CN202411162574.9 |
2024-08-23 |
CN118671991B |
2025-04-29 |
马平; 陈相尹 |
本发明提供了一种电光元件,包括:衬底;波导,设置在衬底上,波导上设置有可调谐材料层和极化材料层,波导被构造成接收由外部输入的光信号;可调谐材料层,光信号与可调谐材料层相互作用,以改变光信号的光学特性;极化材料层被构造成基于外部施加不同的激励产生极化方向不同的多个极化场,多个极化场包括第一方向极化场和第二方向极化场,可调谐材料层内与第一方向极化场对齐的区域和与第二方向极化场对齐的区域进行材料特性的改变,以实现对光信号的探测和调制中的至少之一。 |
171 |
光学模组、显示装置、显示设备及电子设备 |
CN202310970152.3 |
2023-08-01 |
CN118655722B |
2025-04-29 |
陈初氜; 张译文; 周训平; 陈余; 倪欢; 祝明 |
本申请实施例提供了一种光学模组、显示装置、显示设备及电子设备,用以改善设置有抗眩盖板的显示装置难以满足低闪点和高清晰度的问题。其中光学模组应用于显示装置,显示装置包括显示面板,光学模组包括在显示面板的发光方向上依次设置的匀光层及抗眩层;匀光层在准直光垂直入射时产生的出射光强分布满足在设定的出射角度范围内光强衰减小于或等于第一阈值,匀光层用于将显示面板发出的光线均匀混光,经过匀光层混光后的光线入射抗眩层时可以避免产生闪点,这样无须通过增大抗眩层的雾度来抑制闪点,能够保障显示成像的清晰度。 |
172 |
一种可重复电致变色的多彩光子晶体薄膜结构及其制备方法 |
CN202310352795.1 |
2023-04-04 |
CN116449621B |
2025-04-29 |
武素丽; 冉晓旭; 张淑芬 |
本发明公开了一种可重复电致变色的多彩光子晶体薄膜结构及其制备方法,属于电致变色光子晶体材料制备领域。使用快速响应的电致变色材料与无机氧化物中空纳米微球光子晶体材料相结合,利用中空纳米微球可调的壳层厚度来丰富电致变色光子晶体的结构色种类,且该色彩可以通过改变偏压方向的方式进行循环变色。该复合光子晶体结构电致变色薄膜生色范围广,生色质量高,作为电响应显色材料有着巨大的应用价值。 |
173 |
一种基于液晶包层平板波导的主动式偏振转换器 |
CN202211725033.3 |
2022-12-30 |
CN116047821B |
2025-04-29 |
穆全全; 毕泽坤; 刁志辉; 刘永刚; 彭增辉; 杨程亮; 李大禹; 王启东; 张杏云; 鲁兴海; 范维方; 蔚云慧 |
本发明涉及一种基于液晶包层平板波导的主动式偏振转换器,属于主动式偏振转换器技术领域。解决了现有技术中基于传统电光材料制备的主动式偏振转换器存在的能量利用率低的问题。本发明的主动式偏振转换器,包括顺次且平行设置的第一基板、第一导电薄膜、第一取向层、液晶层、第二取向层、芯层、衬底层、第二导电薄膜和第二基板,以及连接第一导电薄膜和第二导电薄膜的电压源。其中,液晶分子指向矢垂直于第一取向层和第二取向层。该偏振转换器能量利用率高,可以实现横电模式偏振光和横磁模式偏振光之间的有效转换,且通过施加不同的驱动电压,可以主动调节横电模式偏振光和横磁模式偏振光之间的转换程度。 |
174 |
表面等离激元纳腔集成的纳米空气沟道光混频器 |
CN202211598896.9 |
2022-12-12 |
CN115954402B |
2025-04-29 |
陈飞良; 李沫; 张健; 李晓旭; 王佳超; 马培胜; 姜昊; 杨帆 |
本发明公开了一种表面等离激元纳腔集成的纳米空气沟道光混频器,属于毫米波/太赫兹器件与光电探测器技术领域。该器件包括绝缘衬底,依次设置于其上方的下电极、半导体吸收层、纳米绝缘层;纳米绝缘层上方设置上电极,该上电极从右侧向下延伸至绝缘衬底,且上电极与下电极、半导体吸收层、纳米绝缘层之间设置横向隔离层;上电极与半导体吸收层之间构成纳米空气沟道;上电极与下电极之间构成表面等离激元纳腔。本发明通过将入射光局域压缩在超薄的半导体吸收层内,使其在保持充分光吸收和高响应度的同时实现大带宽;同时通过将半导体吸收层夹在高热导率的电极之间改善散热性,从而同时达到高响应度、大带宽与大输出功率性能。 |
175 |
包括光学漫射层的光学膜和叠堆 |
CN202180033809.2 |
2021-04-20 |
CN115516345B |
2025-04-29 |
马修·E·苏泽; 马修·S·科尔; 杰里米·O·斯万森; 巴拉特·R·阿查里雅; 杰森·S·佩泰耶; 安东尼·M·伦斯特伦; 特里·D·彭; 大卫·A·罗森; 陈群益; 丽莎·A·丹尼科拉; 奎因·D·桑福德 |
光学膜和叠堆包括至少一个光学漫射层。光学漫射层可包括多个纳米颗粒和聚合物材料,该聚合物材料将纳米颗粒彼此结合以形成在其间限定多个空隙的多个纳米颗粒聚集体。对于基本上法向入射光和约450nm至约650nm的可见波长范围和约930nm至约970nm的红外波长范围:在可见波长范围内,光学膜或光学漫射层具有平均镜面透射率Vs;并且在红外波长范围内,光学膜或光学漫射层具有平均总透射率It和平均镜面透射率Is,Is/It≥0.6,Is/Vs≥2.5。 |
176 |
阵列基板及其制备方法、显示装置 |
CN202210424500.2 |
2022-04-21 |
CN115394785B |
2025-04-29 |
汪涛; 钱海蛟; 赵立星; 陈亮; 刘泽旭; 毛金翔; 张冠永; 陆文涛; 柳泉洲; 李响; 张嘉; 曲峰 |
本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,其中,阵列基板包括:晶体管结构层,所述晶体管结构层包括晶体管区域和非晶体管区域;所述晶体管区域内包括晶体管;晶体管区域内还包括光线阻隔图案,光线阻隔图案在阵列基板上的正投影与晶体管的有源图案在阵列基板上的正投影至少部分重叠。上述方案,由于在晶体管区域内形成了光线阻隔图案,该光线阻隔图案可以对晶体管进行光线阻隔保护,也即,该光线阻隔图案可以阻止或降低进入到晶体管内光线的光强,使得晶体管的有源层不发生光电效应,解决了因光线进入到晶体管内,使晶体管的有源层发生光电效应,造成有源层中载流子浓度迅速上升,沟道电流增大,导致晶体管无法完全关闭的问题。 |
177 |
显示装置的制造方法 |
CN202111337348.6 |
2021-11-12 |
CN114141704B |
2025-04-29 |
柯聪盈; 谢坤龙; 陈芙蓉 |
本发明公开一种显示装置的制造方法,包括:形成第一导电层于基板的遮蔽区;形成改质层于第一导电层上,且改质层的厚度不大于第一导电层的厚度;形成第二导电层于改质层上,且第二导电层的厚度不小于第一导电层的厚度;形成缓冲层于第二导电层及基板的非遮蔽区上;形成像素层于缓冲层上,像素层包括多个子像素;形成覆盖层于像素层上;将第二导电层的部分与改质层分离,以取得显示单元,其中,显示单元包括覆盖层的部分、像素层、缓冲层的部分及第二导电层的部分;移除显示单元上的第二导电层的部分;以及形成载板于显示单元的缓冲层的部分上。 |
178 |
显示装置 |
CN202110771481.6 |
2021-07-08 |
CN113917746B |
2025-04-29 |
李宰汉; 金湲泰 |
本申请涉及一种显示装置。显示装置包括:显示面板,包括用于显示图像的像素部、以及连接至像素部的焊盘部;第一柔性电路膜,联接至焊盘部,并且包括第一对准标记;以及第二柔性电路膜,联接至焊盘部,与第一柔性电路膜重叠,并且包括与第一对准标记对准的第二对准标记。第一对准标记和第二对准标记位于第一柔性电路膜与第二柔性电路膜重叠的区域中。 |
179 |
盖窗的制造方法、盖窗以及包括其的显示装置 |
CN202110564680.X |
2021-05-24 |
CN113763810B |
2025-04-29 |
金柄范; 金敏基; 金柔利; 李会官 |
提供一种盖窗的制造方法、盖窗以及包括其的显示装置。盖窗的制造方法包括:准备上表面平坦的玻璃产品的步骤;在所述玻璃产品上形成上表面的一部分凹陷的凹入部并形成包括水玻璃的掩模层的步骤;以及对所述掩模层和所述玻璃产品进行蚀刻来形成上表面的一部分部分地被凹陷的盖窗的步骤。 |
180 |
相位差膜的制造方法 |
CN202110285610.0 |
2021-03-17 |
CN113492519B |
2025-04-29 |
柳沼宽教; 石井孝证; 铃木广太 |
本申请的技术问题是在显示出反向波长色散特性的相位差膜中兼顾加热可靠性和取向轴精度。本申请涉及一种相位差膜的制造方法,该相位差膜满足下述式(1)及(2),0.8<Re(450)/Re(550)<1(1),1<Re(650)/Re(550)<1.2(2),式(1)及(2)中,Re(450)、Re(550)及Re(650)分别是以23℃下的波长为450nm、550nm及650nm的光测得的膜的正面相位差,该相位差膜的制造方法包括一边使长条状的树脂膜在以左右的夹具夹持其宽度方向的左右侧缘部的状态下沿长度方向移动一边依次进行预热工序及拉伸工序,该预热工序包括对该树脂膜进行预热,该拉伸工序包括使该左右的夹具的分开距离逐渐扩大而对该树脂膜进行拉伸,该树脂膜的移动方向与该拉伸工序中的该左右的夹具的行进方向所成的角度为6°以下。 |