1.一种制造用于安全装置的图像图案的方法，包括：
(a)提供一个金属化的衬底，所述金属化的衬底包括一种衬底材料，在所述衬底材料的第一表面上具有第一金属层，所述第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶；
(b)将第一光敏抗蚀剂层施加到所述第一金属层，所述第一光敏抗蚀剂层包括可热活化的交联剂，所述交联剂可操作以优先使选定类的官能团交联，在施加到所述第一金属层时所述官能团不存在于所述第一光敏抗蚀剂层中；
(c)通过一个图案化的掩膜使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于一个波长的辐射，所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射，其中所述图案化的掩膜包括第一图案元件和第二图案元件，在所述第一图案元件中，所述掩膜对所述辐射是基本上不透明的，在所述第二图案元件中，所述掩膜对所述辐射是基本上透明的，于是所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应，导致在第二蚀刻剂物质中的可溶性增加，未暴露的第一图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶；
(d)使所述第一光敏蚀刻剂层暴露于第一反应物物质，所述第一反应物物质与所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应，以产生至少一个所述选定类的官能团，所述第一反应物物质基本上不与所述第一光敏抗蚀剂层的未暴露的第一图案元件反应；
(e)使所述第一光敏抗蚀剂层中的交联剂活化，使得在暴露的第二图案元件中的至少一个所述选定类的官能团之间形成交联，由此所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件在所述第二蚀刻剂物质中的可溶性降低；
(f)使所述第一光敏抗蚀剂层的第一图案元件和第二图案元件暴露于一个波长的辐射，所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射，于是所述第一光敏抗蚀剂层的新暴露的第一图案元件反应，导致对所述第二蚀刻剂物质的可溶性增加，所述第二图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶；以及
(g)将所述第一蚀刻剂物质和所述第二蚀刻剂物质施加到所述衬底，于是所述第一抗蚀剂层的第一图案元件和所述第一金属层的第一图案元件都被溶解，所述第一金属层的剩余的第二图案元件形成一个图像图案。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二蚀刻剂物质与所述第一蚀刻剂物质相同，且在步骤(g)中，所述第一抗蚀剂层的第一图案元件和所述第一金属层的第一图案元件在相同的第一蚀刻剂物质中都可溶。
3.根据权利要求2所述的方法，其中在步骤(g)中，所述第一金属层的第一图案元件和所述第一抗蚀剂层的第一图案元件在单个蚀刻工序中被溶解。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(d)中，通过将所述第一反应物物质施加到所述第一光敏抗蚀剂层，优选地通过将所述第一反应物物质喷涂或涂覆到所述衬底上，或通过使所述衬底通过含有所述第一反应物物质的室，来使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于所述第一反应物物质。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述第一反应物物质是液态的或气态的。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述第一反应物物质包括水或水蒸气。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(e)中，通过加热所述第一光敏抗蚀剂层来使所述第一光敏抗蚀剂层中的可热活化的交联剂活化。
8.根据权利要求7所述的方法，其中在步骤(e)中，所述第一光敏抗蚀剂层被加热到至少100摄氏度、优选地至少110摄氏度、更优选地约120摄氏度的温度。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(e)中，通过将所述第一光敏抗蚀剂层的温度维持在所述可热活化的交联剂的活化温度以上的水平一预定时间周期来使所述第一光敏抗蚀剂层中的可热活化的交联剂活化。
10.根据权利要求9所述的方法，其中在步骤(e)中，将所述第一光敏抗蚀剂层的温度维持在所述可热活化的交联剂的活化温度以上的水平至少60分钟、优选地至少90分钟。
11.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(e)结束时，所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件在所述第二蚀刻剂物质中的可溶性小于在步骤(b)中未暴露的第一光敏抗蚀剂层在所述第二蚀刻剂物质中的可溶性。
12.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(c)和步骤(f)中，使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于基本上相同波长的辐射。
13.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(c)和步骤(f)中，使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于紫外线辐射。
14.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述可热活化的交联剂可操作以使羧酸基团(CO2H)交联，且在步骤(e)中，所述第一反应物物质与所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应，以产生羧酸基团(CO2H)。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述可热活化的交联剂包括碳二亚胺。
16.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(g)中，所述第一蚀刻剂物质和/或所述第二蚀刻剂物质包括碱性蚀刻剂，优选地氢氧化钠溶液。
17.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述衬底是衬底卷材，且在步骤(c)中，通过沿着一个运送路径传送所述衬底卷材来使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于所述辐射，且在暴露期间，以与所述衬底卷材基本上相同的速度、沿着所述运送路径的至少一部分移动位于所述衬底卷材旁边的图案化的掩膜，使得在所述掩膜和所述衬底卷材之间基本上没有相对移动。
18.根据权利要求17所述的方法，进一步包括在步骤(d)之后：
(d1)使所述衬底卷材干燥，优选地通过加热所述第一光敏抗蚀剂层；以及
(d2)使所述衬底卷材卷绕并且从所述运送路径移除；
由此离线地执行步骤(e)，优选地通过将经卷绕的衬底卷材放置在烤炉中离线地执行步骤(e)。
19.根据权利要求18所述的方法，进一步包括在步骤(e)之后：
(d3)使所述衬底卷材解绕回到所述运送路径上；
由此通过沿着与步骤(c)中相同的运送路径传送所述衬底卷材来执行步骤(f)，在步骤(c)中，在不存在所述图案化的掩膜的情况下使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于所述辐射。
20.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述第一蚀刻剂物质是碱性的，所述第一光敏抗蚀剂包含一种在暴露于辐射时，优选地在暴露于紫外线辐射时，在碱性条件下变得可溶的材料，且所述第一金属层包含一种在碱性条件下可溶的金属，优选地为铝、铝合金、铬或铬合金。
21.根据权利要求20所述的方法，其中所述第一光敏抗蚀剂包括重氮萘醌(DNQ)基抗蚀剂材料，优选地为1,2-萘醌二叠氮化物。
22.根据权利要求20或21所述的方法，其中所述光敏抗蚀剂进一步包括表面活性剂以及优选地粘合剂。
23.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，进一步包括在步骤(g)之后：
(h)将另一种蚀刻剂物质施加到所述衬底，以溶解所述第一光敏抗蚀剂层的剩余的第二图案元件。
24.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，进一步包括在所述衬底材料的第一表面或第二表面上设置一个颜色层，所述颜色层包括至少一种光学可检测的物质，所述光学可检测的物质横跨所述第一图案元件和所述第二图案元件而被设置在所述图案的至少一个区中，使得当从所述衬底卷材的一侧查看时，所述颜色层在位于所述第一金属层的第二图案元件之间的第一图案元件中被暴露。
25.根据权利要求24所述的方法，其中所述光学可检测的物质包括以下中的任何一种：
可见颜色的染料或颜料；以可见光谱或不可见光谱发射的冷光物质、磷光物质或荧光物质；
金属颜料；干涉层结构和干涉层颜料。
26.根据权利要求24或25所述的方法，其中通过印刷、涂覆或层压，可选地以多于一个的工作来施加所述颜色层，优选地通过以下中的任何一个：激光印刷、喷墨印刷、平版印刷、凹版印刷、柔性版印刷、凸版印刷或染料扩散热转移印刷。
27.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(a)中，所述金属化的衬底进一步包括一个过滤层，所述过滤层在所述第一表面上、位于所述衬底材料和所述金属层之间、横跨所述衬底的至少一个区域。
28.根据权利要求27所述的方法，进一步包括，在步骤(g)之后，施加另一种蚀刻剂物质，在所述另一种蚀刻剂物质中，所述过滤层比所述第一金属层或所述第一光敏抗蚀剂层更可溶，从而移除所述过滤层的位于所述第一图案元件中的部分。
29.根据权利要求27或28所述的方法，其中所述过滤层包括以下中的任一种：无色光学散射材料、有色光学散射材料和有色透亮材料。
30.根据权利要求27至29中的任一项所述的方法，其中所述过滤层包括横跨所述阵列在相应的横向偏移的区域中布置的多种光学不同的材料。
31.根据权利要求27至30中的任一项所述的方法，其中所述过滤层的厚度等于或小于所述第一图案元件或所述第二图案元件的最小横向尺度，优选地是所述第一图案元件或所述第二图案元件的最小横向尺度的一半或更小。
32.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(a)中，所述金属化的衬底在它的第一表面中具有光学可变效应生成浮雕结构，所述第一金属层在它的一侧或两侧上遵循所述浮雕结构的轮廓，其中所述光学可变效应生成浮雕结构优选地是衍射浮雕结构，最优选地是衍射光栅、全息图或kinegramTM。
33.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述第一图案元件和所述第二图案元件的图案包括具有一最小尺度的图案元件，所述最小尺度为50微米或更小、优选地30微米或更小、更优选地20微米或更小、仍优选地10微米或更小、最优选地5微米或更小。
34.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述第一图案元件和所述第二图案元件的图案在至少第一维度上是周期性的，且所述第一图案元件彼此基本上相同和/或所述第二图案元件彼此基本上相同。
35.根据权利要求34所述的方法，其中每个第一图案元件限定一个微缩图像，优选地为一个或多个字母、数字、徽标或另外的符号，所述微缩图像彼此基本上相同，且所述第二图案元件限定一个包围所述微缩图像的背景，或者每个第二图案元件限定一个微缩图像，优选地为一个或多个字母、数字、徽标或另外的符号，所述微缩图像彼此基本上相同，且所述第一图案元件限定一个包围所述微缩图像的背景。
36.根据权利要求35所述的方法，其中所述微缩图像以在第一维度上和在第二维度上具有周期性的网格图案布置，其中所述网格图案优选地被布置在一个正交网格或六边形网格上。
37.根据权利要求35或36所述的方法，其中每个微缩图像占据在至少一个维度上具有
50微米或更小、优选地30微米或更小、最优选地20微米或更小的尺寸的区域。
38.根据权利要求35至37中的任一项所述的方法，其中每个微缩图像具有10微米或更小、优选地5微米或更小、最优选地3微米或更小的线宽。
39.根据权利要求34所述的方法，其中所述第一图案元件和所述第二图案元件的图案是线图案，所述线图案在与所述线的方向垂直的第一维度上是周期性的，所述线图案优选地是笔直的平行线，且所述线的宽度优选地基本上等于所述线之间的间隔。
40.根据权利要求34所述的方法，其中所述第一图案元件和所述第二图案元件的图案是在第一维度上和在第二维度上具有周期性的网格图案，其中所述网格图案优选地布置在一个正交网格或六边形网格上，所述网格图案优选地具有根据网格布置的点，最优选地为正方形的点、矩形的点、圆形的点或多边形的点。
41.根据权利要求40所述的方法，其中所述网格图案是棋盘图案。
42.根据权利要求1至34中的任一项所述的方法，其中所述第一图案元件和所述第二图案元件的图案在至少第一维度上周期性地限定彼此交错的至少两个图像的区段，每个区段在至少第一维度上优选地具有50微米或更小、更优选地至少30微米或更小、最优选地20微米或更小的宽度。
43.根据权利要求17至19中的任一项所述的方法，其中所述图案化的掩膜被设置在一个图案化辊的圆周表面上，且所述运送路径包括所述图案化辊的圆周表面的至少一部分，且其中至少在所述光敏抗蚀剂层暴露于辐射期间，所述图案化辊旋转，使得所述图案化辊的圆周表面以与所述衬底卷材基本上相同的速度行进。
44.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述衬底是基本上透明的。
45.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在步骤(a)中，所述金属化的衬底在所述衬底材料的第二表面上进一步包括第二金属层，且所述方法进一步包括通过以下步骤制造第二图像图案：将第二光敏抗蚀剂层施加到所述第二金属层，以及在所述第二光敏抗蚀剂层上执行步骤(c)至步骤(g)，所述第二光敏抗蚀剂层包括在步骤(b)中限定的成分。
46.根据权利要求45所述的方法，其中所述第二金属层、所述第二光敏抗蚀剂层和相应的蚀刻剂物质分别具有与所述第一金属层、所述第一光敏抗蚀剂以及所述第一蚀刻剂物质和所述第二蚀刻剂物质相同的成分。
47.根据权利要求45或46所述的方法，其中所述第一图像图案和所述第二图像图案适于彼此协作，以表现出一个光学可变效应。
48.根据权利要求45至47中的任一项所述的方法，其中所述第一图像图案和所述第二图像图案彼此不同和/或彼此横向偏移。
49.根据权利要求45至48中的任一项所述的方法，其中通过相应的图案化的掩膜使所述第一光敏抗蚀剂层暴露的步骤和使所述第二光敏抗蚀剂层暴露的步骤彼此配准地执行，优选地同时执行。
50.一种制造安全装置的方法，包括：
(i)使用根据权利要求1至49中的任一项所述的方法制造第一图像图案；以及(ii)设置与所述第一图像图案重叠的查看部件；
其中所述第一图像图案和所述查看部件被配置为协作以生成一个光学可变效应。
51.根据权利要求50所述的方法，其中所述查看部件包括聚焦元件阵列。
52.根据权利要求51所述的方法，其中所述第一图案元件限定微缩图像且所述第二图案元件限定一个背景，或所述第二图案元件限定微缩图像且所述第一图案元件限定一个背景，使得所述图像图案包括一个微缩图像阵列，且所述聚焦元件阵列的节距和所述微缩图像阵列的节距以及所述聚焦元件阵列和所述微缩图像阵列的相对定向使得所述聚焦元件阵列与所述微缩图像阵列协作，以由于波纹效应而生成所述微缩图像阵列的放大型式。
53.根据权利要求51所述的方法，其中所述第一图案元件限定全都从不同的视点描绘相同的物品的微缩图像，且所述第二图案元件限定一个背景，或所述第二图案元件限定全都从不同的视点描绘相同的物品的微缩图像，且所述第一图案元件限定一个背景，使得所述图像图案包括一个微缩图像阵列，且所述聚焦元件阵列的节距和定向以及所述微缩图像阵列的节距和定向是相同的，从而所述聚焦元件阵列与所述微缩图像阵列协作，以生成所述物品的放大的、光学可变的型式。
54.根据权利要求51所述的方法，其中至少在第一方向上，所述聚焦元件阵列的周期性基本上等于所述图像图案的周期性或是所述图像图案的周期性的倍数，所述聚焦元件阵列被配置为使得每个聚焦元件能够根据视角从所述第一图案元件中的相应的一个或从位于所述第一图案元件之间的第二图案元件中的相应的一个导引光，由此根据视角，所述聚焦元件阵列从存在所述金属层的第二图案元件的阵列或从位于所述第二图案元件之间的、不存在所述金属层的第一图案元件导引光，使得当使所述装置倾斜时，在第一范围的视角下，所述金属层通过所述第一图案元件组合将光反射到查看者，且在第二范围的视角下，通过所述第一图案元件组合不将光反射到查看者。
55.根据权利要求54所述的方法，其中在步骤(i)中，根据权利要求24制造所述图像元件阵列，由此在所述第二图案元件中暴露所述颜色层，使得当使所述装置倾斜时，在第二范围的视角下，通过所述第二图案元件组合将所述颜色层显示给查看者，且在第一范围的视角下，通过所述第二图案元件组合不将所述颜色层显示给查看者。
56.根据权利要求51所述的方法，其中在步骤(i)中，根据权利要求42制造所述图像图案，且至少在所述第一方向上，所述聚焦元件阵列的周期性基本上等于由所述图案限定的至少两个图像的区段的周期性或是由所述图案限定的至少两个图像的区段的周期性的倍数，所述聚焦元件阵列被配置为使得每个聚焦元件能够根据视角从所述第一图像区段的相应的一个或从位于所述第一图像区段之间的所述第二图像区段中的相应的一个导引光，由此根据视角，所述聚焦元件阵列从所述第一图像区段的阵列或从位于所述第一图像区段之间的所述第二图像区段导引光，使得当使所述装置倾斜时，在第一范围的视角下，通过所述第一图像区段组合将所述第一图像显示给查看者，且在第二范围的视角下，通过所述第二图像区段将所述第二图像显示给查看者。
57.根据权利要求50至56中的任一项所述的方法，其中所述聚焦元件阵列至少在定向方面且优选地还在平移方面被配准到所述图像图案。
58.根据权利要求51至57中的任一项所述的方法，其中所述聚焦元件阵列包括适于在一个维度上使光聚焦的聚焦元件，优选地为圆柱形聚焦元件，或包括适于在至少两个正交的方向上使光聚焦的聚焦元件，优选地为球面聚焦元件或非球面聚焦元件。
59.根据权利要求51至58中的任一项所述的方法，其中所述聚焦元件阵列包括透镜或反射镜。
60.根据权利要求51至59中的任一项所述的方法，其中所述聚焦元件阵列具有5-200微米、优选地10-70微米、最优选地20-40微米范围内的一维周期性或二维周期性。
61.根据权利要求51至60中的任一项所述的方法，其中所述聚焦元件已经通过热压印处理或铸造固化复制处理形成。
62.根据权利要求51至61中的任一项所述的方法，其中所述金属层近似位于所述聚焦元件阵列的焦平面内，且如果设置一个颜色层，则至少在所述第二图案元件中，所述颜色层优选地也近似位于所述聚焦元件阵列的焦平面内。
63.根据权利要求51至62中的任一项所述的方法，其中对于沿着所述聚焦元件能够使光聚焦的方向的所有视角，每个聚焦元件的焦距基本上相同，优选地在+/-10微米内、更优选地在+/-5微米内。
64.根据权利要求50所述的方法，其中所述查看组件包括掩蔽网格或第二图像元件阵列。
65.一种用于安全装置的图像图案，所述图像图案是根据权利要求1至49中的任一项制造的。
66.一种安全装置，所述安全装置是根据权利要求50至64中的任一项制造的。
67.一种安全物品，包括根据权利要求66所述的安全装置，其中所述安全物品优选地是安全线、条、箔、插入物、转移元件、标签或补片。
68.一种安全票证，包括根据权利要求66所述的安全装置或根据权利要求67所述的安全物品，其中所述安全票证优选地是钞票、支票、护照、身份卡、驾驶执照、真实性证书、印花票税或用于固定价值或个人身份的其他票证。