(技术概要)
近年来伴随电气电子设备的功能的高度化和利用的增加，电磁噪 声干扰(EMI)增加。电磁波噪声大致区分有传导噪声和辐射噪声。
去除传导噪声的方法有使用噪声滤波器等的方法。去除辐射噪声 的方法有：为了将空间电磁绝缘而利用金属的框体、或在电路板间插 入金属板、用金属箔卷包电缆等的方法。这些方法在电路或电源区 (block)的电磁波屏蔽上有效果。可是，这些构件由于不透明，因 此不适合于从CRT和等离子显示面板(叫做PDP)等的显示器的正面 发生的电磁波的屏蔽。
等离子显示面板是具有数据电极和荧光层的玻璃和具有透明电极 的玻璃的组合体。当这样的等离子显示面板工作时，电磁波、近红外 线及热大量发生。
通常，为了屏蔽电磁波，在等离子显示面板的正面设置正面板。 作为从显示器正面发生的电磁波的屏蔽性，就30MHz-1GHz的电磁波 而言，30dB或以上的功能是必要的。
另外，从显示器正面发生的波长800-1100nm的近红外线也能使 其他的VTR等设备误工作。因此，近红外线也需要与电磁波同样地屏 蔽。
此外，为了易视认显示器上所显示的图象，电磁波屏蔽用的正面 板(片)，难以看到金属网的线条部，还没有网格的杂乱性、即具有 适度的透明性(可见光透过性、可见光透过率)是必要的。
此外，等离子显示面板一般地以大型画面为特征。因此，电磁波 屏蔽用片的大小(外形尺寸)例如37型竟有621×831mm，42型竟有 983×583mm，再大型的尺寸也有。因此，从电磁波屏蔽用片的制造到 向显示器的组装的各工序中，接地用框部和网部的边界易断线，即操 作适性极为不好。
(现有技术)
对电磁波屏蔽用的正面板(片)追求电磁波屏蔽性、适度的透明 性(可见光透过率)、和优异的操作适性。
为了提高显示图象的视认性，特开平5-283889号公报公开了一 种电磁波屏蔽材料，其包含基板、透明粘固层和网格图案状的化学镀 层，通过化学镀，化学镀层下的透明粘固层变成黑色图案部。
另外，特开昭61-15480号公报公开了在电磁波屏蔽片的金属网 表面形成氧化铜被膜，抑制外光的反射的方法。
另外，特开平09-293989号公报公开了：采用光刻胶法形成电磁 波屏蔽片的金属网时使用的黑色抗蚀剂，将网格开孔后使其原样不动 地残存，使网格的线条部变成黑色的方法。
此外，特开平10-335885号公报公开了将用光刻法在铜箔上形成 几何学图形的带铜箔的塑料膜积层在塑料板上的电磁波屏蔽构成体。
使用网状金属层的上述任何方法，都是金属网的线宽以恒定为目 标而作成。可是，实际上网部和接地用框部的边界部分的网及线的杂 乱的发生，特别是在运输时难以避免。另外，网部和接地用框部的边 界部分，刚度极端不连续地变化。因此，在从电磁波屏蔽用片的制造 工序到向显示器的装配、组合的各工序中，由于集中于该边界部分的 应力的作用而能发生弯曲或断线，即操作适性极为不好。因此存在浪 费高价部件的情况很多这一缺点。

本发明是为消除这样的问题而完成的。其目的是提供一种电磁波 屏蔽用片，其配置在CRT、PDP等显示器的正面，屏蔽从显示器发生 的电磁波，另一方面，没有网格的杂乱，能维持显示图象的良好的视 认性，并且即使是大型，在从制造到组装的全部工序中也不发生网格 线条的折断等的不良，操作适性优异。
本发明是一种电磁波屏蔽用片，其特征在于，具备透明基材、和 积层在上述透明基材的一个面上的金属层，上述金属层具有网状的网 部、包围上述网部的网状的网外周部、和包围上述网外周部的接地用 框部，构成上述网外周部的网格的线条的线宽度从网部向接地用框部 逐渐加宽。
本发明的电磁波屏蔽用片，配置在CRT、PDP等显示器的正面时， 屏蔽从该显示器发生的电磁波，另一方面，没有网的杂乱，能维持显 示图象的良好的视认性，并且即使是大型，在从制造到组装的全部工 序中也不发生网格线条的折断等的不良，即操作适性优异。
一般地，构成上述网部的网格的线条的线宽是一样的。
优选上述网外周部在从上述接地用框部向上述网部的方向含有1- 50个、特别优选1-25个网格。
或者，优选上述网外周部在从上述接地用框部向上述网部的方向 有0.15-15mm、特别优选0.3-7.5mm的宽幅。
另外，优选构成上述网外周部的网格的线条的线宽度从网部向接 地用框部连续地加宽。或者，优选构成上述网外周部的网格的线条的 线宽度从网部向接地用框部逐级地加宽。这些场合，操作适性极好， 防止了弯曲或永久弯曲，不会浪费高价的部件。
另外，优选上述金属层的至少一个面被黑化处理。在此情况下， 由于网自身变黑，因此也不需要印刷成黑色框缘状的工序，能够长期 维持显示图象的良好的视认性(防止画面的闪烁)。另外，在该情况 下，优选在上述金属层的至少被黑化处理的面上设置防锈层。
另外，优选上述网部及上述网外周部的至少网的开口部用树脂填 充，上述金属层实质上被平坦化。在此情况下，由于网的开口部的凹 凸被填埋，因此种种的作业性提高。
在该情况下，上述树脂优选含有吸收波长570-605nm的可见波段 的光的色彩校正用光线吸收剂、和/或吸收波长800-1100nm的近红外 波段的光的近红外线吸收剂。
另外，优选在至少一个面上设置吸收波长570-605nm的可见波段 的光的色彩校正用光线吸收剂层、和/或吸收波长800-1100nm的近红 外波段的光的近红外线吸收剂层。
本发明的电磁波屏蔽片能够将其基材面设置在PDP显示器侧。此 情况下，能够减少电极引出的工序和工时。
附图的简单说明
图1是本发明的一实施方案的电磁波屏蔽用片的平面图。
图2是示意地表示本发明的一实施方案的电磁波屏蔽用片的一部 分的斜视图。
图3(A)是图2的A-A线截面图，图3(B)是图2的B-B线截 面图。
图4是说明导电材料层的构成的截面图。
图5(A)是说明从卷绕辊开始的加工的平面图，图5(B)是其 侧面图。
图6是本发明的一实施方案的网外周部的一部分的放大平面图。
图7是贴合在显示器面的本发明的一实施方案的电磁波屏蔽用片 的截面图。
实施发明的最佳方案
以下关于本发明的实施方案参照附图详细说明。
(整体的构成)
图1是本发明的一实施方案的电磁波屏蔽用片的平面图。图2是 示意地表示本发明的一实施方案的电磁波屏蔽用片的一部分的斜视 图。
如图1所示，本发明的一实施方案的电磁波屏蔽用片1，具备存 在于内侧中心部的网部103和存在于最外周部的接地用框部101。接 地用框部101，当设置在显示器上的场合，采取接地。
在网部103，如图2所示，在基材11的一个面上通过粘结剂层13 积层着导电材料层109。该导电材料层109是稠密地形成多个开口部 105的网状。各网利用构成开口部105的框的线部107构成。线部107 的宽度称为线宽W，线与线的间隔称为间距P。
在网部103和接地用框部101之间配置着网外周部104。网外周 部104也是与网部103大致相同的网状，但网外周部104的各网格的 线条的线宽度从网部103向接地用框部101逐渐地加宽。
(层的构成)
图3(A)是图2的A-A线截面图，图3(B)是图2的B-B线截 面图。图4是说明导电材料层的构成的截面图。
图3(A)表示出横截开口部的截面，开口部105和线107交替地 显现。图3(B)表示出纵截线107的截面，包含导电材料层109的线 107连续地显现。导电材料层109具有金属层21，对至少其观察面、 本实施方案中为两面，进行黑化处理。而且，设置了防锈层25A及25B 使之覆盖被黑化处理的面23A及23B。防锈层只设置在至少黑化处理 过的面上即可。
防锈层25A、25B具有对金属层21及其被黑化处理的面23A、23B 的防锈功能，且也防止被黑化处理的面23A、23B脱落。另外，在蚀 刻加工金属层21形成网时，通过蚀刻而使与基材11邻接的防锈层25A 在开口部105处也残留，防锈层25A也保护基材11和粘结剂层13免 于蚀刻液之害。任选在金属层21的另一个面设置黑化处理的面23B 及防锈层25B。即，在两面设置黑化处理的面23A、23B及防锈层25A、 25B是任意的。总之，优选至少在观察侧设置黑化处理的面及防锈层， 以及，在基材11侧整个面(相应于开口部、线部)上设置防锈层25A。
(发明的要点)
本发明的电磁波屏蔽用片1，在网部103和接地用框部101之间 设置着网外周部104。网外周部104中网格的线条107的直线部处的 线宽度W从网部103向接地用框部101逐渐地变大。
形成网外周部104的区域，从接地用框部101的内周向网部103， 为1-50个网格或0.15-15mm左右、优选1-25个网格或0.3-7.5mm、 进一步优选3-20个网格或1.5-6.0mm的部分。
线宽度连续地(参看图6)或逐级地(参看图1)变大。线宽度 逐级地变大的场合，可以象图1那样是1级，但为了有效地分散应力 集中，优选是2级或以上。
通过使网外周部104的线107的线宽度W从网部103向接地用框 部101逐渐地变大，从网部到接地用框部刚度缓慢地变化。即，在过 去为极端的刚度变化被大幅度缓和。据此，在从该电磁波屏蔽用片的 制造工序到向显示器的装配、组合工序的各工序中，操作适性极好。 即，防止了弯曲或永久弯曲的发生，在接地用框部和网部的边界部分 等处也防止了发生网格的断线，不会浪费高价的部件。
等离子显示面板以大型画面为特征。因此，电磁波屏蔽用片的大 小(外形尺寸)例如37型竟有620×830mm左右，42型竟有580×980mm 左右，更大型的尺寸也有。因此，从电磁波屏蔽用片的制造工序到向 显示器的装配、组合工序的各工序中，操作适性极为重要。过去的电 磁波屏蔽用片在接地用框部和网部的边界部分处断线、或弯曲，往往 浪费了高价的部件。
在本说明书中，说明将本发明的电磁波屏蔽用片主要用于CRT、PDP 等显示器上的情况，但本发明的电磁波屏蔽用片也能够用于屏蔽来自 显示器以外的装置的电磁波的用途中。
(制造方法的概要)
首先，准备至少在观察侧设置了黑化处理面及防锈层的导电材料 层109。该导电材料层109通过粘结剂层13积层在透明膜状的基材11 的一个面上。其后，在导电材料层109上网格图案状地设置抗蚀剂层。 未用抗蚀剂层覆盖的部分的导电材料层109通过蚀刻而去除，其后去 除抗蚀剂层(所谓的光刻法)。
本实施方案的电磁波屏蔽用片1，可使用已有的阴影掩模等片状 构件的蚀刻设备来制造。另外，由于能够连续地进行多个制造工序， 因此品质及合格率高，另外生产效率也高。
以下说明本实施方案的电磁波屏蔽用片1的各层的材料及形成方 法。
(导电材料层)
在本实施方案的电磁波屏蔽用片的导电材料部109中，金属层21 的至少一个面被黑化处理，变成黑化处理面23A和/或23B，而且，在 该黑化处理面23A和/或23B上设置着防锈层25A和/或25B。
导电材料部109通过粘结剂与包含透明膜的基材11积层。在积 层之后采用光刻法使导电材料部109加工成网状。根据需要金属层侧 被平坦化，进一步根据需要设置吸收特定波长的可见光线和/或近红 外线的光线吸收剂层。
当将具有这样的导电材料部109的电磁波屏蔽用片配置在显示器 的正面时，从显示器发生的电磁波被屏蔽，另一方面没有网格浓淡不 匀，黑或白的点状线状缺陷极少，具有适度的透明性，即能够维持显 示器所显示的图象的良好的视认性。
作为屏蔽电磁波的导电材料层109，例如利用金、银、铜、铁、 铝、镍、铬等具有能够充分屏蔽电磁波的程度的导电性的金属层21。 金属层21不仅可以是单质，还可以是合金或多层。作为金属层21， 在铁的场合，优选低碳沸腾钢和低碳铝镇静钢等的低碳钢、Ni-Fe合 金、殷钢。另外，在进行阴极淀积的场合，从淀积的容易度考虑，优 选铜或铜合金箔。作为铜合金箔，可使用轧制铜箔或电解铜箔，但从 厚度的均一性、与黑化处理和/或铬酸盐(处理)层的粘附性、以及 能进行10μm或以下的薄膜化的方面考虑，优选电解铜箔。
金属层21的厚度为1-100μm左右，优选是5-20μm。为该值或 以下的厚度时，光刻法的网加工变得容易，但金属的电阻值增加，损 害电磁波屏蔽效果。另一方面，为该值或以上的厚度时，得不到所要 求的高精细的网格形状，其结果，实质的开口率变低，光线透射率降 低，而且视角也降低，图象的视认性降低。
作为金属层21的表面粗糙度，优选Rz值为0.5-10μm。所谓表 面粗糙度Rz，是依据JIS-B0601而测定的10点的平均值。在该值以 下时，即使黑化处理，也镜面反射外界光，使图象的视认性变差。在 该值以上时，在涂布粘结剂或抗蚀剂等时，未遍及表面整体、或发生 气泡。
(黑化处理)
为了吸收入射到电磁波屏蔽用片1的网部表面上的室外的太阳 光、室内的电灯光等外光，提高显示器的图象的视认性，对网状导电 材料部109的观察侧进行黑化处理。据此反差增大。
黑化处理通过粗化和/或黑化金属层面来进行。具体讲，可适用 形成金属氧化物或金属硫化物等等的种种的方法。
在铁的场合，通常在蒸汽中在450-470℃左右的温度暴露10-20 分钟，形成1-2μm左右的氧化膜(黑化膜)。或者，也可以通过浓 硝酸等的药品处理来形成氧化膜(黑化膜)。
另外，在铜箔的场合，优选在包含硫酸、硫酸铜及硫酸钴等的电 解液中进行阴极电解处理，进行使阳离子性粒子附着的阴极淀积。通 过使阳离子性粒子附着，在实现粗化的同时得到黑色。作为阳离子性 粒子，可适用铜粒子、铜与其他金属的合金粒子等，但优选是铜-钴 合金的粒子。
在本说明书中将粗化处理及黑色化处理合在一起，将导电构件表 面的光吸收产生的防止光反射的处理叫做黑化处理。
黑化处理的优选黑色密度是0.6或以上。作为黑色密度的测定方 法，使用“COLOR CONTROL SYSTEM”的“GRETAG SPM100-11”(キモ ト公司制，商品名)，在观察视角10度、观察光源D50、作为照明类 型设定成“密度标准ANSI T”的条件下在白色校准后测定试验片。
另外，作为黑化处理的光线反射率，优选5％或以下。光线反射率 依据JIS-K7105使用浊度计HM150(村上色彩公司制，商品名)测定。
(合金粒子)
作为上述阳离子性粒子，可适用铜粒子、铜与其他金属的合金粒 子等，但优选是铜-钴合金的粒子。
当使用铜-钴合金的粒子时，黑化的程度显著提高，能够很好地 吸收可见光。作为评价电磁波屏蔽用片的视认性的光学特性，色调用 依据JIS-Z8729的色度体系“L*、a*、b*、ΔE*”表示。该“a*”及 “b*”的各绝对值小时，导电材料部109成为不可视认的，图象的反 差提高，作为结果图象的视认性优异。使用铜-钴合金的粒子时，与 铜粒子比较，能使“a*”及“b*”小，大致接近于0。
另外，铜-钴合金粒子的平均粒径优选0.1-1μm。当使铜-钴合金 粒子的粒径增大至该值以上时，金属箔21的厚度变薄，在与基材11 积层的工序中铜箔发生断裂等，加工性恶化，另外，密集粒子的外观 致密度欠缺，不匀性明显。另一方面，为该值以下的粒径时，粗化不 足，因此光吸收产生的防止外光反射的效果不足，图象的视认性变坏。
(防锈层)
为了赋予金属层21和/或黑化处理面23A、23B以防锈功能及黑 化处理面的脱落或变形的防止功能，至少在具有黑化处理面的金属箔 面设置防锈层25A和/或25B。作为防锈层25A、25B，可适用镍、锌、 和/或铜的氧化物、或者铬酸盐处理层。镍、锌、和/或铜的氧化物的 形成用公知的镀覆法即可。作为其厚度是0.001-1μm左右，优选是 0.001-0.1μm。
(铬酸盐)
铬酸盐处理，在被处理材上涂布铬酸盐处理液而进行。作为该涂 布方法，可适用辊涂法、幕式淋涂法、挤压涂法、静电雾化法、浸渍 法等。涂布后不水洗就干燥即可。例如，对被处理材的单面实施铬酸 盐处理的场合，采用辊涂等在该单面涂布铬酸盐处理液，对两面实施 的场合，可利用浸渍法。作为铬酸盐处理液，通常使用含有3g/L的CrO2 的水溶液。这之外，也能够使用添加与铬酸酐水溶液不同的羟基羧酸 化合物，将6价铬的一部分还原成3价铬的铬酸盐处理液。
根据6价铬的附着量多少，而着色成从淡黄色至黄褐色，但3价 铬自身是无色。因此如果控制3价铬和6价铬，则得到实用上没有问 题的透明性。
作为羟基羧酸化合物，可单独或并用地使用酒石酸、丙二酸、柠 檬酸、乳酸、乙醇酸、甘油酸、托品酸、二苯乙醇酸、羟基戊酸等。 由于还原性因化合物而异，因此添加量基于对3价铬的还原性而决定。
具体讲，可利用アルサ-フ1000(日本ペイント公司制，铬酸盐 处理剂商品名)、PM-284(日本パ-カライジング公司制，铬酸盐处 理液商品名)等。在黑化处理面(层)上实施铬酸盐处理的场合，在 获得防锈效果基础上还获得黑化处理加强效果。
黑化处理面及防锈面设置在观察侧的场合，使反差提高，使显示 器的图象的视认性良好。另一方面，即设置在显示器面侧的场合，抑 制从显示器产生的杂散光，仍然提高图象的视认性。
(基材)
作为基材11的材料，如果有满足使用条件和制造上的条件的透 明性、绝缘性、耐热性、机械强度等，则可适用种种的材料。例如可 利用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙 二醇酯、聚对苯二甲酸·间苯二甲酸乙二醇酯共聚物、对苯二甲酸·环 己烷二甲醇·乙二醇共聚物、聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚萘二甲酸乙 二醇酯的共挤出膜等的聚酯系树脂、尼龙6、尼龙66、尼龙610等的 聚酰胺系树脂、聚丙烯、聚甲基戊烯等的聚烯烃系树脂、聚氯乙烯等 的乙烯基系树脂、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯 等的丙烯酸系树脂、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺等的酰亚 胺系树脂、多芳基化合物、聚砜、聚醚砜、聚苯醚、聚苯硫醚(PPS)、 聚芳酰胺、聚醚酮、聚醚腈、聚醚醚酮、聚醚亚硫酸酯等的工程树脂、 聚碳酸酯、聚苯乙烯树脂等的苯乙烯系树脂等。
基材11也可以是以这些树脂为主成分的共聚树脂、或者混合体 (包括合金)、或者包含多个层的叠层体。基材11可以是拉伸膜也 可以是未拉伸膜，但出于提高强度的目的，优选在单轴方向或双轴方 向拉伸过的膜。基材11的厚度通常可适用12-1000μm左右，但优选 50-700μm，最优选100-500μm。为该值以下的厚度时，机械强度不 足，发生翘曲或松弛等，为该值以上的厚度时，达到过剩的性能，成 本上也浪费。
基材11采用包含这些树脂的至少1层的膜、片、板等形成，将 这些形态在本说明书中统称为膜。通常聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘 二甲酸乙二醇酯等的聚酯系膜由于透明性、耐热性好，成本也低廉， 因此被优选使用。最优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。另外，透明性越高 越好，优选可见光线透过率为80％或以上。
基材膜，在涂布粘结剂之前，可对该涂布面进行电晕放电处理、 等离子处理、臭氧处理、火焰处理、打底(也称为粘固涂层、粘结促 进剂、增粘结剂)涂布处理、预热处理、除尘处理、蒸镀处理、碱处 理等增粘结处理。在该树脂膜中可根据需要加入填充剂、增塑剂、防 带电剂等添加剂。
(积层法)
作为基材11和导电材料层109的积层(也叫层压)法，在基材11 或导电材料层109的一方、或两方上涂布粘结剂或粘合剂，根据需要 干燥，在加热或不加热的状态下加压。其后，可根据需要在30-80℃ 的温度下进行熟化(养护)。另外，基材11自身，或者基材11包含 多个层的场合，与导电材料层109的积层面，例如如果是离聚物树脂、 乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚 物等的热粘结性树脂则在加热下只加热即可。此情况下，可省略粘结 剂层13。
另外，也可以在基材11上采用化学镀、化学镀和电解镀并用、 蒸镀等方法直接形成导电材料层109。该场合也可省略粘结剂层13。
(粘结剂)
作为粘结剂不特别限定，例如可利用丙烯酸树脂、聚酯树脂、氨 酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚树脂等。优选使用蚀刻液导致的染 色或劣化少、加工适性好的热固型树脂、本领域人员称为干式层压法 的方法。而且，也优选使用采用紫外线(UV)等电离辐射线固化(反 应)的UV固化型树脂。
(干式层压)
所谓干式层压法，是将涂布了在内部分散或溶解有粘结剂的溶剂 并干燥的贴合基材重叠积层，在30-120℃熟化几小时至几天，由此使 粘结剂固化，使2种材料积层的方法。
改良了干式层压法的非溶剂层压法也可被利用。这是将涂布了未 分散或溶解到溶剂中的粘结剂自身并干燥的贴合基材重叠积层，在 30-120℃熟化几小时至几天，由此使粘结剂固化，使2种材料积层的 方法。
作为在干式层压法或非溶剂层压法中使用的粘结剂，可适用采用 热或紫外线·电子射线等的电离辐射线固化的粘结剂。作为热固化粘 结剂，具体地可适用2液固化型粘结剂、例如包含丙烯酸氨酯系树脂、 聚酯氨酯系树脂、聚醚氨酯系树脂等的氨酯系粘结剂、丙烯酸系粘结 剂、聚酯系粘结剂、聚酰胺系粘结剂、聚乙酸乙烯酯系粘结剂、环氧 系粘结剂、橡胶系粘结剂等，但优选2液固化型氨酯系粘结剂。
作为2液固化型氨酯系树脂，具体地例如可使用由多官能异氰酸 酯与含羟基化合物(多元醇)的反应而得到的聚合物。具体讲，例如 作为多官能异氰酸酯，可使用甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸 酯、多亚甲基多亚苯基多异氰酸酯等的芳香族多异氰酸酯、或者六亚 甲基二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等的脂肪 族(或脂环族)多异氰酸酯等的多官能异氰酸酯。作为这些多异氰酸 酯，也能够使用上述异氰酸酯的多聚物(三聚物等)或加成体。另外， 作为含羟基化合物，可使用聚醚系多元醇、聚酯系多元醇、聚丙烯酸 酯多元醇等的含羟基化合物。能够使用通过这些多官能异氰酸酯与含 羟基化合物的反应而得到的2液型氨酯系树脂。
可优选使用没有蚀刻液导致的染色、劣化、并配合了用苯乙烯- 马来酸共聚物改性的聚酯聚氨酯和脂肪族多异氰酸酯的粘结剂。
在干式层压法中，将以这些物质为主成分的粘结剂组合物向有机 溶剂溶解或分散，将其利用例如辊涂、逆辊涂布、凹槽辊涂布、凹槽 辊逆涂布、转移式槽辊涂布、吻涂布、绕线棒涂布、comma涂布、刮 刀涂布、浸渍涂布、淋涂布、喷涂等涂布法涂布在基材上，通过干燥 溶剂等，能够形成层压用粘着层。优选使用辊涂布或者逆辊涂布法。
粘着层的膜厚在干燥状态下是0.1-20μm左右，优选是1-10μm。 粘着层一形成就立即积层贴合基材，通过在30-120℃熟化几小时至几 天，使粘结剂固化。据此基材被粘着。粘结剂的涂布面可以是基材侧、 导电材料部侧的任1个。优选为经粗化的铜箔侧。此情况下，粘结剂 遍及粗化面的整体，气泡的发生被抑制。
非溶剂层压法基本上与干式层压法同样，但粘结剂组合物未向有 机溶剂溶解或分散，直接地使用。尤其是为了根据需要使粘度降低， 也有时粘结剂组合物被加热加温。
(粘合剂)
作为粘合剂，可适用感压而粘结的公知粘合剂。作为粘合剂不特 别限定，例如能够适用天然橡胶系、丁基橡胶、聚异戊二烯、聚异丁 烯、聚氯丁二烯、苯乙烯-丁二烯共聚树脂等的合成橡胶系树脂、二 甲基聚硅氧烷等的硅氧烷系树脂、丙烯酸系树脂、聚乙酸乙烯酯、乙 烯·乙酸乙烯酯共聚物等的乙酸乙烯酯系树脂、氨酯系树脂、丙烯腈、 烃树脂、烷基酚树脂、松香、松香甘油三酸酯、氢化松香等的松香系 树脂。
(橡胶系粘合剂)
在此，作为橡胶系粘合剂，在氯丁橡胶、丁腈橡胶、丙烯酸橡胶、 苯乙烯丁二烯橡胶、苯乙烯异戊二烯苯乙烯、苯乙烯丁二烯苯乙烯、 苯乙烯乙烯丁二烯苯乙烯、丁基橡胶、聚异丁烯橡胶、天然橡胶、聚 异戊二烯橡胶等的粘结橡胶的一个或多个中配合了酚系树脂、改性酚 树脂、酮树脂、醇酸树脂、松香系树脂、香豆酮树脂、苯乙烯系树脂、 石油树脂、氯乙烯系树脂等的增粘材料的一个或多个的粘合剂是有效 的。
橡胶系粘合剂，与丙烯酸系粘结材料比较，耐药品性、耐膨润性、 耐温度性、粘合性、以及剥离强度优异。因此，粘结部分即使暴露在 酸性或碱性的物质中也不发生剥离。另外，橡胶系粘合材料在酸性或 碱性的药液中几乎不发生水解，粘合寿命长。
(粘合剂层的形成)
这些树脂或这些混合物被制成乳胶、水分散液或有机溶剂溶液， 用丝网印刷或comma涂布等的公知印刷法或涂布法印刷或涂布在一方 材料上。该材料根据需要干燥后与另一材料重叠并加压。
(从卷绕辊开始的加工)
图5(A)及图5(B)是说明从卷绕辊开始的加工的平面图及侧 面图。详细情况是，图5(A)是平面图，表示从卷绕辊解绕而展开的 状态，电磁波屏蔽用片1以一定间隔配置着。图5(B)是侧面图，表 示从卷绕辊解绕而展开的状态，导电材料层109积层在基材11上。
作为具体的积层方法，首先在从卷绕辊展开的导电材料层109上 形成上述的黑化处理面及防锈层。在防锈层上涂布粘结剂并干燥之 后，重叠基材11并加压。而且，根据需要在30-80℃的气氛中进行几 小时至几天的熟化(养生、硬化)，再卷绕而卷绕成滚筒状。
(光刻法)
在上述叠层体的导电材料层面网格图案状地设置抗蚀剂层，通过 蚀刻法除去不被抗蚀剂层覆盖的部分的导电材料层，其后，去除抗蚀 剂层(光刻法)。由此，导电材料层成为网状。
如前述，基材11和导电材料层109叠层体的导电材料层109采 用光刻法形成网状。该工序也对卷绕成滚筒状的带状叠层体进行。即， 叠层体不松弛而展开，一边连续或间歇地输送，一边实施掩蔽、蚀刻、 抗蚀剂剥离的各处理。
(掩蔽)
例如感光性抗蚀剂涂布在导电材料层109上。在干燥后，以规定 的图形(网的线部)的版(光掩模)接触式曝光，进行水显象，实施 硬膜处理等，焙烤。
关于抗蚀剂的涂布，一边连续或间歇地输送展开的带状叠层体(基 材11和导电材料层109)，一边向导电材料层109面用浸渍、幕式淋 涂布、浇涂(掛け流し)等的方法涂布酪蛋白、PVA、明胶等抗蚀剂。 另外，代替涂布抗蚀剂，也可以使用干抗蚀剂膜。此情况下，作业性 能够提高。酪蛋白抗蚀剂的场合，焙烤在200-300℃进行。尤其是为 了防止叠层体的翘曲，该温度优选尽量低的温度。
(蚀刻)
掩蔽后进行蚀刻。作为在蚀刻中使用的蚀刻液，在连续进行蚀刻 的本发明中，优选可容易循环使用的氯化亚铁或氯化亚铜的溶液。另 外，该蚀刻工序是基本上与制造蚀刻带状连续的厚度20-80μm的薄 板的彩色TV阴极射线管用的阴影掩模的工序同样的工序。因此，可 借用制造该阴影掩模的已有设备从掩蔽到蚀刻直接地连续实施，效率 极好。蚀刻后，进行水洗、采用碱液剥离抗蚀剂、洗涤，其后干燥。
(网)
网部103具有用线107包围的多个开口部105。开口部105的形 状不特别限定，例如可适用正三角形、等腰三角形等三角形、正方形、 长方形、菱形、梯形等四边形、五边形、六边形、八边形等多边形、 圆形、椭圆形等。这些开口部多个组合成为网状。
从开口率、网的非视认性、及图象的视认性考虑，网部103的线 107直线部处的宽度W定为规定值±30％的范围内。另外，连结与透明 基板正交的线截面形状中上底和下底的侧壁面部的曲率半径为上述导 电材料层厚度的1.5-3.0倍。优选网部103的线宽度W为从5-25μm 范围内选择的恒定值，线间的间距为从150-500μm范围内选择的恒 定值。另外，关于在网部103的外周构成网外周部104的1-50个网 格的部分、或者0.15-15mm的部分，如后述，向着接地用外框101方 向线宽度逐渐扩大。
通常，在大型的等离子显示板用的电磁波屏蔽用片上形成几千条 或以上的直线线条，并且分别相交。通过抑制该线的线宽度偏差，且 规定连结线截面形状中上底和下底的侧壁面的曲率半径，能够得到在 具有电磁波屏蔽性和适度的透明性的基础上，网格浓淡不匀少、黑和 白的点状及线状缺陷少、显示光的闪烁少、外光反射也被抑制的具有 优异的图象视认性的电磁波屏蔽用片1。
线宽度的偏差例如线宽度是14μm的场合，抑制在14±4.2μm， 即9.8-18.2μm。如果为该范围内，则几乎不发生网格浓淡不匀、黑 和/或白的点状及线状缺陷。如果线宽度有该值以上的宽度，则产生 网格浓淡不匀。另外，在线宽度的偏差大的场合，人们观察显示图象 时，线宽度宽的部分可视认成黑点缺陷，线宽度窄的部分可视认成白 点缺陷。对于整体的图象零星地有白点和/或黑点时，人们感到极强 的不舒服感。
可是，根据本实施方案的电磁波屏蔽用片，通过利用连续光刻法， 使线宽度的偏差在规定的范围，因此网格浓淡不匀的发生极少，而且 电磁波屏蔽性及透明性没有问题。另外，网格浓淡不匀或黑和/或白 的点状及线状缺陷，在涂布抗蚀剂时抗蚀剂液的飞沫附着在不需要的 部分上时也发生，但在连续光刻法中，发生那样的现象极为稀少。
另外，线宽度的控制方案，网部103和网外周部104存在不同。 网外周部104中线条107的直线部处线宽度W被控制成向着接地用框 部101逐渐变大。
网外周部104位于网部103和接地用框部101之间，使之包围网 部103。即，从接地用框部101的内周向着网部103的中心部的1-50 个网格、或者0.15-15mm左右、优选1-25个网格、或者0.3-7.5mm、 进一步优选3-20个网格、或者1.5-6.0mm成为网外周部104。
网外周部104具有在此以上的区域的场合，在显示器周边视认出 阴影状框，感觉图象小，另外图象的视认性还降低。另一方面，网外 周部104只具有小于此的区域的场合，网格线条的刚度变化依然过于 剧烈，可发生线条的弯曲等。作为线宽度逐渐加宽的方案，可以沿着 多个开口部105(单元格)连续地加宽，或者每个开口部105(单元 格)可以逐级地加宽。
图6是本实施方案的网外周部104的一部分的放大平面图。
网部103的规定的线部107的线宽度是W，向着接地用框部101， 网外周部104的线宽度W1、W2、W3、～、Wi、～、Wn为W＜W1＜W2＜W3＜～ ＜Wi＜～＜Wn。
在线宽度连续地逐渐加宽的方案中，各线宽度W1、W2、W3、～Wn 连续加宽。即，例如对应于1个单元格的线宽度Wi(i＝1、…、n) 自身逐渐加宽。
另一方面，在线宽度逐级地加宽的方案中，例如对应于1个单元 格的线宽度Wn自身是同一宽度。此情况下，加宽的级数n是1或以 上，但优选是2或以上，多级地分散集中于网部103周边的应力。
例如图6的例子是n＝5、以1个单元格为单位逐级加宽的情况。 另外，线宽度的加宽方案，不需要在全部的线中相同，也可以对每个 线改变W1、W2、W3、～Wn。
作为实现这样的逐渐加宽的线宽度的方法，将在导电材料层109 上贴合干抗蚀剂，或者涂布感光性抗蚀剂，干燥后用于接触式曝光中 的图案版上的图案变更成那种所要求的图案即可。所谓图案版相当于 本领域从业人员所称呼的制版膜，感光性抗蚀剂为负型(曝光部分固 化而残留)的场合，它是与开口部105相当的部分不透明，与线107 相当的部分为透明的制版膜(线的负膜)。感光性抗蚀剂为正型(未 曝光部分残留)的场合，制版膜为正膜。在该图案版中，与线相当的 部分的宽度，在对应于网部103的区域中记为规定的线宽度W，在与 其周边的网外周部104对应的区域中，向着接地用框部101逐渐成为 (W＜)W1＜W2＜W3＜～＜Wn即可。
另外，线与电磁波屏蔽用片的端部的边(下部面)构成的倾角在 图1的例子中是45度，但不限于此，为了消除网纹等，可考虑显示 器象素和发光特性适宜选择。
(平坦化)
一形成网，网的线部107就具有导电材料层的厚度，但开口部105 去除导电材料层成为凹部。即，导电材料部109为凹凸状态。在下道 工序中涂布粘结剂或粘合剂的场合，上述凹凸用该粘结剂等填埋。可 是，那时，该凹部的空气未完全用粘结剂等置换，而易以气泡形式残 存。当残留气泡时，在气泡与粘结剂的界面光散射，浊度(雾值)变 高。为了防止该问题，优选在粘结之前预先用透明树脂填充上述凹部 进行平坦化。
作为平坦化，透明树脂涂布在凹部而埋入，但透明树脂未侵入到 凹部的各角落时，气泡残留，透明性劣化。为此，透明树脂用溶剂等 稀释以低粘度涂布并干燥，或一边脱除空气一边涂布。如以上那样形 成平坦化层29(参看图7、或者图3)。
平坦化层29优选是透明性高、与网的导电材料的粘结性好、且 与下个工序的粘结剂的粘结性好的。但是，当在平坦化层29的表面 有突起、凹陷、不匀时，在电磁波屏蔽片1设置显示器正面时，发生 网纹、干涉条纹、牛顿环等，故不优选。作为优选的方法，在涂布作 为树脂的热固化树脂或紫外线固化树脂后，积层平面性优异、有剥离 性的基材，用热或紫外线使先涂布的树脂固化，剥离剥离性基材并去 除。此情况下，在平坦化层29的表面转印平面性基材的表面，形成 平滑的面。
作为为形成平坦化层29而使用的树脂，不特别限定，可适用各 种的天然或合成树脂、热固化树脂或电离辐射线固化树脂等。尤其从 树脂的耐久性、涂布性、平坦化的容易度、平面性等考虑，优选丙烯 酸系的紫外线固化树脂。
(NIR吸收剂)
而且，在为形成平坦化层29而使用的树脂中也可以添加吸收可 见和/或近红外的特定波长的光线吸收剂。通过吸收可见和/或近红外 线的特定波长，不愉快感被抑制，图象的视认性提高。在此，所谓近 红外的特定波长波段是780-1200nm左右，特别是800-1100nm左右的 波段。优选吸收780-1200nm的波段的80％或以上。
作为近红外线吸收剂(叫做NIR吸收剂)，不特定限定，可适用 在近红外线区有急剧的吸收，可见光区380-780nm的光透过性高、且 在可见光区没有特定波长的大的吸收的色素等。
另外，作为从PDP发射的可见光，通常作为氖原子的发光光谱的 橙色多，因此图象色调比天然色移向橙色。为了校正之，优选添加具 有某种程度地吸收波长570-605nm附近的特性的色彩校正用光线吸收 剂。
作为近红外线吸收剂，有花青系化合物、酞菁系化合物、 naphthalocyanine系化合物、萘醌系化合物、蒽醌系化合物、二硫酚 系配合物、immonium系化合物、diimmonium系化合物等。
作为色彩校正用光线吸收剂有酞菁系化合物等。
(NIR吸收层)
代替向平坦化层29添加NIR吸收剂，也可以在至少一个面上设 置具有NIR吸收剂的另外的层(叫做NIR吸收层)。
NIR吸收层可设置在平坦化层29侧和/或相反侧的基材11侧。设 置在平坦化层29侧的场合，是图3所示的NIR吸收层31B，设置在基 材11侧的场合，是图3所示的NIR吸收层31A。NIR吸收层31B及NIR 吸收层31A，用粘结剂积层具有NIR吸收剂的市售膜(例如东洋纺绩 公司制，商品名No2832)、或使粘合剂含有NIR吸收剂并涂布而得到。 作为粘合剂可适用聚酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、和用热或紫 外线等固化的、利用环氧、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、异氰酸酯基等 的反应的固化型树脂等。另外，关于色彩校正用光线吸收剂也同样地 能够以与平坦化层29独立的层的形式积层。
(AR层)
而且，虽未图示，但可在电磁波屏蔽用片的观察侧设置防反射层 (叫做AR层)。防反射层是防止可见光线反射的层，市场销售单层 和多层的种种的防反射层。多层的防反射层交替地积层了高折射率层 和低折射率层。作为高折射率层，有氧化铌、氧化钛、氧化锆、ITO 等。作为低折射率层，有氧化硅、氟化镁等。另外，也有具有有乱反 射外光的微细凹凸表面的层的防反射层。
(硬涂层、防污层、防眩层)
而且，除防反射(AR)层之外，还可设置硬涂层、防污层、防眩 层。硬涂层是在JIS-K5400的铅笔硬度试验中具有H或以上的硬度的 层，可以是用热或电离辐射线使聚酯丙烯酸酯、氨酯丙烯酸酯、环氧 丙烯酸酯等的多官能丙烯酸酯固化的层。防污层是疏水性、疏油性的 涂层，可适用硅氧烷系、氟代烷基甲硅烷基化合物等。防眩层是具有 乱反射外光的微细凹凸表面的层。
(片化)
切割如以上那样以连续的带状状态制造的积层构件，得到单片的 电磁波屏蔽用片1。电磁波屏蔽用片1贴合在玻璃等透明基板上。根 据需要与NIR吸收层、AR层、硬涂层、防污层、防眩层组合，成为显 示器正面板。
作为上述基板，在大型显示器用时，使用厚度1-10mm的具有充 分刚性的基板。另外，在字符显示器等小型的显示器用时，使用厚度 0.01-0.5mm的塑料膜。即，根据显示器的大小和用途，上述基板可适 宜选择。在此，电磁波屏蔽用片1一旦作为显示器正面板组合后，设 置在显示器的正面上。为此，基材11侧成为观察侧。可是，电磁波 屏蔽用片1也可以直接贴合在显示器的正面。
(直接贴合)
图7是贴合在显示器面的本发明的电磁波屏蔽用片的截面图。在 该情况下，呈网状的金属箔侧成为观察侧，在金属箔的两面顺序设置 着黑化处理面和防锈层。此情况下，由于接地用框部101向外侧露出， 因此易引出电极，易取得接地。另外，由于接地用框部101被黑化处 理的黑面成为观察侧，因此对上述玻璃板框缘状地实施的黑色印刷是 不需要的，可缩短工序，在成本方面也有利。
(实施例1)
作为导电材料，使用对表面实施了由平均粒径0.3μm的铜-钴合 金粒子所致的黑化处理、再附加由铬酸盐(处理)所致的防锈兼黑化 处理层的厚度10μm的电解金属箔。用2液固化型聚氨酯系粘结剂层 压该导电材料的铬酸盐(处理)层、和厚度100μm的双轴拉伸聚对 苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜A4300(东洋纺绩公司制，商品名)，其 后，在56℃熟化4天。作为粘结剂，使用包含多元醇的主剂タケラッ クA-310和包含多异氰酸酯的固化剂A-10(均为武田药品工业公司 制，商品名)，涂布量按干燥后的厚度计为7μm。
为了经光刻法形成网格，借用彩色TV阴影掩模用的制造线对连 续的带状构件进行从掩蔽到蚀刻的工序。具体讲，首先用浇涂法在导 电材料层面的整体上涂布包含酪蛋白的感光性抗蚀剂。其次，该导电 材料层被输送到下个工位，使用具有下述形状的图案版及高压汞灯使 之接触式曝光。其后，导电材料层一边被相继地输送到各工位，一边 水显象，硬膜处理，再在100℃焙烤。
上述图案版的形状为下述那样的形状：在网部，开口部是正方形， 线宽度是22μm，线间隔(间距)是300μm，倾角是49度，在5mm 宽的网外周部，线宽度从22μm向着接地用框部连续地增加，在与接 地用框部连接的部分为40μm，接地用框部(接地部)的宽度为5mm。
导电材料层进一步被输送到下个工位，通过用喷雾法喷吹作为蚀 刻液的液温40℃、40°波美度的氯化亚铁溶液，进行蚀刻，形成开口 部。其后，导电材料层一边被相继地输送到各工位，一边被水洗，抗 蚀剂被剥离，洗涤，再在100℃干燥。据此得到实施例1的电磁波屏 蔽用片。
(比较例1)
作为图案版的形状，在网部及网外周部，开口部是正方形，线宽 度是直到接地用框部为止都相同的22μm，线间隔(间距)是300μm， 倾角是49度，除此以外与实施例1相同。据此得到比较例1的电磁 波屏蔽用片。
(实施例2)
在实施例1的网部及网外周部涂布下述组成的平坦化层组合物， 填充开口部凹部。其后，层压厚度50μm的SP-PET20-BU(ト-セロ公 司制，表面脱模处理PET膜商品名)，使用高压汞灯进行200mj/cm2的 曝光(按365nm换算)。然后，剥离SP-PET20-BU，得到网部及网外 周部被平坦化的实施例2的电磁波屏蔽用片。该电磁波屏蔽用片具有 与实施例1同样的性能。
作为平坦化层组合物，使用了N-乙烯基-2-吡咯烷酮20质量份、 二环戊烯基丙烯酸酯25质量份、低聚酯丙烯酸酯(东亚合成(株) 制，M-8060)52质量份、1-羟基环己基苯基酮(チバガイギ-公司制， イルガキュア184)3质量份。
(实施例3)
在实施例2的平坦化层组合物中含有作为近红外线吸收剂的硫醇 -镍配合物1质量份。除此以外，与实施例2同样地得到实施例3的 电磁波屏蔽用片。该电磁波屏蔽用片具有与实施例1同样的性能。显 示图象的视认性进一步良好。
(实施例4)
在实施例2的平坦化层上用粘合剂积层NIR吸收膜No2832(东洋 纺绩公司制，近红外线吸收膜商品名)。除此以外，与实施例2同样 地得到实施例4的电磁波屏蔽用片。该电磁波屏蔽用片具有与实施例 1同样的性能。显示图象的视认性进一步良好。
(实施例5)
作为上述图案版的形状，在网部，开口部是正方形，线宽度是20 μm，线间隔(间距)是250μm，倾角是60度，在5mm宽的网外周部， 线宽度从20μm向着接地用框部连续地增加，在与接地用框部连接的 部分是26μm。除此以外，与实施例1相同。据此，得到实施例5的 电磁波屏蔽用片。
(实施例6)
作为上述图案版的形状，在网部，开口部是正方形，线宽度是20 μm，线间隔(间距)是250μm，倾角是60度，在3mm宽的网外周部， 线宽度从20μm向着接地用框部连续地增加，在与接地用框部连接的 部分是26μm。除此以外，与实施例1相同。据此，得到实施例6的 电磁波屏蔽用片。
(实施例7)
作为上述图案版的形状，在网部，开口部是正方形，线宽度是20 μm，线间隔(间距)是300μm，倾角是49度，在25个网格的网外 周部，线宽度从20μm向着接地用框部每1单元格逐级地增加1.0μm， 在与接地用框部连接的部分是45μm。除此以外，与实施例1相同。 据此，得到实施例7的电磁波屏蔽用片。
(实施例8)
作为上述图案版的形状，在网部，开口部是正方形，线宽度是20 μm，线间隔(间距)是300μm，倾角是49度，在5个网格的网外周 部，线宽度从20μm向着接地用框部每1单元格逐级地增加3.0μm， 在与接地用框部连接的部分是35μm。除此以外，与实施例1相同。 据此，得到实施例8的电磁波屏蔽用片。
(实施例9)
在采用铜-钴合金粒子形成的黑化处理面及与铬酸盐(处理)层 相反的面层压PET膜。除此以外，与实施例2同样。据此得到实施例 9的电磁波屏蔽用片。
(结果)
在实施例1中，使用了网部的线宽度为22μm的抗蚀剂图案版， 但蚀刻后的实际的网部的线宽度是7-17μm。而且，蚀刻后的实际的 网外周部的线宽度，与网部连接的部分是7-17μm，与接地用框部连 接的部分是17-29μm。
在比较例1中，蚀刻后的实际的网部的线宽度，从与网部连接的 部分到即将与接地用框部连接之前的部分是10-16μm，但与接地用框 部连接的部分是5-20μm，偏差大。
另外，对于实施例1及比较例1的电磁波屏蔽用片各100片，形 成与实施例2类似的平坦化层。其结果，实施例1的100片上没有异 常就形成了平坦化层，但比较例1中2片上发生断线，合格率低。
而且，实施例1及比较例1的电磁波屏蔽用片各100片组装到PDP 面板上。其结果，实施例1的100片没有异常就组装，但比较例1中 1片发生弯折，1片发生断线，合格率低。
将实施例1至实施例8及比较例1的电磁波屏蔽用片加工成正面 板，设置在PDP显示器的正面上，显示图象评价视认性，结果视认性 均良好。
另外，用粘合剂将实施例9的电磁波屏蔽用片的基材面设置到PDP 显示器上，闪烁也没有，图象的视认性良好，而且电极的引出工序数 减少，也不需要框缘状的黑色印刷。