专利汇可以提供自吸尘式打磨机专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型涉及一种用于金属、非金属 表面处理 的自吸尘式打磨机,它主要由打磨头、气源管道、吸尘管道和集尘器构成,在吸尘管道与集尘器之间设有一 气体喷射器 ,该气体喷射器与一高压气源相接,使得与气体喷射器相连的吸尘管道内压强低于外部 大气压 ,所以从打磨头产生的粉尘会经过吸尘管道而进入集尘器。采用上述结构的打磨机不仅可以消除 电动机 吸收 铝 尘等情况下的安全隐患,而且装置外形尺寸小、噪音低、结构紧凑简单。,下面是自吸尘式打磨机专利的具体信息内容。
1.一种自吸尘式打磨机,主要由打磨头、气源管道、吸尘管道和集尘器构成,气源管道和吸尘管道分别与打磨头相接,气源管道可外接高压气源,从打磨头产生的粉尘经过吸尘管道而进入集尘器,其特征在于:在所述吸尘管道与集尘器之间设有一气体喷射器,所述气体喷射器与一高压气源相接,使得与气体喷射器相连的吸尘管道内压强低于外部大气压。
2. 如权利要求l所述的自吸尘式打磨机,其特征在于:所述气体喷射器与集 尘器之间设有气体缓冲器。
3. 如权利要求2所述的自吸尘式打磨机,其特征在于:所述气体缓冲器由直 径大小不同的两套筒组成,且在直径较小的套筒上设有若干孔洞。
4. 如权利要求2所述的自吸尘式打磨机,其特征在于:所述气体喷射器、气 体缓冲器与集尘器固定于一机柜上,机柜背部设有可将空气排出的百叶
5. 如权利要求4所述的自吸尘式打磨机,其特征在于:所述机柜的底部设有 若干滚轮。
6. 如权利要求1至5中任一项所述的自吸尘式打磨机,其特征在于:所述气 源管道和气体喷射器与同一高压气源相接。
吸尘管道3、集尘器4、气体喷射器5、气体缓冲器6和机柜7构成。其中气 源管道2和吸尘管道3分别与打磨头1相接,气源管道2可外接高压气源, 一般是与一空气压縮机连接,此高压气源为打磨头l提供了打磨的动力,驱 使其进行打磨工作。在打磨时从打磨头1处会产生大量的粉尘,该粉尘在一 个强大的吸引力下经过吸尘管道3而进入集尘器4,这个吸引力就来自于在 吸尘管道3与集尘器4之间设有的气体喷射器5:气体喷射器5有三个端口, 其一与一高压气源相接, 一般也是与一空气压縮机相接,在此实施例中气体 喷射器5和气源管道2与来自于A端口处的同一高压气源相接,另外两个端口 分别与吸尘管道3和气体缓冲器6相连结,在气体喷射器5的作用下,与气 体喷射器5相连的吸尘管道内压强低于外部大气压,所以在打磨头1处产生 的粉尘会在大气压的作用下进入吸尘管道3,并随着从气体喷射器5进来的 高压气体一同进入气体缓冲器6。气体缓冲器6的作用是对前面所产生的高 压粉尘混合气体减压缓冲,以减小其对集尘器4的冲击力。最后,由集尘器 4将所有粉尘收集于其中,完成整个打磨、吸尘和集尘的过程,集尘器4可 用一般的集尘袋,此集尘袋可阻挡一般打磨中产生的粉尘颗粒,同时可以让 干净的空气通过集尘袋而散逸到外界。气体喷射器5、气体缓冲器6与集尘 器4固定在机柜7上,机柜7背部设有可将干净空气排出的百叶窗8,机柜7 的底部设有若干滚轮9,这样就可以使得移动和操作整个装置更加方便与自 由。如图2所示,是本实用新型气体缓冲器6的一种优选结构,其由直径大 小不同的两铁皮套筒10和11套接而成,在直径较小的套筒10上设有若干圆 形孔洞(图中未示出),高压粉尘混合气体从B端口处进来后经过此孔洞再 进入大套筒ll内即可缓冲下来,最后由大套筒11上的接管12通入集尘器4中。如图3所示,是本实用新型气体喷射器5的一种优选结构,其有A、 B、 C三个端口,其中A端口与高压气源相接,B端口与气体缓冲器6相接,C端 口与吸尘管道3相接,气体喷射器主要由金属套管14和15密封固定连接于 金属套管13上而成,其上部固定有一高压气体通入管16,可与高压气源相 接。在套管15伸入套管13的一端的末端设有一凸出的环状斜面倒口 17,与 此相对应的,在套管14伸入套管13的一端的末端设有一内凹的环状斜面倒
口 18,这两个倒口 17和18形状相互配合但并不接触。高压气体从A处进入 并沿着高压气体通入管16运动,当遇到斜面倒口 17后将改变运动方向,沿 着倒口 17的斜面进入套管14内并向B端口方向运动而不会进入套管15内, 倒口 18恰好与此改变方向的气流运动方向相适应,并使之沿着套管14向B 端口运动,倒口 18的斜度大小可以根据需要调节,以调节套管14内的气压, 在高压气体向B端口喷射运动的同时带走了套管15内的空气,所以套管15 内将产生负压,同时与套管15的C端口相接的吸尘管道3 (图中未示出)内 的压强也就低于外部大气压了。虽然本实用新型已依据本实用新型的较佳实施例在上文中加以说明,但 这并不表示本实用新型的范围只局限于上述的结构,如气体喷射器不采用实 施例中的结构而采用其他结构,只要被本实用新型的权利要求所覆盖的结构 均在保护范围之内。本技术领域的技术人员在阅读上述的说明后可很容易地 发展出的等效替代结构,而这些等效的替代结构亦是在本案要求的范围之内。
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