首页 / 专利库 / 物理 / 能量 / 用于对能量输入束整形的方法和设备

用于对能量输入束整形的方法和设备

阅读:573发布:2023-03-05

专利汇可以提供用于对能量输入束整形的方法和设备专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种 辐射 方法,尤其是用于给对象(1)的研究区域(2)成像的方法,包含以至少一个 能量 输入束源(210)产生至少一个能量输入束(3)的步骤,其中至少一个能量输入束(3)包含多个单个能量输入束分量(3.1,3.2,3.3…),并以至少一个能量输入束(3)沿多个投射方向辐射研究区域(2),其中能量输入束分量(3.1,3.2,3.3…)由能量输入屏蔽材料制成的具有通孔的至少一个束掩模(211)形成。进一步,描述了一种用于辐射对象或给对象成像的成像方法和设备。,下面是用于对能量输入束整形的方法和设备专利的具体信息内容。

1.一种辐射方法,尤其用于给对象(1)的研究区域(2)成像,所述 方法包含下面的步骤:
以至少一个能量输入束源(210)产生至少一个能量输入束(3),其 中所述至少一个能量输入束(3)包含多个单独的能量输入束分量(3.1, 3.2,3.3...),以及
以所述至少一个能量输入束(3)沿多个投射方向辐射所述研究区 域(2),
其特征在于:
利用具有通孔(213)的、由能量输入屏蔽材料制成的至少一个束掩 模(211)形成所述能量输入束分量(3.1,3.2,3.3...)。
2.如权利要求1所述的辐射方法,其中
所述束掩模(211)安装在所述能量输入束源(210)上,以及
通过相对于所述研究区域(2)移动具有所述束掩模(211)的所述能 量输入束源(210)来设定所述多个投射方向。
3.如权利要求1所述的辐射方法,其中
多个所述束掩模(211)和所述研究区域(2)相互之间具有固定的位 置,以及
通过在每个所述束掩模(211)上操作所述至少一个能量输入束源 来设定所述多个投射方向。
4.如前面任意一个权利要求所述的辐射方法,其中形成所述能量 输入束分量(3.1,3.2,3.3...)的步骤包含将所述能量输入束透射通过 具有不同尺寸的通孔(213)的平面束掩模(211)或通过都具有相同尺寸 的通孔(213)的曲面束掩模(211)。
5.如权利要求1至3中任意一个所述的辐射方法,其中形成所述 能量输入束分量(3.1,3.2,3.3...)的步骤包含将所述能量输入束透射 通过都具有相同尺寸的通孔(213)的平面束掩模(211)或通过具有不同 尺寸的通孔(213)的曲面束掩模(211)。
6.如前面任意一个权利要求所述的辐射方法,还包含调节所述束 掩模(211)和所述能量输入束源(210)间距离的步骤。
7.如前面任一权利要求所述的辐射方法,还包含设置所述能量输 入束(3)的束(α)的步骤。
8.如权利要求7所述的辐射方法,其中以孔径(216)设置所述束 角(α)。
9.如权利要求8所述的辐射方法,还包含调整所述孔径(216)的 直径和所述孔径(216)与所述能量输入束源(210)间距离中至少一个的 步骤。
10.一种用于给对象(1)的研究区域(2)成像的成像方法,包含下 面的步骤:
以根据前面任意一个权利要求所述的方法辐射所述研究区域(2),
确定对应于所述多个投射方向的多个投射函数,其中每个所述投 射函数包含用平行于当前投射方向的能量输入束分量测得的衰减值, 以及
使得所述多个衰减值经历图像重构过程。
11.如权利要求10所述的成像方法,其中所述衰减值用探测器 设备(300)测量,而且其中,读出所述探测器设备(300)中专用预定的 多组探测器单元以获得所述衰减值。
12.如权利要求10或11中任意一个所述的成像方法,其中所述 图像重构过程包含:
确定作为与所述投射函数的值相乘的多项式的总和的图像函数, 或
分解所述衰减值,其中所述分解经历滤波反投射重构。
13.如权利要求10至12中任意一个所述的成像方法,其中测量 所述衰减值以提供Radon数据,所述Randon数据在下面的设备中测 量:
X射线计算机断层扫描(CT)设备,
PET成像设备,
光断层扫描器,
SPECT成像设备,或
基于中子的透射探测系统。
14.一种用于给对象(1)的研究区域(2)成像的成像设备(100),包 含:
测量设备(200,300),用于测量对应于多个投射方向的投射函数, 所述测量设备(200,300)包含至少一个能量输入束源(200,210)和探 测器设备(300),所述能量输入束源(200,210)用于产生至少一个具有 多个单独能量输入束分量(3.1,3.2,3.3...)的能量输入束(3),
其特征在于包含:
由能量输入屏蔽材料制成的、具有通孔(213)的至少一个束掩模 (211),其用于形成所述能量输入束分量(3.1,3.2,3.3...)。
15.如权利要求14所述的成像设备,其中所述束掩模(211)包含 具有不同尺寸的通孔(213)的平面束掩模(211)或都具有相同尺寸的通 孔(213)的曲面源掩模(211)。
16.如权利要求14所述的成像设备,其中所述束掩模(211)包含 都具有相同尺寸的通孔(213)的平面束掩模(211)或具有不同尺寸的通 孔(213)的曲面源掩模(211)。
17.如权利要求14至16中任意一个所述的成像设备,还包含调 节所述束掩模(211)与所述能量输入束源(200,210)间距离的第一调节 设备(217)。
18.如权利要求14至17中任意一个所述的成像设备,其中所述 能量输入束源(200,210)相对于所述对象(1)是可移动的。
19.如权利要求14至18中任意一个所述的成像设备,其中所述 束掩模包含可随所述能量输入束源(210)移动的源掩模(211)。
20.如权利要求19所述的成像设备,其中所述源掩模(211)是可 从所述能量输入束源(200,210)拆除的。
21.如权利要求14至18中任意一个所述的成像设备,包含用于 整形所述能量输入束源(200,210)的能量分布函数的多个框架掩模 (224),所述框架掩模(221)以预定位置固定在源载体(220)上。
22.如权利要求21所述的成像设备,其中所述框架掩模(224)的 所述位置间隔相等弧长。
23.如权利要求21或22所述的成像设备,其中所述源载体(220) 包含具有所述框架掩模(224)的环形屏蔽物(222),所述环形屏蔽物 (222)在与所述框架掩模(224)的位置不同的位置处屏蔽所述能量输入 束源(200,210)。
24.如权利要求21至23中任意一个所述的成像设备,其中所述 探测器设备(300)包含多个框架传感器(320),用于探测表示与多个预 定投射方向对应的所述能量输入的衰减的衰减值,所述框架传感器 (320)以预定位置固定在所述源载体(220)上。
25.如权利要求14至24中任意一个所述的成像设备,其中所述 测量设备(200,300)包含:
X射线计算机断层扫描(CT)设备,
超声断层扫描设备,
PET成像设备,
光断层扫描器,
γ射线成像设备,
SPECT成像设备,或
基于中子的透射探测系统。
26.一种由能量输入屏蔽材料制成的、具有通孔(213)的束掩模 (211),其用于形成给对象(1)的研究区域(2)成像的能量输入束分量 (3.1,3.2,3.3...)。

说明书全文

发明领域

本发明涉及一种用于成像目的的能量输入束的整形方法,尤其是 涉及这样一种辐射方法,该方法用至少一束能量输入束对对象的研究 区域成像。进一步,本发明涉及一种以该辐射方法为基础的对研究区 域进行成像的方法和设备,尤其是用于断层扫描成像的方法和设备。

技术背景

对样品进行非破坏性研究是各种技术领域的一个重要目标,这些 技术领域比如是材料科学、医疗检查、考古学、建筑技术、关于安全 问题的技术等。一种例如通过计算机断层扫描(CT)获取样品图像的方 式,是基于以x射线从不同投射方向穿过对象平面的辐射,然后基于 在不同方向测得的衰减数据来重构对象平面。图9示意性描述了使用 由x射线源210’产生的常规扇形束5’辐射研究区域2’。扇形束5’包 含根据x射线源210’的发射特性而成形的电磁场的连续分布。由探测 器310’测得的全部衰减数据可用Radon空间中所谓的Radon数据描 述。

目前所知道的最相关的常规重构方法可总结为基于迭代重构的 方法或那些基于所谓的滤波反投射(back-projection)的方法。迭代 重构方法需要极长的计算时间,因此具有本质上的缺陷。另一方面, 滤波反投影方法具有这样一种一般的缺陷,即重构中所包含的插值步 骤会导致误差和假像,这种误差和假象甚至有随着空间频率的增加而 增加的趋势。滤波反投影方法的另一个问题涉及用以从中重构图像数 据的Radon数据的离散化。要得到最佳的滤波反投影重构,需要使得 探测器上的探测器单元与投射的辐射射线准确地匹配。但通常情况并 非如此。因此,就引入了由使用滤波反投影算法的Radon数据重构导 致的不确定性和平滑效应。

T.Bortfeld等人描述了一种所谓的Chebyshev域滤波反投影 (CD-FBP)算法,其用于由沿投射方向的多个投射来重构二维图像 (“Phys.Med.Biol.”,Vol.44,1999,p.1105-1120)。使用该CD-FBP算 法,以分解形式表示该投射,其中该投射经历上述滤波反投影重构。 可以例如使用扇形束几何结构来测量该投射,其中可以测量与彼此之 间具有等度间隔的各个单独投射线相应的衰减值。用扇形束的不同 投射方向所测得的各个单独投射线可用于提供图像重构使用的平行 投射。该CD-FBP算法没有产生实际的实现。该算法假定了实际无法 得到的理想扇形束几何形状。因此,T.Bortfeld等人的算法需要与常 规的滤波反投影类似的插值步骤。进一步,因为该CD-FBP算法本质 上是离散的,所以它不适应于常规辐射源的连续辐射特性。最后,该 CD-FBP算法因在重构的图像中出现假像而具有本质上的缺陷。

以上缺陷不仅与常规CT成像相关,而且与涉及Radon数据的所 有可用重构方法都相关。

发明目的

本发明的目的是提供一种对对象进行辐射的改进方法,该方法可 避免上述常规技术的缺点并且尤其是该方法可用于改善成像。尤其 是,本发明的目的是提供一种改善了辐射源对所用图像重构算法的适 应性的辐射方法。进一步,本发明的目的是提供一种改进的成像设备, 其可改善对研究区域的成像,特别是可以减少假像。

使用包含如权利要求1、14、及26所述特征的方法或设备可实 现上述目的。本发明的优选实施例及应用由独立权利要求限定。

发明内容

根据本发明的第一一般方面,提供了一种辐射方法,其中使用至 少一个束掩模对至少一个能量输入束进行整形,以提供多个单独能量 输入束分量。该束掩模由输入能量屏蔽材料制成,其上有通孔以提供 多个束分量并在其上形成分布。由掩模(格子)的屏蔽效果所形成的单 独能量输入束分量沿多条投射线被引导穿过对象,以便对该对象中的 研究区域成像。
使用能量输入束源可以产生作为扇形束或锥形束的具有原本连 续辐射特性的能量输入束。然后,用束掩模对能量输入束进行整形。 对能量输入束进行整形以形成能量输入束分量的本质上的优点是通 过固有地提供了一种离散的辐射特性而得到的。该辐射特性可适用于 对研究区域成像的图像重构算法。简单地选择一种预定的束掩模和/ 或相对于能量输入束源调整束掩模就可获得这种适应性。束掩模具有 预定的几何形状,其具有固定的通孔分布和固定的通孔尺寸。进一步, 能量输入(例如,射线剂量)可被实质上地降低。
可对扇形束或锥形束进行调整,以使得投射方向设置在越过所研 究区域的至少一个共同平面内,或者,可选地,在越过所研究区域的 变化的倾斜平面内以获得螺旋状投射数据。
这里所用的术语“研究区域”(ROI)一般指所研究的对象或它的一 部分。ROI可描述为二维或三维的实体。这里所用的术语“投射方向” 一般指能量输入通过ROI的线性路径。投射方向可由相对于所使用 的坐标系的角度来限定。如果考虑扇形束或锥形束,术语“投射方向” 指扇形束或锥形束的中心(或:主)束分量的朝向。
根据本发明的一个优选实施例,能量输入束源相对于该对象是可 移动的,其中束掩模和能量输入束源相互连接。在此情况下,束掩模 称做源掩模。通过相对所研究区域移动能量输入束源和源掩模,可选 择投射方向。特别优选的一个实施例,其中通过将具有束掩模的能量 输入束源围绕对象旋转来随后设定投射方向。
根据本发明的一个可选实施例,在相对于ROI的预定位置提供 了多个束掩模。在此情况下,束掩模叫做框架掩模。束掩模围绕ROI 分布。在此情况下,可通过在每个框架掩模处驱动至少一个能量输入 束源来选择投射方向。作为示例,多个能量输入束源可根据束掩模的 分布来设置。可选地,一个能量输入束源连续地移动到每个束掩模。
为了适应离散重构算法,以相等角度间隔形成能量输入束分量。 通过掩模通孔的投射线以相等的弧长间隔穿过围绕该源的球形表面。 为达此目的,束掩模可以为平面形状或曲面形状(例如柱形)。如果根 据本发明的一个特定优选实施例,使用都具有相同尺寸通孔的平面束 掩模或具有不同尺寸通孔的曲面束掩模,就能获得对所研究区域的完 全辐射,而不会使得平行于特定投射方向的能量输入束分量重叠。在 此情况下,可减少图像重构中的假像。或者,可以使用都具有相同尺 寸通孔的平面束掩模或使用具有不同尺寸通孔的曲面掩模。
根据本发明的进一步的优选实施例,能量输入束的整形不仅与形 成能量输入束分量相关,而且与能量输入束的外部边界相关。为达此 目的,本发明的成像方法还包括设置能量输入束的束角度的步骤。此 实施例在关于束源(可能与束掩模结合)对所研究的特定对象的适应 性方面具有特别的好处。为了辐射较小的对象,可减小束角以减小整 体辐射量。
优选地,该束角被设定为具有用作光阑或快的孔径。有优势地, 该孔径具有简单的结构。而且,可简单地将其安装在常规的成像设备 上,例如适应于本发明的常规CT设备。该孔径的进一步好处源于可 以以两个自由度来调节束角。对于第一可选方案,可通过设定孔径的 直径来调节束角。这使得孔径可灵活地适应于所研究的对象。根据第 二可选方案,可通过设定孔径和束源之间的距离来调节束角。随着距 离的减小,束角增加。两个可选方案还可以结合应用。
根据本发明的第二个一般方面,提供了一种对ROI成像的成像方 法,其中用根据上述第一个一般方面的方法辐射ROI,而且确定对应 于多个投射方向的多个投射函数。每个投射函数包含用平行于当前投 射方向的能量输入束分量测得的衰减值。测得的衰减值经历已知为如 此的图像重构过程。
测得的衰减值提供了表示投射函数的离散投射轮廓,其中每个离 散投射轮廓的投射值包含对应于具有相同投射方向的预定能量输入 束分量的衰减值。
本发明在数据处理方面提供了另一种本质上的优点。由于以束掩 模调整能量输入束分量的横截面,可用探测器设备的预定探测器单元 组来测量衰减值。探测器单元组有预定的,例如,对所有束分量相等 的尺寸。仅读出这些预定的组而不必重新调整尺寸,从而使得待处理 的数据量减小。优选地,衰减值用至少一个一维直线(straight)探测器 或至少一个二维平面探测器来进行测量。
有优势地,本发明的成像方法可以用各种图像重构过程来实施。 优选地,使用如EP04031043.5中所描述的图像重构过程,本申请要 求了该专利申请的优先权。用这种方法,可由包含与多个预定投射方 向对应的所测量的多个投射函数的Radon数据来确定图像函数。该图 像函数确定为与投射函数值相乘的多项式的总和。实际的实施中,此 图像重构基于与相互间有相同角度的离散辐射束分量相对应的衰减 值测量。或者,图像重构过程可以包含由T.Bortfeld等人更详细描述 的衰减值分解(参见上述)。
本发明本质上的优点是,该成像可用于与医疗成像中的许多应用 类似的各种应用,例如CT、PET、SPECT等。然而,有大量更有可 能的应用,像光断层扫描、用于工业测试或生物研究的任意多维成像 等。优选地,成像函数由用x射线计算机断层扫描(CT)设备、PET成 像设备、SPECT成像设备,或基于中子的透射探测系统测得的Radon 数据来确定。所研究的对象包含,例如,生物组织或其一部分、流体 成分、固体材料、工件、和/或因安全原因而被研究的对象。
根据本发明的第三个一般方面,提供了一种为对象的研究区域成 像的成像设备,其中该成像设备包含具有通孔的、由能量输入屏蔽材 料制成的至少一个束掩模。该束掩模适于形成单独、离散的能量输入 束分量。进一步,该成像设备包含用于测量对应于多个投射方向的投 射函数的测量设备。该测量设备包含至少一个能量输入束源和至少一 个用于测量投射函数的探测器设备。该能量输入束源设置为用于产生 至少一个将通过束掩模来整形的能量输入束。进一步,该成像设备包 含基于测得的投射函数来重构图像函数的重构电路
优选地,适于产生扇形束源或锥形束源的能量输入束源可移动地 设置在源载体上。尤其优选的是源载体具有环形形状,使得能量输入 束源能够例如围绕对象在一个圆周上或是以螺旋形状的路径旋转。
探测器设备包含至少一个探测器单元组成的探测器阵列,用于探 测表示对应于多个预定投射方向的能量输入衰减的衰减值。
根据本发明的进一步优选的实施例,成像设备包含至少如下设备 之一:用于调节源掩模和能量输入束源间距离的第一调节设备,和用 于调节束角孔径的直径和/或该孔径和能量输入束源间距的第二调节 设备。
如果所述至少一个束掩模包含一个可随能量输入束源移动的源 掩模,尤其是随扇形束源或锥形束源移动的源掩模,可以获得在源相 对于掩模的调节这方面的好处。优选地,源掩模可分离地连接到能量 输入束源,使得仅通过改变源掩模就可使成像设备适于特定应用。
如果以束掩模(多个)的形式提供用于整形能量输入束源的能量 分布函数的多个框架掩模,就可获得在设置投射方向方面的好处。优 选地,框架掩模以相等弧长安装在公共的源载体上。作为示例,源载 体为包含框架掩模的环形屏蔽物。有优势地,可以用环形屏蔽物在不 同于框架掩模所在位置的位置屏蔽能量输入束源。因此,能获得实质 上能量束量的减少。
根据用框架掩模对本发明的进一步修改,探测器设备包含多个固 定的框架探测器,用于探测表示对应于多个预定投射方向的能量输入 衰减的衰减值。在这种情况下,框架探测器可以在预定的位置安装在 源载体上。优选地,框架探测器位于与框架掩模邻近的位置。
根据本发明的各种优选应用,测量设备包含x射线计算机断层扫 描(CT)设备、超声断层扫描设备、PET成像设备、光断层扫描设备、 γ射线成像设备、SPECT成像设备、或基于中子的透射探测系统。
根据本发明的第四个一般方面,提供了一种束掩模,其具有通孔、 并由能量输入屏蔽材料制成。该能量输入屏蔽材料包含,例如钨、铅 或。优选的材料是钨,因为其有高的吸收性(屏蔽效果)和高的机械 稳定性。束掩模能够形成用于辐射对象的研究区域的能量输入束分 量。
附图简述
以下参照附图描述本发明的进一步的细节和优点,其中:
图1是根据本发明的束整形的实施例的示意图;
图2至图5是根据本发明所使用的束掩模的实施例的示意图;
图6是根据本发明的具有束角孔径(angle aperture)的束源与源 掩模的组合的示意图;
图7是引导离散的扇形束穿过所研究对象的进一步的图解;
图8是根据本发明的成像设备的实施例的示意图;以及
图9是引导常规扇形束穿过所研究区域的示意图(现有技术)。

具体实施方式

参照计算机断层扫描中的应用在下面描述本发明。在这种情况 下,根据本发明的成像设备包含当前医疗CT系统的主要部件,该系 统的能量输入束为x射线束。要强调的是,本发明可以用与上面所提 到的其它应用类似的方法实现。进一步,优选实施例的以下描述主要 是关于用束掩模对能量束整形的步骤。这里不描述CT或其它成像设 备的细节及用于实现本发明的图像重构的细节,因为它们从常规技术 或EP 04031043.5可得知。
图1示意性地描述CT系统中引导离散的扇形束或锥形束3穿过 具有ROI2的对象1,以便采集投射数据。该CT系统(没有完全示出, 更多的部件参考图8)包括环形的源载体220(CT环),在该载体上,辐 射源210(x射线管)和探测器设备310以一种能使整个系统在例如0.3 到0.5秒内完成完整转动的方式旋转。
源掩模211用作束掩模,它可分离地安装在辐射源210上。源掩 模211适于整形辐射源210的能量分布函数。要达此目的,源掩模 211具有通孔、由能量输入屏蔽材料制成。形成了穿过通孔的、离散 的单独x射线束分量3.1、3.2、3.3...以用于上述图像重构方法,其中 该重构方法不需要由射线管的几何形状和重构探测器的几何形状导 致的所有可能的射线分量。
扇形束3以变化的投射方向被引导穿过ROI2。调节投射方向以 使得对于该成像条件获得预定数目的平行x射线束分量。每个扇形束 3表示一束扇形束分量3.1、3.2、3.3...。每个扇形束分量3.1、3.2、 3.3...可当作是直线笔形束。而一个扇形束的这些笔形束不具有相同 的投射方向,通过对束分量进行再分类(resorting)可获得用于图像 重构的离散投射轮廓的确定,该束分量属于束3的不同的投射方向。 因此,可获得平行束分量组。
探测器设备310为探测器单元的线性或二维阵列,该阵列根据适 于CT环半径的球形参考表面进行整形。可选地,可以使用由直线(一 维)或平面(二维)排列的探测器单元构成的探测器设备。探测器设备 310由例如1至64行探测器单元(如果超过一行,将其称作多切片CT) 构成,而且每行约有700和1000个探测器单元。当前探测器单元的 尺寸为例如0.5至1.0mm。在每个单独的转动之中,数据被读出约1000 次。对象1,例如病人,通过使用连续移动的病人检查台而移动穿过 CT环。通过此方法,可得到一个所谓的螺旋或盘旋CT数据组,因 为该采集的数据位于螺旋网上。
图2至图5显示了根据本发明使用的各种源掩模的进一步细节。 源掩模211包含例如由钨制成的具有通孔213的屏蔽板212。源掩模 通过可分离固定元件,例如夹片元件或揿压连接(snap connection),安 装于辐射源(例如x射线管)上,特别是安装于辐射源210的输出窗口 215的框架214上。
屏蔽板212可以是柱形(图2、4)或平面形(图3、5)或适于成像设 备几何条件的任何其它合适形状。柱形屏蔽板212被定向为使得圆柱 轴平行于CT环的轴。屏蔽板212的厚度为例如100μm到5mm。通 孔213如此排列,使得起始于辐射源210的投射线与在预定位置的探 测器单元共线地穿过圆环,特别地,它们可以以相等的弧长间隔排列。 根据成像条件,各个通孔213被设置为线形分布或以区域分布。
通孔213的数目和尺寸(多个)的选择依赖于成像方法的特定应 用。对于CT成像,例如在约1mm2到100mm2范围的区域内设置有 200个通孔213。因此,离散的扇形束3包含例如200个直线扇形束 分量。通过增加射线和投射的数量,可获得更高的分辨率,也就是说, 能够增加在无假像情况下进行重构的像素的数目。
根据图2和3,选择通孔213的尺寸使得所有束分量有相同的横 截面,即柱形掩模的所有通孔有同样的尺寸(例如10到200μm)而平 面源掩模束211中心的通孔小于平面源掩模211外部边缘的通孔。另 一方面,根据图4和5,选择通孔213的尺寸使得束分量在探测器域 内有不同的横截面。优选地,该横截面在例如100μm到4mm的范围 内选择。特别地,依赖于探测器分辨率来设定横截面,该分辨率可由 特定的探测器获得。在束3的中心提供了最大的横截面,而在束3的 边缘提供了最小的横截面。
图6示意性地显示了将辐射源210与源掩模211和束角孔径216 结合的实施例。可调载体217设置在输出窗口215的框架214上,以 支承组件211和216中的至少一个。一般地,可调载体217用作至少 一个可调设备。束角孔径216由带有中心孔的屏蔽板制成。直径和/ 或在束角孔径216和辐射源210的辐射发射器210.1之间的垂直距离 可以通过可调载体217调整,以限定扇形束3的束角α。源掩模211 整形成上述形状以限定束分量。可改变源掩模211和辐射发射器210.1 间的距离以获得所需的成像分辨率。可调载体217可手动操作或例如 用压电驱动单元来电动操作。
使用由上述掩模产生的离散扇形束3,可仅在辐射源和探测器设 备的特定位置处,读出来自沿着相应投射线探测衰减的探测器设备的 探测单元的信号。该读出位置是环形源载体上的那些弧长位置,它们 满足选择具有相同投射方向的平行的扇形束分量的条件。
为了减少对所研究对象的辐射或粒子曝光,优选地,仅在上述读 出位置将能量输入(例如,辐射)引导到所研究的对象中,即仅当辐射 源和探测器设备的组合朝向合适的位置时,才读出探测器单元信号。 在辐射源运动的期间,对于某些时刻和/或辐射源的某些弧长位置可 以满足该条件。只要不满足该读出条件,该辐射源就被关断或屏蔽。 优选屏蔽辐射源以保持辐射条件稳定。
图7中示意性示出的有多个辐射窗口223的环形屏蔽物222能够 实现该屏蔽功能。环形屏蔽物222能够可分离地安装到源载体220上 以使屏蔽物222的几何属性适合实际应用,尤其适用于所用的掩模。 作为示例,环形屏蔽物222包含201个辐射窗口223,每个辐射窗口 直径为6mm(CT环直径:80cm)。
如果环形屏蔽物222的每个辐射窗口223设置有图7中仅作为示 例描述的框架掩模224,则可以省略上述的源掩模211。实际上,不 必同时设置源掩模和框架掩模211、224。可将框架掩模224设计为 与图2至5所示的源掩模一样。
图8示意性地描述了成像设备100的实施例。该成像设备100包 含具有能量发生器200和探测器设备300的测量设备,以及连接到测 量设备200、300的重构设备400。进一步,提供了支承设备500,其 例如是CT系统中公知的载物台,或是任何其它载体或基底支承器, 用于在测量设备中放置所研究的对象,以及调节对象相对于能量发生 器200和探测器设备300的几何关系。还提供了从现有技术的设备中 公知的部件如控制设备、显示设备等(未示出)。
能量发生器200包含辐射源210,例如,在源载体220(例如,导 轨或托台)上设置的具有源掩模的可移动的x射线管。探测器设备包 含探测器阵列310,其可移动地设置在源载体220上且相对于辐射源 210处于相对的关系。用这种结构,通过绕支承设备500来旋转部件 210、310的组合,可以设定通过ROI的投射方向(平行于绘图平面)。
示出的源载体220为圆环,其允许围绕对象旋转能量发生器200 和探测器设备300。根据修改,源载体可具有椭圆形状或其它形状。 这在对待研究对象几何结构的适应性方面能表现出优势。
相关申请参考
本申请要求以下申请的权利:申请日为2004年12月30日的美 国临时专利申请60/640,426号,申请日为2004年12月30的欧洲专 利申请04031043.5号,申请日为2005年5月23日的欧洲专利申请 05011136.8号。
对于政府支持的致谢
本发明是在由美国国家科学基金给予的批准号为DMS-02011669 的政府支持下做出的。美国政府拥有本发明的一定权利。
高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈