专利汇可以提供微波电子回旋共振等离子体均匀化方法及装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且微波 电子 回旋共振 等离子体 均匀化方法及装置属于微波低温等离子体技术领域。其特征在于,使微波通过在 位置 上存在相互旋转180度关系的双三 角 形波 导管 产生两束微波,使这两束微波经过双三角形的 波导 管后直接通过微波窗片耦合进入 谐振腔 ,并在谐振腔内进行 叠加 ,形成一种新的双束微波场。为达到本方法的目的,所设计的装置特征是,在过渡矩形波导管6与陶瓷微波窗片8及窗片 法兰 9之间,接入了一段在矩形波导管内部插入均分板19后、形成的双三角形的波导管7,其横截面被分为了两个三角形。本 发明 不仅较好地解决了 电子回旋共振 设备等离子体不均匀性的问题,且制造安装简便,对等离子体无污染,避免了采用同轴波导和多槽天线带来的制造安装复杂等问题。,下面是微波电子回旋共振等离子体均匀化方法及装置专利的具体信息内容。
1、微波电子回旋共振等离子体均匀化方法,包括有利用电子回旋 共振系统中的微波源产生微波后,经波导管和波导窗导入谐振腔, 在谐振腔和沉积室内产生电子回旋共振的等离子体,用于对样件进 行薄膜沉积,本发明的特征在于,使微波通过在位置上存在相互旋 转180度关系的双三角形波导管产生两束微波,使这两束微波经过 双三角形的波导管后直接通过微波窗片耦合进入谐振腔,并在谐振 腔内进行叠加,形成一种新的双束微波场。
2、微波电子回旋共振等离子体均匀化方法专用装置,包括有微 波源、真空密封、薄膜沉积、真空泵系统、产生电子回旋共振及沉 积所需的轴向磁场部分、气路及气体控制部分,各部分从前向后再 向下的连接关系依次为,微波发生器(1)连接波导管(2),波导管(2) 连接三端环行器(3),三端环行器(3)的反射端与大功率负载(4)连接, 三端环行器(3)的出口端与三销钉调配器(5)连接,三销钉调配器(5) 与带水平及垂直段的过渡矩形波导管(6)连接,过渡矩形波导管(6) 向下与垂直的波导管(7)连接,中央开矩形孔的窗片法兰(9)上端面与 垂直的波导管(7)连接,窗片法兰(9)的下端面将陶瓷微波窗片(8)压在 谐振腔(10)的上端面上,谐振腔(10)的下端面与直径较大的沉积室 (11)的上端面连接,样片台(12)通过其支撑杆与沉积室(11)下方底 部的出口端固定,沉积室(11)下方侧面开孔处与由旋转泵(14)和涡 轮分子泵(15)组成的真空泵系统连接,沉积室(11)外壁与工作台 (13)固定在一起,单片磁场线圈(16)位于圆柱形谐振腔(10)腔壁 外,并与圆柱形谐振腔(10)为同轴布置,线圈(16)由沉积室(11)上 端面上均布的三个支柱予以支撑,气路分两路,一路与谐振腔(10) 相连,另一路与沉积室(11)相连,本发明的特征在于:在过渡矩 形波导管(6)与陶瓷微波窗片(8)及窗片法兰(9)之间,接入了一段在 其内部插入均分板(19)的波导管(7),其横截面被分为两个三角形。
3、根据权利要求2所述的微波电子回旋共振等离子体均匀化方法 专用装置,其特征在于:双三角形波导管(7)其制造采用标准尺寸的 矩形波导管(18),采用常规技术将均分板(19)与矩形波导管(18) 的对角进行连接,并将矩形法兰(20)和圆形法兰(21)分别与矩 形波导管(18)的两端进行焊接,矩形法兰(20)用于与过渡矩形 波导管(6)连接,圆形法兰(21)用于同微波窗片法兰(9)连接。
微波电子回旋共振等离子体均匀化方法及装置属于微波低温等 离子体技术领域。
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