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记录媒体,记录和再现方法以及记录和再现装置

阅读:635发布:2021-05-27

专利汇可以提供记录媒体,记录和再现方法以及记录和再现装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且随着折射率、 消光系数 、透射系数或反射系数的一次变化,信息被记录到例如象光透基片(1)或光透射防护膜这样的光透射材料上。,下面是记录媒体,记录和再现方法以及记录和再现装置专利的具体信息内容。

1.一种记录媒体,包含一个光透射记录部分,该光透射记录部分具 有一个记录区域,信息将通过所述光透射记录部分的折射率的变化或消 光系数的变化中至少一种的变化来记录到该记录区域中。
2.一种记录媒体,包含一个光透射记录部分,该光透射记录部分具 有一个记录区域,信息将通过所述光透射记录部分的透射系数的变化或 反射系数的变化中至少一种的变化来记录到该记录区域中。
3.一种记录媒体,包括光透射基片和光透射防护膜中的至少一个,具有 信息A将记录于其中的记录区域A和信息B将记录于其中的记录区域B,其中 所述记录至少通过所述光透射基片和光透射防护膜的或者折射率的变化或者消 光系数的变化来记录。
4.一种记录媒体,至少包括光透射基片和光透射防护膜中的一个,具有信 息A将记录于其中的记录区域A和信息B将记录于其中的记录区域B,其中所 述记录至少通过所述光透射基片和光透射防护膜的或者透射系数的变化或者反 射系数的变化来记录。
5.根据权利要求1的记录媒体,其中所述透射记录部分的折射率或消光系 数中至少一种随紫外线的照射而变化。
6.根据权利要求2的记录媒体,其中所述透射记录部分的透射系数或反射 系数中至少一种随紫外线的照射而变化。
7.根据权利要求3的记录媒体,其中所述光透射基片和光透射防护膜的折 射率或消光系数中至少一种随紫外线的照射而变化。
8.根据权利要求4的记录媒体,其中所述光透射基片和光透射防护膜的透 射系数或反射系数中至少一种随紫外线的照射而变化。
9.根据权利要求1的记录媒体,其中所述光透射记录部分的折射率或消光 系数中至少一种随电子束的照射而变化。
10.根据权利要求2的记录媒体,其中所述光透射记录部分的透射系数或 反射系数中至少一种随电子束的照射而变化。
11.根据权利要求3的记录媒体,其中所述光透射基片或所述光透射防护 膜的折射率或消光系数中至少一种随电子束的照射而变化。
12.根据权利要求4的记录媒体,其中所述光透射基片或所述光透射防护 膜的透射系数或反射系数中至少一种随电子束的照射而变化。
13.根据权利要求1或2的记录媒体,其中所述光透射记录部分由聚酸 酯树脂、聚烯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂、环树脂和丙烯酸树脂中任何 一种制成、或由玻璃基片制成。
14.根据权利要求3或4的记录媒体,其中所述光透射记录部分由聚碳酸 酯树脂、聚烯烃树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂、环氧树脂和丙烯酸树脂中任何 一种制成、或由玻璃基片制成。
15.根据权利要求3或4的记录媒体,其中所述光透射防护膜由聚碳酸酯 树脂、聚烯烃树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂、环氧树脂、紫外线固化树脂、热 硬化性树脂、感光聚合物树脂中任何一种制成、或由玻璃或薄膜制成的薄 层制成。
16.根据权利要求1或2的记录媒体,其中所述信息是包括固有标识信息 的信息。
17.根据权利要求3或4的记录媒体,其中所述信息B包括固有标识信息。
18.根据权利要求1或2的记录媒体,其中所述信息至少包括数字、字符、 图像和条形码中的一种。
19.根据权利要求3或4的记录媒体,其中所述信息B至少包括数字、字 符、图像和条形码中的一种。
20.根据权利要求1或2的记录媒体,其中所述信息至少包括标志信息、 地址信息、组信息、磁道信息和数据信息中的一种信息。
21.根据权利要求3或4的记录媒体,其中所述信息B至少包括标志信息、 地址信息、组信息、磁道信息和数据信息中的一种信息。
22.根据权利要求1或2的记录媒体,其中
所述信息包括固有标识信息,并且所述固有标识信息至少包括记录媒体的 管理信息、记录信息的管理信息、记录禁止信息、再现禁止信息、记录媒体真 和假的信息、记录/再现数量限制信息、和用户鉴别信息中的一种信息。
23.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息B包括固有标识信息,并且所述固有标识信息至少包括记录媒体 的管理信息、记录信息的管理信息、记录禁止信息、再现禁止信息、记录媒体 真和假的信息、记录/再现数量限制信息、和用户鉴别信息中的一种信息。
24.根据权利要求3或4的记录媒体,其中所述信息B记录在所述记录区 域A中。
25.根据权利要求3或4的记录媒体,其中所述信息B记录在所述记录区 域A中,并且所述信息B不仅限于所述信息B的记录存在性、记录位置、记录 功率和再现功率中的任意一种。
26.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息A使用波长为λra的光进行照射而记录在所述记录区域A中,并 且使用波长为λpa的光进行照射而再现,并且,所述信息B使用波长为λrb 的光进行照射而记录在所述光透射基片或所述光透射防护膜中,并且使用波长 为λpb的光进行照射而再现,并且,对于波长为λra和波长为λpa的光,所 述光透射基片或所述光透射防护膜的透射系数大于50%。
27.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息A使用波长为λra的光进行照射而记录在所述记录区域A中,并 且使用波长为λpa的光进行照射而再现,并且,所述信息B使用波长为λrb 的光进行照射而记录在所述光透射基片或所述光透射防护膜中,并且使用波长 为λpb的光进行照射而再现,并且,对于波长为λrb的光,所述光透射基片或 所述光透射防护膜的透射系数大于50%。
28.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息A使用波长为λra的光进行照射而记录在所述记录区域A中,并 且使用波长为λpa的光进行照射而再现,并且,所述信息B使用波长为λrb 的光进行照射而记录在所述光透射基片或所述光透射防护膜中,并且使用波长 为λpb的光进行照射而再现,并且,对于波长为λpb的光,所述光透射基片或 所述光透射防护膜的透射系数大于50%。
29.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述记录区域A包括不仅限于凹坑标志记录区域、染色记录区域、磁性记 录区域、磁光记录区域和相变记录区域中的任意一种。
30.根据权利要求3或4的记录区域,其中
所述记录区域A包括一个磁光记录区域,该磁光记录区域具有至少一个再 现层和一个记录层。
31.根据权利要求3或4的记录区域,其中
所述记录区域A包括一个磁光记录区域,该磁光记录区域具有一个磁性超 分辨率再现磁光记录层或一个磁畴扩大再现磁光记录层。
32.根据权利要求3或4的光记录媒体,其中
所述信息A使用波长为λra的光进行照射而记录在所述记录区域A中,并 且使用波长为λpa的光进行照射而再现,并且,所述信息B使用波长为λrb 的光进行照射而记录在所述光透射基片或所述光透射防护膜中,并且使用波长 为λpb的光进行照射而再现,并且
所述λra、λpa、λrb、λpb满足下述的任意一个或多个关系:λra=λpa, λra≠λpa,λrb=λpb,λrb≠λpb,λra=λrb,λra≠λrb,λpa=λpb,λpa≠λpb,λra=λpb, λra≠λpb,λpa=λrb,λpa≠λrb。
33.根据权利要求3或4的光记录媒体,其中
所述信息A使用波长为λpa的光进行照射或者不使用光进行照射而在所述 记录区域A中再现,并且,所述信息B使用波长为λrb的光进行照射而记录在 所述光透射基片或所述光透射防护膜中,并且使用波长为λpb的光进行照射而 再现,并且
所述λpa、λrb、λpb满足下述的任意一个或多个关系:λrb=λpb,λrb≠λpb, λpa≠λpb,λpa≠λpb,λpa≠λpb,λpa≠λrb。
34.根据权利要求1或2的记录媒体,其中
所述信息通过所述光透射记录部分的多值折射率的变化或多值消光系数的 变化中至少任意一种,或者通过多值透射系数的变化或多值反射系数的变化中 至少任意一种来记录。
35.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息B通过所述光透射基片和光透射防护膜的多值折射率的变化或多 值消光系数的变化中至少任意一种,或者通过多值透射系数或多值反射系数的 变化中至少任意一种来记录。
36.根据权利要求1或2的记录媒体,其中
所述信息通过所述光透射记录部分的多值折射率的连续变化、或通过多值 消光系数的连续变化、或通过多值透射系数的连续变化、或通过多值反射系数 的连续变化来记录。
37.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息B通过所述光透射基片和光透射防护膜的多值折射率的连续变化 或多值消光系数的连续变化中至少任意一种,或者通过多值透射系数的连续变 化或多值反射系数的连续变化中至少任意一种来记录。
38.根据权利要求1或2的记录媒体,其中
所述信息通过由紫外线的照射时间、紫外线照射时间和紫外线照射光量中 至少一种量的变化所记录的所述光透射记录部分的多值折射率的变化、或多值 消光系数的变化、或多值透射系数的变化、或多值反射系数的变化中至少任意 一种来记录。
39.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息B通过由紫外线照射时间、紫外线照射时间和紫外线照射光量中 至少一种量的变化所记录的所述光透射基片和光透射防护膜的多值折射率的变 化、或多值消光系数的变化、或多值透射系数的变化、或多值反射系数的变化 中的至少任意一种来记录。
40.根据权利要求1或2的记录媒体,其中
所述信息通过由紫外线的照射时间、紫外线照射时间和紫外线照射光量中 至少一种量的变化所记录的所述光透射记录部分的多值折射率的连续变化、或 多值消光系数的连续变化、或多值透射系数的连续变化、或多值反射系数的连 续变化中至少任意一种来记录。
41.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
所述信息B通过由紫外线照射时间、紫外线照射时间和紫外线照射光量中 至少一种量的变化所记录的所述光透射基片和光透射防护膜的多值折射率的连 续变化、或多值消光系数的连续变化、或多值透射系数的连续变化、或多值反 射系数的连续变化中的至少任意一种来记录。
42.根据权利要求3或4的记录媒体,其中
固有标识信息通过所述信息A和所述信息B的组合来记录。
43.根据权利要求42的记录媒体,其中
所述固有标识信息至少包括记录媒体的管理信息、记录信息的管理信息、 记录禁止信息、再现禁止信息、记录媒体真和假的信息、记录/再现数量限制信 息、和用户鉴别信息中的一种信息。

说明书全文

技术领域

发明涉及一种记录方法,一种记录和再现方法,以及一种记录和再现装置, 本发明尤其涉及一种记录方法,一种记录和再现方法,以及一种记录和再现装 置,其中,所述记录和再现方法一般涉及一种记录方法和一种再现方法中的一 个或两个,所述记录和再现装置一般涉及的装置或者带有记录装置的功能,或 者带有再现装置的功能,或者既带有记录装置的功能,又带有再现装置的功能。

背景技术

到目前为止,作为一种可重写的高密光记录系统,我们知道有一种磁光记录 和再现系统,该系统的基本原理是,利用激光束热能,使用超过了居里温度或 补偿温度的温度,对磁性薄膜进行局部加热,以致,通过减小或消除上述薄膜 部分的矫磁,将磁化方向反向到外加记录磁场的方向。
而且,到目前为止,作为一个可重写的高密光记录系统,我们知道有一种相 变记录和再现系统,该系统的基本原理是,应用激光束的热能,利用超过了结 晶温度的温度,对相变薄膜进行加热,因此,被加热部分就结晶了。
另外,到目前为止,作为一个可重写的高密光记录系统,我们知道有一种磁 性记录和再现系统,该系统的基本原理是,应用磁头的磁能,使一个磁性薄膜 的磁化方向部分反转。
此外,到目前为止,作为一个可重写的高密光记录系统,我们知道有一种染 色记录和再现系统,该系统的基本原理是,应用激光束的热能,对一个染色薄 膜进行局部加热,因此,上述薄膜中被加热的部分就蒸发变形了。
另外,到目前为止,作为一个可重写的高密光记录系统,我们知道有一种再 现系统,其中,通过反射光或透射光来检测记录媒体中的记录凹坑的存在。
近几年,随着个人计算机、网络和蜂窝式电话日益广泛的应用,记录信息的 数量急剧增加,大量信息的流通和分发也得到了迅速的提高。
随着大量信息流通的分发的提高,不仅已经实现了用于电话网线来发送和接 收信息的通信技术,而且,还实现了通过卫星进行发送和接收信息的通信技术, 以及通过专用电话网线进行发送和接收信息的通信技术。
随着记录信息数量的急剧增加,为了使消费者记录并再现这些信息,已经实 现了海量存储记录媒体,这些记录媒体例如可以是可重写的记录媒体、只读型 音频盘、视频盘和硬盘
另一方面,因为对海量存储记录信息的处理非常便宜,所以,维护涉及信息 的记录、存储、再现、流通和分发的安全性的技术就变得格外重要。
特别是,因为海量存储记录媒体的制造相对简单和便宜,所以非常可能出现 制造非法记录媒体的危险,其中,可能复制并伪造记录媒体本身,或者复制并 伪造上述记录媒体中的部分或全部记录信息。
通过拆卸并分散记录媒体,光记录媒体可以被物理地复制、仿制、伪造并被 非法使用,其中,所述光记录媒体中记录了大量音乐数据、大量视频数据、大 量程序数据和各种其它类型数据,这些数据通过由非常小的凸凹组成的凹坑标 志记录在象光盘(CD)、数字化视频光盘(DVD)这样的记录媒体中。
因此,为了避免对记录在海量存储记录媒体上的非法记录信息进行复制、仿 制、伪造以及将其带走,必须加强记录媒体的可维护性和安全性功能,或者它 的记录和再现方法,或者它的记录和再现装置。
目前为止,已经加强了记录媒体的可维护性和安全性功能,记录和再现方法, 或者记录和再现装置。
例如,日本已公开的专利申请No.11-78314说明了这样一种技术,在所述技 术中,将用于确定真实记录媒体的信息印在记录媒体中,然后,依据用于确定 真实记录媒体的该打印信息判断记录媒体的真实性。
例如,日本已公开的专利申请No.11-66616说明了一种记录媒体,其中,包 括一个用于产生紫外线的荧光层和一个专用荧光截止层的复合层形成于一个基 片上,在紫外线作用下产生荧光,肉眼可以真实地读取所记录信息。
但是,在这些记录媒体中,因为记录媒体或基片的材料必须单独选择,必须 分别将薄膜沉积到记录媒体或基片上,并且,为了确定记录媒体的真实性,必 须将上述信息分别打印到记录媒体上,所以,记录媒体的制造过程变得复杂, 记录媒体的制造成本也不可避免地增加了。
在日本已公开的专利申请No.11-86349和日本已公开的专利申请 No.11-162015说明的技术中,在记录层上形成了用延伸率较大的树脂制造出的 防剥层,而在防剥层上形成有用伸张度较小的树脂制造出的的保护层,这样, 避免了通过拆卸或分散记录媒体,对记录媒体的物理复制。
但是,为了防止拆卸或分散这些记录媒体,必须分别选择它们的材料,而且, 必须分别沉积上述薄膜。因为这一原因,记录媒体的制造过程变得复杂,记录 媒体的制造成本也不可避免地增加了。
例如,日本已公开的专利申请No.8-124219说明了一种记录媒体,其中,通 过将激光照射到凹坑上,而在凹坑周围形成了轮缘,所述凹坑是在利用注入成 型而形成光透射基片时形成的,上述这些带有轮缘的凹坑被用作确定记录媒体 真实性的信息。
日本已公开专利申请No.11-120633,日本已公开专利申请No.11-162026,和 日本已公开专利申请No.2000-82239公开了记录媒体的如下技术,其中,通过将 可以有选择地固化结合层的电磁辐射束辐射到一个已结合的记录媒体的结合 层,从而,可以在结合层中部分产生带有不同固化度的区域,由此,在与结合 层相面对的反射层上产生一个局部应力,导致反射层从最初位置上变形,从而, 形成了用于确定记录媒体真实性的信息。
但是,在这些记录媒体中,特别是对通过激光记录并再现信息的光记录媒体, 因为记录媒体上的记录凹坑或与记录凹坑相对的反射层已经直接变形了,所以 将对伺服信号和记录信号产生不良影响。
日本已公开专利申请No.9-305697和日本已公开专利申请No.11-101690说明 了如下方法,其中,将通过一个记录媒体的、或经记录媒体反射的光的光谱信 息用作用于确定记录媒体真实性的信息。
但是,因为为了确定记录媒体的真实性,这些记录媒体必须被众多的波长再 现,所以再现装置变得更复杂了。而且,再现装置也更贵了。
日本已公开的专利申请No.11-73687说明了如下方法,其中,将记录媒体上 的有机化合物的透射率或反射率用作用于确定记录媒体真实性的信息。
但是,在这些记录媒体中,由于为了确定记录媒体的真实性,必须分别选择 材料,并且分别沉积薄膜,所以记录媒体的制造过程更加复杂,而且记录媒体 的制造成本要贵了。
日本已公开的专利申请No.11-154353说明了如下方法,其中,将记录媒体 基片的透射值或反射值用作用于确定记录媒体真实性的信息。
但是,在这些记录媒体中,因为对一个真实记录媒体的判断是通过依据一个 记录媒体的基片的两个波长,来检测是否至少有一个透射值或反射值等于一个 预定值,而想要伪造记录媒体的第三者可以很容易测量到记录媒体基片的透射 率或反射率。所以,结论是,信息的可维护性和安全性功能不是很高。
因为为了使基片的透射依赖于波长,在将色素、染料和颜色加入到作为透明 基片材料的树脂中时,利用注入成型形成了基片,所以注入成型装置将被这些 色素、染料和颜色污染。
日本已公开的专利申请No.8-96362说明了如下方法,其中,由紫外激光直 接在记录媒的体表面形成了凸凹标志,而且,这些凸凹标志被用作确定记录媒 体真实性的信息。
但是,因为所述凸凹标志由例如象在形状改变时,经紫外激光束辐射的树脂 材料的变形和蒸发这样的所谓激光磨损直接形成于该记录媒体上,所以所蒸发 的树脂被分散到记录媒体的凹坑标志和引导槽上。其结果是,特别是对通过激 光记录并再现信息的光记录媒体,将对它的伺服信号和记录信号产生不良影响。
此外,依据该记录方法,因为所述凸凹标志被物理地记录在记录媒体的表面, 所以想要伪造该记录媒体的第三者就可以通过拆卸并分散记录媒体,物理地复 制、仿制并伪造上述记录媒体,而且,还可以非法使用合成的记录媒体。

发明内容

考虑到上述方面,本发明的一个目的是提供一种记录媒体,一种记录方法, 一种再现方法,以及一种记录和/或再现装置,其中,当记录并再现一个记录媒 体时,可以将极难被复制、仿制并伪造的固有标识信息加到记录媒体或记录信 息中。
特别是,为了实现上述记录媒体、记录方法、再现方法,以及记录和再现装 置,各种实验、研究和检验的结果是,本申请的受让人已经找到了这样一种记 录媒体、记录方法、再现方法,以及记录和再现装置的实现方法,其中,通过 记录媒体的光透射基片本身的折射率或消光系数的变化,或者记录媒体的光透 射防护膜本身的透射率、反射率、折射率或消光系数的变化,或者透射系数或 反射系数的变化作为信息,可以将极难被复制并伪造的固有标识信息加到记录 媒体和记录信息中,而且,本申请的受让人还打算提供一种记录媒体、一种记 录方法,一种再现方法,以及一种记录和再现装置。
在依据本发明的一个记录媒体中,用光透射记录材料做成记录区域,其中,信 息的记录或者通过折射率的变化或消光系数的变化两者中的至少一种变化来实 现,或者通过透射系数的变化或反射系数的变化两者中的至少一种变化来实现。
依据本发明的记录媒体是至少包括一个光透射基片或一个光透射防护膜,和 信息A的一个记录区域的一种记录媒体。光透射基片或光透射防护膜中至少有 一个用作记录区域,该记录区域中记录的信息B或者通过折射率的变化或消光 系数的变化两者中至少一种变化来实现,或者通过透射系数的变化或反射系数 的变化两者中至少一种变化来实现。
在依据本发明的记录和再现方法中,在记录媒体的光透射基片或光透射防护 膜上记录上述信息B的记录方法是以电子束的照射或光的照射为基础的。特别 是,一种典型的方法是基于紫外线的照射。
这种记录依据的是由照射在光透射基片或光透射防护膜上的电子束或紫外 线引起的光学常量的改变,而不是由对基片进行常规记录时的激光磨损引起的 形状的改变。另外,应该将上述记录和通过发生化学变化实现的记录区别开来, 所述化学变化是在象染料这样的物质和包括光透射基片或光透射防护膜的材料 混合在一起的情况下引起的。
在依据本发明的记录和再现方法中,依据信息B的上述再现方法,即,读 取信息B的方法,再现光,即,紫外线,作为典型的再现光,被照射在记录媒 体上,并且,随着上述折射率的变化或消光系数的变化、或是透射系数的变化 或反射系数的变化,通过改变所述再现光的通光量或改变反射光量,从而再现 出信息B。
另外,依据本发明的记录和再现装置包括用于将记录光或电子束照射到依据 本发明的上述记录媒体的照射装置、用于辐射再现光的照射装置和光检测装置。 通过辐射记录光或辐射电子束引起的光学常量的改变,信息B被记录到记录媒 体、或光透射基片或包含记录媒体的光透射防护膜的光透射记录材料上。当信 息被再现时,辐射出再现光,并且,通过利用光检测装置检测透射光或反射光 的改变量,来再现信息。
特别是,依据本发明,固有标识信息是作为上述信息B的添加信息被记录 的。依据本发明的记录媒体上的信息B是不可取消的,稳定的,而且,该信息 也不依据受象物体表面凸凹坑这样的形状改变影响的信息记录系统。因此,即 使当第三者想要通过分散并拆开记录媒体,来伪造该记录媒体,他也极难将已 记录信息物理地复制到其它记录媒体中。
依据本发明的一个方面,提供了一种记录媒体,包含一个光透射记录部 分,该光透射记录部分具有一个记录区域,信息将通过所述光透射记录 部分的折射率的变化或消光系数的变化中至少一种的变化来记录到该记 录区域中。
依据本发明的另一个方面,提供了一种记录媒体,包含一个光透射记录 部分,该光透射记录部分具有一个记录区域,信息将通过所述光透射记 录部分的透射系数的变化或反射系数的变化中至少一种的变化来记录到 该记录区域中。
依据本发明的另一个方面,提供了一种记录媒体,包括光透射基片和光透 射防护膜中的至少一个,具有信息A将记录于其中的记录区域A和信息B将 记录于其中的记录区域B,其中所述记录至少通过所述光透射基片和光透射防 护膜的或者折射率的变化或者消光系数的变化来记录。
依据本发明的另一个方面,提供了一种记录媒体,至少包括光透射基片和 光透射防护膜中的一个,具有信息A将记录于其中的记录区域A和信息B将记 录于其中的记录区域B,其中所述记录至少通过所述光透射基片和光透射防护 膜的或者透射系数的变化或者反射系数的变化来记录。
特别是,依据本发明的记录媒体包括一个记录区域,该记录区域既记录了包 括固有标识信息的信息B,又记录了例如象数字、字符、图象和条形码这样可 在视觉上被观察到的信息。
对于上述信息A,所记录的内容至少包括一个或多个例如象数据信息、地址 信息、磁道信息和标志信息这样的各种信息。
上述固有标识信息可以是至少包括下述一种信息的信息,它们是,记录媒体 的管理信息、记录信息的管理信息、记录或/和再现禁止信息、记录媒体真和假 的信息、记录或/和再现数量限制信息、和用户鉴别信息。
信息B可以是至少包括一个或多个例如象上述数据信息、地址信息和磁道 信息这样的各种信息的信息,同时,也可以由信息A和B的组合来记录上述固 有标识信息。另外,信息A可以包括例如象能够检测记录信息B的存在性、记 录位置、再现功率这样的涉及信息B的记录的信息。
依据本发明的一个实施例的记录媒体,或者是将光透射记录材料本身用作信 息记录材料的一个记录媒体,或者是至少包括一个光透射基片或一个光透射防 护膜的多个记录媒体,例如,包括光记录媒体、磁性记录媒体、磁光记录媒体、 染色记录媒体、相变记录媒体的CD、CD-R、DVD盘,或信用卡、行卡、货 币卡、月票卡,等。
依据本发明的记录媒体包括上述光透射记录材料本身,其中记录的信息,即, 信息B,或者通过折射率的变化或消光系数的变化两者中至少一种变化来实现, 或者通过透射系数的变化或反射系数的变化两者中至少一种变化来实现。
依据本发明的一个记录媒体可以用作包括一个光透射基片或一个光透射防 护膜的一个记录媒体,例如,在所述记录媒体中,利用非常小的凹凸图案,在 上述凹坑标志记录区域上形成信息A。另外,依据本发明的记录媒体还可以被 用作这样一个记录媒体,其中,光记录层、磁性层、磁光记录层、染色记录层 和相变记录层或者形成于上述非常小的凹凸图案上,或者形成于没有形成上述 非常小的凹凸图案的光透射基片上,该基片记录有信息A。
上述光透射记录材料或光透射基片可以由聚酸酯树脂、聚烯树脂、聚甲 基丙烯酸甲酯树脂、环树脂和丙烯酸树脂中的任何一个树脂基片或玻璃基片 造成,其中,通过折射率、消光系数、透射系数或反射系数的变化,就可以将 象信息B这样的信息记录到上述基片中。所述光透射基片的厚度大致可以在例 如0.3mm到1.2mm的范围内选择。
与此相似,能通过折射率、消光系数、透射系数或反射系数的变化来记录信 息B的光透射防护膜,可以由聚碳酸酯树脂、聚烯烃树脂、聚甲基丙烯酸甲酯 树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂、经紫外固化的树脂、热硬化性树脂、光聚和物 树脂中的任何一种,或由玻璃或层薄膜制成的薄层造成。所述光透射防护膜 的厚度大致可以在1μto到0.3mm的范围内选择。
当通过光的照射记录并再现了信息A,或通过光的照射再现了信息A时, 在上述光透射记录材料、光透射基片和光透射防护膜中,可以将涉及信息A的 照射光的记录和再现波长、涉及信息B的照射光的波长、以及信息A和信息B 的记录/再现光的波长,选择为不同波长或相同波长。
特别是,当信息A的记录区域是这样的记录区域,其中,利用波长为λra 的光进行照射,从而记录了信息A,而利用波长为λpa的光进行照射,从而再 现出信息A,并且,当光透射基片或光透射防护膜是这样的光透射基片或光透 射防护膜,其中,利用波长为λrb的光进行照射,从而记录了信息B,而利用 波长为λpb的光进行照射,从而再现出信息B时,λra、λpa、λrb、λpb 的每个关系包括下述一个或多个关系:λra=λpa,λra≠λpa,λrb=λpb,λ rb≠λpb,λra=λrb,λra≠λrb,λpa=λpb,λpa≠λpb,λra=λpb,λra ≠λpb,λpa=λrb和λpa≠λrb。
当信息A的记录区域是这样的记录区域,其中,或者利用波长为λpa的光 进行照射,而再现出信息A,或者信息A的再现没利用光的照射时,λpa、λ rb、λpb的每个关系包括下述一个或多个关系:λrb=λpb,λrb≠λpb,λpa= λpb,λpa≠λpb,λpa=λrb和λpa≠λrb。
上述信息B的记录是通过多值折射率的变化、多值消光系数的变化、多值 透射系数的变化或多值反射系数的变化而实现的。
利用多值折射率的连续变化、多值消光系数的连续变化、多值透射系数的连 续变化或多值反射系数的连续变化,可以将上述信息B记录为模拟信息。
利用多值透射系数的变化或多值反射系数的变化记录的信息B,或者是利用 多值透射系数的连续变化或多值反射系数的连续变化记录的信息B可以被记录 为包含固有标识信息的信息和例如象数字、字符、图象和条形码这样可在视觉 上被观察到的信息。
当以多值记录方式,或连续多值记录方式,即模拟记录方式记录信息B时, 因为可以记录更为复杂和实用的信息,所以可以将依据本发明的记录媒体用作 适合记录特别是例如象固有标识信息这样的安全信息的记录媒体。
固有标识信息可以是至少包括下述一种信息的信息,它们是,记录媒体的管 理信息、记录媒体的管理信息、记录或/和再现禁止信息、记录媒体真或假的信 息、记录或/和再现数量限制信息、和用户鉴别信息。
信息B可以被记录为不止包括例如象上述数据信息、地址信息和磁道信息 这样的各种信息的信息,同时,也可以由信息A和B的组合来记录上述固有标 识信息。另外,信息A可以包括例如象能够检测记录信息B的存在性、记录位 置、再现功率这样的涉及信息B的记录的信息。
上述信息B是由电子束的照射或光的照射来记录的,最理想的情况是,光 的照射应该通过紫外线的照射来实现。
当再现信息B时,将再现光照射到记录媒体上,这样,由该再现光的透射 光量或反射光量的变化而再现了信息B。
当再现信息A和信息B时,例如,在再现了信息B之后,可以依据这一再 现信息记录或/和再现信息A。
依据本发明的记录和再现装置包括一个光源部件,该光源部件用基于其模式 相应于信息B的紫外光的记录光来照射记录媒体的光透射基片或光透射防护膜 中的一个。通过来自该光源部件的记录光,随着相对于光透射基片和光透射防 护膜的折射率的变化、消光系数的变化、透射系数的变化或反射系数的变化, 信息B被记录下来。
上述光源部件可以包括一个紫外线发光激光器或一个紫外线发光管。
另外,所述光源部件可以包括一个紫外线发光管和一个其图案与信息B相 应的光掩模。
而且,可以以多值记录方式和连续的多值记录方式来记录信息B。
依据本发明的记录和再现装置可以包括一个光源部件和一个光检测装置,其 中,光源部件用于将再现光照射到所发明的记录媒体上,光检测装置用于检测 通过记录媒体的光透射基片或光透射防护膜的再现光的透射光量或反射光量的 变化。
例如,所述再现光的波长可以大于200nm,而小于500nm。
光检测装置可以包括一个固态图象设备,例如,一个CCD(电荷耦合设备) 照相机,一个CMOS(互补的金属氧化物半导体)照相机,或一个例如象光 电二极管这样的光电检测器。
另外,依据本发明的记录和再现装置可以包括一个物镜。该物镜可以对来自 上述发明的记录媒体的光源部件的紫外线激光进行聚焦,以便得到聚焦和循迹 伺服信号。
而且,依据本发明的记录和再现装置可以包括一个用于产生信息A的记录 和再现光的光源部件以及一个用于产生信息B的记录和再现光的光源部件,这 样,信息A的记录和再现光,以及信息B的记录和再现光的波长既可以不同, 也可以相同。
特别地,如上所述,当信息A的记录区域是这样的记录区域,其中,利用 波长为λra的光进行照射,从而记录了信息A,而利用波长为λpa的光进行照 射,从而再现出信息A,并且,当光透射基片或光透射防护膜是这样一种光透 射基片或光透射防护膜,其中,利用波长为λrb的光进行照射,从而记录了信 息B,而利用波长为λpb的光进行照射,从而再现出信息B时,各个记录和再 现光源部件的各个波长λra、λpa、λrb、λpb之间的关系可以是下述的一个 或多个关系:λra=λpa,λra≠λpa,λrb=λpb,λrb≠λpb,λra=λrb,λ ra≠λrb,λpa=λpb,λpa≠λpb,λra=λpb,λra≠λpb,λpa=λrb,λpa ≠λrb。
当信息A的记录区域是这样的记录区域,其中,或者利用波长为λpa的光 进行照射,从而再现出信息A,或者信息A的再现没利用光的照射时,λpa、 λrb、λpb可以包括下述一个或多个关系:λrb=λpb,λrb≠λpb,λpa=λ pb,λpa≠λpb,λpa=λrb和λpa≠λrb。
当信息A的记录区域是这样一种记录区域,其中,利用波长为λra的光进 行照射而记录了信息A,而利用波长为λpa的光进行照射,从而再现出信息A, 并且,当光透射基片或光透射防护膜是这样的光透射基片或光透射防护膜,其 中,用波长为λrb的光进行照射,而记录了信息B,而用波长为λpb的光进行 照射而再现出信息B时,理想的情况是,就信息A的记录波长为λpa的光和信 息A的再现波长为λpa的光而言,光透射基片或光透射防护膜的透射系数应该 大于50%。
其原因说明如下。即,当借助于光的照射而记录或再现信息A时,可以将 光辐射能量有效地提供给信息A。当上述透射系数小于50%时,光辐射光源需 要很大功率。因此,例如,当将一个半导体激光器用作光源时,产生的电流增 大,以致,半导体的使用寿命被不可避免地缩短了。
与此相似,当信息A的记录区域是这样的记录区域,其中,用波长为λra 的光进行照射而记录了信息A,用波长为λpa的光进行照射而再现出信息A, 并且,当光透射基片或光透射防护膜是这样一种光透射基片或光透射防护膜, 其中,用波长为λrb的光进行照射而记录了信息B,用波长为λpb的光进行照 射而再现出信息B时,理想的情况是,就信息B的记录波长为λrb的光而言, 光透射基片或光透射防护膜的透射系数应该选择小于50%。
其原因说明如下。即,当记录信息B时,如果选择的透射系数大于50%, 那么,因为记录光的透射系数很大,而且能量不能被有效吸收,所以,记录的 有效性就降低了,而且光辐射光源需要很大功率。因此,例如,当将一个半导 体激光器用作光源时,产生的电流增大,以致,半导体的使用寿命被不可避免 地缩短了。
而且,当信息A的记录区域是这样的记录区域,其中,用波长为λra的光 进行照射而记录了信息A,用波长为λpa的光进行照射而再现出信息A,并且, 当光透射基片或光透射防护膜是这样一种光透射基片或光透射防护膜,其中, 用波长为λrb的光进行照射而记录了信息B,用波长为λpb的光进行照射而再 现出信息B时,理想的情况是,就信息B的再现波长为λpb的光而言,光透射 基片或光透射防护膜的透射系数应该选择大于50%。
其原因说明如下。当所述透射系数小于50%时,再现光的损失就增大了。其 结果是,为了得到更高的S/N(信噪比)或更高的C/N(载波噪声比),光辐射 光源需要很大功率。因此,例如,当将一个半导体激光器用作光源时,产生的电 流增大,以致,半导体的使用寿命被不可避免地缩短了。
附图说明
图1是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图2是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图3A是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图3B是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图4A是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图4B是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图5A是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图5B是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图6是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图7是一个示意性的剖面图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图8是一个示意性的透视图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图9是一个示意性的透视图,显示了依据本发明的一个记录媒体的例子;
图10是一个示意性的透视图,参照该图,将说明在依据本发明的一个实施 例中,在记录媒体上记录信息的方式;
图11是一个示意性的透视图,参照该图,将说明在依据本发明的一个实施 例中,在记录媒体上记录信息的方式;
图12A是一个示意性的透视图,参照该图,将说明在依据本发明的一个实施 例中,从记录媒体中再现信息的方式;
图12B是一个图表,参照该图,将说明检测到的反射光量;
图13A是一个示意性的透视图,参照该图,将说明在依据本发明的一个实施 例中,从记录媒体中再现信息的方式;
图13B是一个图表,参照该图,将说明检测到的反射光量;
图14是一张框图,它显示了依据本发明的一个信息记录装置的例子;
图15是一张框图,它显示了依据本发明的一个信息再现装置的例子;
图16是一张框图,它显示了依据本发明的一个信息再现装置的例子;
图17A到17E显示了一组图表,参照该图,将分别说明依据本发明的记录信 息和检测信号的方式;
图18是一个记录媒体的顶视图,参照该图,将说明在依据本发明的记录媒 体中,信息B的存储位置;
图19的图表显示了在用紫外线对记录媒体样本进行照射前后分别得到的依 赖于透射系数的波长的测量结果;
图20的图表显示了在用紫外线对记录媒体样本进行照射前后分别得到的依 赖于折射率的波长的测量结果;
图21的图表显示了在用紫外线对记录媒体样本进行照射前后分别得到的依 赖于消光系数的波长的测量结果;
图22A和22B分别显示了当紫外线照射到光透射基片上时,或当紫外线没有 照射到光透射基片上时,得到的所记录信息的状态;
图23的框图显示了依据本发明的一个再现装置的例子;
图24显示了当从依据本发明的记录媒体中检测到反射光量时,得到的一个 经再现的信号;
图25显示了当从依据本发明的记录媒体中检测到反射光量时,得到的一个 经再现的信号;
图26显示了当从依据本发明的记录媒体中检测到反射光量时,得到的一个 经再现的信号;
图27显示了当从依据本发明的记录媒体中检测到反射光量时,得到的一个 经再现的信号;
图28显示了当从依据本发明的记录媒体中检测到反射光量时,得到的一个 经再现的信号;
图29显示了相对于依据本发明的反射光量的变化,依赖于信息B的记录长 度的测量结果;
图30A显示了当一个记录媒体在第一次再现中被再现时,所得到的记录标志 链的经再现的信号;
图30B显示了当一个记录媒体在第十万次再现中被再现时,所得到的记录标 志链的经再现的信号;
图31显示了反射光量的幅度和依据本发明的记录媒体的再现次数;
图32A到32C分别显示了由依据本发明的记录媒体的反射光得到的经再现的 信号;
图33是一张图表,它显示了按照紫外线的照射时间,所测量出的与透射系 数相关的波长;
图34是一张图表,参照该图表,将说明基于透射系数变化量的信息多值记 录;
图35是一张透视图,显示了基于透射系数变化量的信息的多值记录状态;
图36是一张图表,参照该图表,将说明基于透射系数变化量的信息的多值 记录状态;
图37是一张图表,它显示了紫外线照射到记录媒体之后,所测量的与透射 系数相关的波长;
图38是一张图表,参照该图表,将说明,对于众多波长的再现方法,其中, 波长与透射系数相关;
图39是一张透视图,参照该图,将说明对于众多波长的再现方法,其中的 波长依赖于透射系数;
图40A和40B是一组图,将分别说明对于多个波长的再现方法,其中的波长 依赖于透射系数;
图41A和41B是一组图,将分别说明对于多个波长的再现方法,其中的波长 依赖于透射系数;
图42是一张示意图,参照该土,将说明对于多个波长的再现方法,其中的 波长依赖于透射系数;
图43是一张示意图,参照该图,将说明通过使用带有多个波长的再现光的 一个再现信息的方法;
图44是一张示意图,参照该图,将说明通过使用带有多个波长的再现光的 一个再现信息的方法;
图45是一张图表,它显示了在紫外线辐射前后,分别得到的依赖于透射系 数的波长;
图46是一张图表,它显示了在紫外线辐射前后,分别得到的依赖于折射率 的波长;并且
图47是一张图表,它显示了在紫外线辐射前后,分别得到的依赖于消光系 数的波长;

具体实施方式

以下,将参照附图对本发明进行说明。
图1是一个示意性的剖面图,它显示了一个例如象ROM盘这样的ROM(只读 存储器)型记录媒体。如图1所示,在这个例子中,由聚碳酸酯(PC)基片制 成的光透射基片1由注入成型而构成,其中,聚碳酸酯基片包括信息A的一个 记录区域3,该记录区域由例如象信息A的记录凹坑和记录槽这样的非常小的凹 凸组成。反射膜4形成于这样一个面上,在这个面上,形成有包括信息A的记 录区域3的基片1的非常小的凹凸,即信息A的记录区域。光透射防护膜2形 成于所述反射膜4之上。
当从该记录媒体M的信息A的记录区域3中读出信息A时,通过物镜5,来 自光透射基片1一侧的激光L被聚焦到记录区域3,同时,根据检测到的由非常 小的凹凸所引起的干扰而产生的反射光量的变化,就可以将信息读出。
另外,如图1中点划线所示,通过物镜5,来自光透射防护膜2一侧的激光 L被聚焦到记录区域3,这样,根据检测到的由非常小的凹凸面上的干扰而产生 的反射光量的变化,也可以将信息读出。当根据来自光透射防护膜2一侧的激光 束的照射而读取信息时,和光透射基片1相比,光透射防护膜2具有足够薄的 厚度,以致,物镜5和记录区域3彼此非常靠近。其结果是,可以增加上述物 镜的数值孔径,并减小光束点的直径,由此,可以提高记录密度
图2是一个示意性的剖面图,它显示了一个记录媒体M。如图2所示,在该 记录媒体M中,例如,由经紫外处理的树脂造成的材料层6形成于光透射基片1 上,利用2P方法(光化聚合方法),包括依据非常小的凹凸的信息A的记录区 域3形成于材料层6上。
而且,在这种情况下,反射膜4形成于光透射基片1上,并且,在所述反射 膜表面形成了非常小的凹凸,即,在所述反射膜表面形成了信息A的记录区域。 光透射防护膜2形成于反射膜4上。
当从如图2所示的记录媒体M的信息A的记录区域3中读取信息A时,例如, 来自光透射基片1表面的激光L,通过物镜5,被聚焦于记录区域3上,根据检 测到的由非常小的凹凸面产生的干扰所引起的反射光量的变化,就可以将信息读 出。
另一种可替换的方案是,如图2中点划线所示,通过物镜5,将来自光透射 防护膜2表面的激光L聚焦到记录区域3上,这样,根据检测到的由非常小的 凹凸面上的干扰所产生的反射光量的变化,也可以将信息读出。
图3A是一个示意性的剖面图,它显示了一个记录媒体。如图3A所示,例如, 象如上所述的包括信息A的记录区域3的磁光记录层、染色记录层和相变记录 层这样的一个可重写的记录层或一个写入一次记录层形成于光透射基片1上。保 护膜12形成于上述记录层的表面。
包括上述记录区域3的记录层并不仅限于单层结构,它可以是由多个材料层 组成的多层结构。为了改善这些记录层的记录和再现特性,可以使用上述多层结 构,其中,可以将例如象SiN、AlN、ZnS-SiO2和SiC这样的绝缘薄膜的一个材 料层,和例如象、金、银、和硅这样的金属薄膜的一个材料层,作为一个光 中间层;而将例如象SiN、AlN、ZnS-SiO2和SiC这样的绝缘薄膜的另一个材料 层,和例如象铝、金、银、铜、铂和硅这样的金属薄膜的另一个材料层,作为一 个热控制层。
可以由例如象溅射装置、蒸发装置和镀层装置这样的薄膜形成装置来形成这 些记录层和材料层。
具有适当反射系数的反射膜4通过沉积铝、金、银、铜、铂和这些金属的一 种合金而构成的。
图3显示了,例如,通过用物镜5,对来自光透射基片1表面的激光L进行 聚焦,将信息A记录到记录媒体,或从记录媒体中再现信息A。
图4A是一个示意性的剖面图,它显示了一个记录媒体M的结构。如图4A所 示,在该记录媒体M中,反射膜4形成于基片11上,该基片并不局限于光透射 基片。例如,象如上所述的包括信息A的记录区域3的磁光记录层、染色记录 层和相变记录层这样的一个可重写的记录层,或一个写入一次记录层形成于反射 层4上,其中,上述可重写的记录层已经参照图3进行了说明。然后,在这种 情况下,光透射防护膜2形成于记录层的表面。
通过物镜5,对例如是来自光透射防护膜2表面的激光L进行聚焦,从而将 信息A记录到记录媒体MK,或从记录媒体MK中再现信息A。
如图3B和4B所示,用于循迹伺服的槽可以形成于光透射基片1上,或光透 射防护膜2一侧上,如图2所示。
在图3B和4B中,那些与图3A和4A的元件和部件相同的元件和部件都是用 相同的参考号标记的,因此就不必说明了。
图5A是一个示意性的剖面图,它显示了一个记录媒体M。如图5A所示,在 该记录媒体M的设计中,可以记录信息A的两个记录区域3分别形成于两个表 面。在这种情况下,类似于图4A和4B,包括记录区域3的记录层可以分别形成 于光透射基片1的两个相对的主表面。另外,如图5B的一个示意性的剖面图所 示,象包括记录区域3这样的记录层可以分别形成于两个光透射基片1、或两个 片状光透射防护膜的一个表面,然后,用一个例如象经紫外处理的树脂或热硬化 性树脂这样的连接层AD将上述两个基片或薄膜连在一起。最后,例如,通过物 镜5对激光L进行聚焦,从而将信息A记录到上述记录媒体M的两个表面,或 从上述记录媒体M的两个表面中再现信息A。
在图5A和5B中,那些与图4A和4B的元件和部件相同的元件和部件都是用 相同的参考号标记的,因此就不必说明了。
依据本发明的记录媒体M并不仅局限于利用光学方法再现或记录并再现信息 A的记录媒体。例如,图6是一个示意性的剖面图,它显示了一个记录媒体M。 如图6所示,在该记录媒体的设计中,由磁性层组成的用于记录并再现信息A 的记录区域3可以形成于光透射基片1上。
另一种可替换的方案是,图7是记录媒体M的一个示意性的剖面图。如图7 所示,由磁性层组成的用于记录并再现信息A的记录区域3可以形成于基片11, 该基片并不局限于象光透射基片这样的基片,而且,光透射防护膜2可以形成于 记录区域3上。
图6和图7所示的记录媒体M可被用于构造所谓硬盘。
分别如图8和9所示,当磁头21跟踪由磁性层组成的记录区域3时,将向 这些记录媒体M的记录区域3中记录信息A,或从这些记录媒体M的记录区域3 中再现出信息A。例如,该磁头21可以是一个浮动型磁头。特别地,这种磁头 21包括一个滑动头,该滑动头依靠由记录媒体M即磁盘的旋转而产生的气流浮 动,由此,安装在该滑动头上的一个主元件以环形方式或螺旋形方式扫描相对于 磁性层即记录区域3的所谓空气轴承的记录区域4,其结果是,可以沿着上述扫 描轨迹,记录并再现信息A。
上述记录媒体M各自的光透射防护膜2可以分别包括如上所述的材料或镀层 薄膜。
下面,将说明在依据本发明的记录媒体上记录信息的方式。
可以用普通方法分别在如图1到7所示的记录媒体M中记录信息A。
特别是,在图1和图2的结构中,当形成记录区域3的非常小的凹凸是通过 例如注入成型法或2P方法形成时,会用到一个压模,在该压模的制作过程中, 即母版的制作过程中,凹凸模式是作为对应于信息A的模式形成的。
当在如图3到5所示的记录媒体M中记录信息A时,响应于记录信息A,把 一个光模式或热模式加到所述记录层中,这样,通过例如形状的改变、化学反应、 从结晶到非结晶的变化、磁化方向等等的变化,从而将信息A记录到记录媒体A 上。
此外,如图6和7所示,通过改变上述磁头21的磁化方向,从而将信息A 记录到记录媒体M中。
最好是通过紫外线的照射,将上述信息B记录到上述记录媒体M各自的光透 射基片1和光透射防护膜2上。其原因在于,大多数物质都可以很好地吸收紫 外线波长范围的光,这样,光透射基片1和光透射防护膜2可以发生与包含目 标光透射基片1和光透射防护膜2的材料无关的化学和物理的变化,而不会引 起机械变化。
通过对照射时间、强度、照射区域中的任何一个或两个进行调制,都可以实 现基于紫外线照射的记录。
当记录媒体M完成于信息A的记录之前或之后时,相应于记录媒体M的结构, 都可以把信息B记录到光透射基片1和光透射防护膜2上。此外,当记录媒体M 只完成了一半,或当光透射基片1和光透射防护膜2各个材料层还没有形成时, 也可以记录信息B。
如图10所示,例如,当上述信息B在记录媒体M的旋转过程中被记录时, 紫外激光束LR的光点被辐射到其模式相应于记录信息的记录媒体M上,由此, 依据折射率的变化、消光系数的变化、透射系数的变化或反射系数的变化,形成 了信息B的记录部分20。依据本方法,记录图案20是弧形的。那时,紫外激光 束LR的入射面既可以形成于光透射基片一侧,又可以形成于所形成的记录层的 反面
可以利用紫外线灯来记录信息B。在这种情况下,如图11所示,例如,一个 对紫外线有掩蔽效果的光掩模22有一个透射图案23,该图案用于透射与记录信 息B的图案相应的紫外线,而且,所述光掩模和信息A的记录区域表面或者相 邻,或者相反,即上述光掩模或者位于记录层所在平面的表面,或者位于光透射 基片1的反面或光透射防护膜2的反面。然后,通过辐射来自紫外线灯24的紫 外线,可以在上述光掩模22的表面形成如图13所示的信息B的记录部分20。
如果准备了多种光掩模22,或者多个光掩模22,并且把它们结合在一起, 那么就可以记录多种模式的信息B。
上述信息B的记录部分20可以如上所述,形成于象包括信息A的记录区域3 这样的记录层形成之前。在这种情况下,类似上述的记录层被搁置到记录部分20 的形成之后。
另外,可以以多级记录方式记录信息B。在这种多级记录中,响应所述记录 信息,紫外线的辐射时间、辐射强度和光辐射量中,有多个量都发生了变化,由 此实现对信息的记录,在该记录中,或者折射率的改变量和消光系数的改变量不 同,或者透射系数的改变量和反射系数的改变量不同。之后,上述改变量既可以 以阶梯式方式改变,即数字方式,也可以连续改变,即模拟方式,这样,就可以 实现连续的多级记录了。
下面,将说明一种再现方法。
例如当利用与普通方式相似的激光进行照射或依据如图6和7所示的磁性记 录层的激光进行照射,而从每个记录媒体M的记录区域3再现信息A时,可以 由磁头对来自记录区域3的信息A进行再现。
如图12A或13A所示,当从记录媒体M读取信息B,即再现记录部分20时, 如果记录媒体M正在旋转,再现光L的光点就扫描光透射基片1或光透射防护 膜2,同时,检测出来自信息B的记录部分20的再现光L的反射光,其中,所 述信息B是随光透射基片1或光透射防护膜2的折射率的变化、消光系数的变 化、透射系数的变化或反射系数的变化被记录的,从而,检测出信息B,即如图 12B和13B所示,利用检测到的光量来再现信息。
此外,当再现以多值记录方式阶梯或连续记录的信息B时,检测出来自信息 的记录部分20的再现光L的反射光,其中,所述信息是随折射率的变化、消光 系数的变化、透射系数的变化或反射系数的变化被记录的,从而,类似地检测出 信息B,即,利用检测到的光量变化来再现信息。
下面,将说明一种记录装置和一种再现装置。
图14的示意性框图显示了一种记录装置的例子。
在这个例子中,利用光学记录方法,将信息B记录在记录媒体M的光透射基 片1或光透射防护膜2上。
可以把信息A和信息B记录在记录媒体M中沿厚度方向的重叠位置上,或者 可以把信息B记录在一个指定位置上,例如,记录在信息A的记录区域范围的 内边界以内或外边界以外。另外,当在光透射基片1或光透射防护膜2上形成 非常小的凹凸槽时,可以将信息A记录在槽和平台部分的一个上,而将信息B 记录在上述槽和平台的另一个上。
在这个例子中,记录媒体M是一个盘状的记录媒体,并且,它由达30驱 动而旋转。
所提供的光辐射装置,即光拾取器31是相对于上述记录媒体M的。
虽然没有显示,但该光拾取器31具有与一个普通光记录媒体中的一个光拾 取器31相应的结构。在这种情况下,该光拾取器包括一个用于产生记录光的光 源部件,例如,带有紫外激光器的一个光源部件,安装在传动器上的用于调节聚 焦和调节跟踪的如上所述的物镜5,用于形成光通路的各种透镜,一个分束器, 一个例如象反射镜这样的光学系统,一个用于检测聚焦误差和循迹误差的检测部 件,一个用于检测来自记录媒体M的返回光(反射光),并将检测到的光转换成 电子信号的光检测装置,例如可以是象光电二极管这样的光电检测器。
如上所述,当把紫外线用作光源部件的记录光时,该记录光可以以高能量密 度和更高的精度照射到更小的区域上。
与该紫外线激光器一样,还可以使用一个YAG(钇铝柘榴石)激光器和一个 基于非线性光晶体的激光器,这些激光器通过有效利用波长转换,可以产生波长 为266nm的紫外光激光束。本发明并不局限于上述激光器,只要所用激光器能 够产生紫外光线,那么本发明可以使用各种类型的激光器。
如图14所示,在该记录装置中,提供了一个中央控制电路32。
将所记录信息B输入到一个输入装置33,经过一个加密电路34加密后,由 一个编码电路35进行编码。然后,将这个经过编码的信号输入中央控制电路32。
为了将所输入信息记录到发明的记录媒体M中,中央控制电路32控制了记 录媒体KM的一个旋转马达30的一个马达驱动电路36,和用于驱动光拾取器31 的紫外线激光器的一个激光器驱动电路37。
同时,上述中央控制电路32监视并控制了一个来自光量监控器38的用于 监控是否适当记录了信息监的控信号,以及来自聚焦和循迹监控器39的用于监 控是否在目标位置记录了信息的监控伺服信号。
从编码电路35进入中央控制电路32的所输入信息经过激光器驱动电路37 后,被转换成光拾取器31的光源部件的激光束,在这个例子中,被转换成紫外 线激光,最后,被记录到发明的记录媒体M中。
上述情况下得到的激光辐射强度和辐射时间由光量监控器38控制,而且, 这些信息将会反馈到中央控制电路32。所记录信息在记录媒体M上的记录位置 由聚焦和循迹期间得到的伺服信号控制。信息检测电路40负责确认所记录信息 是否正确。
在这种方式下,信息B被连续记录在预定位置上。
然后,当光拾取器31记录信息B时,通过改变相应于所输入信息B的紫外 线的照射时间、光量和照射强度,就可以以阶梯式方式或连续的多值记录方式记 录信息B。
参照图13,当通过来自上述紫外线激光器的激光束来记录信息时,依据利用 紫外线灯记录信息B的方法,光拾取器的光源部件包括一个紫外线灯,而且,通 过由紫外线灯产生的紫外线辐射,以预定模式、相同的能量密度,将信息记录到 如上所述的一个大的区域光掩模22上。
与该紫外线灯一样,还可以使用各种紫外线灯,例如,能够产生紫外线的一 个低压银灯、一个高压水银灯、一个超高压水银灯和一个氙灯。
当从紫外线灯,特别是从紫外线激光器中辐射的光的波长很短时,为了避免 空气吸收紫外线,使得可以将紫外线高效地照射到记录媒体上,可以在象氮这样 很少吸收紫外线的大气中从紫外线激光器中产生激光。
与上述用于记录信息A的记录方法和记录装置一样,还可以使用普通的记录 方法和记录装置。信息B的上述记录装置的部分或全部可以被信息A的记录方 法和记录装置共用。
图15是一张示意性框图,它显示了依据本发明的一个再现装置的例子。
在图15中,那些与图14的元件和部件相同的元件和部件是用相同的参考号 标记的。
首先,再现记录在记录媒体M上的信息B。
中央控制电路32控制了用于使记录媒体M旋转的旋转马达30的马达驱动电 路36,和用于驱动光检测装置的光拾取器31的光源部件的激光器驱动电路38, 这样,上述光拾取器31的光源部件就可以产生再现激光了。
同时,上述中央控制电路32监视并控制了来自光量监控器38的信号,来自 聚焦和循迹监控器39的伺服信号,以及通过光拾取器31,从记录媒体M再现出 来的一个信号,其中,所述光量监控器用于监控是否通过用于记录和再现记录媒 体M的光拾取器31,适当再现了信息,所述聚焦和循迹监控器用于监控是否从 目标位置再现了信息。上述情况下得到的激光照射强度和照射时间由光量监控器 38控制,而且,这些信息将会反馈到中央控制电路32,并由该中央控制电路管 理。目标信息在记录媒体M上的位置由从聚焦和循迹监控器39中得到的伺服信 号控制。
随着再现光的透射光光量的变化或反射光光量的变化,光拾取器31的光电 检测器可以检测到从光拾取器31中得到的透射系数的变化或反射系数的变化, 并把检测到的上述变化转换成电子信号。首先,将经再现的信号输入到信息检测 电路40中,通过解码电路41进行解码后,再通过解密电路42进行解密,然后, 将所得信号输入中央控制电路32。中央控制电路32判断了这样得到的信息是否 为正确信息。如果中央控制电路32判断出所得信息正确,那么光拾取器31可 以从记录媒体M中读取信息A,并将信息A作为输出信号43再现。
可以将普通再现方法和再现装置用作信息A的再现方法和再现装置,而且可 以共用上述信息B的部分或全部再现装置。
图16是一张示意性框图,它显示了一种再现装置的例子,该再现装置是在 当使用的记录媒体M的如图6和7所示的信息A的记录区域3包括一个磁性层 的情况下使用的。
在图16中,那些与图14和15的元件和部件相同的元件和部件是用相同的 参考号标记的,因此就不必说明了。在这种情况下,提供了涉及信息A的如上所 述的记录和再现磁头21,以及涉及信息B的光拾取器31。
在上述记录和再现装置中,再现信息B的方法类似于图15所示的方法。如 果该再现判断出记录媒体M是适当的记录媒体,那么中央控制电路32就向记录 和再现磁头21提供一个控制信号,这样,就可以在磁性记录媒体上记录并再现 信息了。其结果是,通过记录和再现磁头21,从磁性记录媒体中再现出依据信 息A的磁性记录信号,并且,通过信息检测电路44,可以从所述再现磁性记录 信号中检测出信息A。信息切换电路45对所检测信号进行切换,并将切换结果 输入解码电路39。然后,来自解码电路41的经解码信号由解密电路42进行解 密,经解密的信号被输入到中央控制电路32,从该控制电路,可以得到输出信 号43。
当所记录信息B是如上所述的多值记录信息时,作为输出信号43,可以得到 阶梯状或连续的多值输出信号。
虽然在如图14到16所示的装置中,记录装置和再现装置是分别举例的,但 是,可以设计一个包括上述这些功能的记录和再现装置。
例如,在如图15和16所示的设计中,提供了如图14所示的输入信息的输 入电路系统,即,输入装置33,加密电路34和编码电路35。而且,所提供的 光拾取器31和磁头21包括记录和再现功能。
在上述的各自装置中,例如,通过二进制处理,可以把信息B的信号作为二 进制信号进行检测,下面,参照图17A到17E,将说明该过程。
例如,如图17A所示,在记录媒体M中,如上所述的各种类型的记录层3作 为记录区域3被记录在光透射基片1或光透射防护膜2上,而反射膜4形成于 记录层3上,如图17B所示,当信息A的经再现信号是电平为T0到T1的信号SA 时,在记录媒体M的光透射基片1或光透射防护膜2上形成了信息B的记录部 分20。如图17D所示,来自记录部分20的信号是电平为T2的信号SB。因此, 如图17B和17D中的点划线所示,当依据电平T1和T2之间的电平TS的限制电平 二进制化上述信号时,如图17E所示,可以检测出信息B。
虽然,在记录媒体M中,信息A和信息B的记录位置,相应于它们的记录和 再现方法,可以相互重叠,但是,当利用波长相同的紫外线照射记录信息时,例 如,如果信息B记录在记录媒体M的某个位置上,那么该位置一定不会和信息A 的记录位置重叠。例如,如图18的顶视图所示,在盘状记录媒体M中,信息A 的记录部件20形成于除信息A的记录区域范围50之外的内边界区域51或外边 界区域52。
另外,如上所述,可以将信息A记录在槽和平台中的一个上,而将信息B记 录在上述槽和平台中的另一个上。
信息A的记录波长λra和再现波长λpa最好应该通过包括在可见光范围内 波长的光源部件实现。当该光源部件包括一个半导体激光器时,可以制造小型的 记录和再现装置。
信息A的记录波长λra和再现波长λpa可以通过波长为830nm的红外线半 导体激光,波长分别为780nm、680nm、650nm和635nm的红色半导体激光,波 长大约为532nm的绿色半导体激光,以及波长大约为400nm的蓝色半导体激光 实现。具体地说,光源部件最好应该包括波长大于300nm,而小于900nm的半导 体激光。
信息B的记录波长λrb和再现波长λpb最好产生于包括紫外线范围内波长 的光源部件。当所述光源部件包括例如象固态激光器和半导体激光器这样的一个 适当的装置时,可以制造小型的记录和再现装置。因此,信息B的记录波长λrb 和再现波长λpb可以用波长大约为400nm的蓝色半导体激光器,由非线性光晶 体组成的波长为266nm的远紫外线固态激光器,波长分别为108nm、126nm、 146nm、154nm、161nm、172nm、253nm、291nm、351nm的受激准分子灯,波长 为248nm的KrF受激准分子激光器,波长为193nm的ArF受激准分子激光器和 波长为157nm的F2受激准分子激光器来实现。具体地说,信息B的记录波长λ rb和再现波长λpb最好由波长大于100nm但小于500nm的光源部件产生。
下面,将说明涉及包括依据本发明的记录媒体M的光透射基片1的发明实例。 这里不需要说,本发明没有局限于下述说明的那些发明实例。
发明实例1:
在该实例中,提供了一个直径为120nm的由聚碳酸酯树脂制成的光透射基片
1.该光透射基片1的厚度的选择范围如下:只要能检测出所述光透射基片1的 透射系数和反射系数的变化就可以了。在这里,选择的光透射基片1的厚度是 0.6mm。
下面是通过两个样本测量得到的波长和透射系数的相关关系,一个样本是用 来自紫外线灯的紫外线照射光透射基片110分钟之后得到的,另一个样本是在 用紫外线照射光透射基片1之前得到的。在图19中,实线曲线61显示的波长 和透射系数的相关关系与用紫外线辐射光透射基片1以前得到的样本相对应。在 图19中,虚线曲线62显示的波长和透射系数的相关关系与用紫外线辐射光透 射基片1之后得到的样本相对应。
在这种情况下,作为所述紫外线辐射装置,还可以使用由Technovision公 司制造的商品名为“UVO-CLFANER”的模型类型为144A-100的紫外线辐射装置。 所述紫外线灯是一个低压水银栅极灯,而且它的灯输出为20mW/cm2。主紫外线 的波长分别为184.9nm和253.7nm。辐射是在由氮气组成的大气中进行的。分光 光度计在300nm到800nm的波长范围内对光透射系数进行测量。
对图19的研究表明,当用紫外线照射光透射基片后,光透射系数就减小了, 特别是,当波长小于500nm时,上述情况下的光透射系数会显著减小。这样, 当波长为400nm时,透射系数从照射前的88%下降为照射后的75%;当波长为350nm 时,透射系数从照射前的84%下降为照射后的50%。
下面,为了理解透射系数随紫外线的照射而变化的现象,先用一个椭圆分光 计测量所述光透射基片1的光学常量。图20显示了紫外线照射前后测量的波长 和折射率的相关关系的比较结果。
 图21显示了紫外线照射前后测量的波长和消光系数的相关关系的比较结果。
如图20和21所示,可以确定,光透射基片1的光学常量,折射率和消光系 数,随紫外线的照射而变化。
通过立体光学显微镜,可以观察到光透射基片1的形状在紫外线照射前后是 否改变。但是,可以确定,光透射基片1的形状在紫外线照射前后根本设有改变。 因此,透射系数的变化可能是化学变化,或由紫外线照射引起的树脂材料内部发 生的变化。应该认为,透射系数的变化不是由所谓激光磨损引起的形状的物理变 化造成的,所述激光磨损例如,由如上所述的紫外激光束的照射引起的树脂材料 的蒸发和变形。
特别地,由紫外线辐射引起的光学特性的变化(透射系数的变化或反射系数 的变化)是以作为树脂材料光学常量的折射率的变化和消光系数本身的变化为基 础的。
从图19清楚地看出,当使用经紫外线照射后发生变化的透射系数或反射系 数时,依据本发明的记录媒体M,可以在光透射基片1上记录或再现信息。
特别地,依据本发明,如上所述,例如,当由紫外线照射引起的记录媒体M 的光透射基片1的透射系数的变化可以记录信息B时,通过检测所述光透射基 片1的透射系数的变化,还可以再现信息B。
下面,将说明这样的发明实例,其中,紫外线对光透射基片1的照射改变了 作为光透射基片1的光学常量的折射率和消光系数,由此,光透射基片1的透 射系数和反射系数也发生了变化,以便记录并再现形式为字符、数字、图象和条 形码的信息B。
发明实例2:
在该实例中,信息的记录是通过用紫外线有选择地照射光透射基片1而实现 的。
特别是,在这种情况下,使用的是直径为120mm的由聚碳酸酯树脂制成的光 透射基片,在该基片的设计中,形成了如图1所示的非常小的凹凸。而且,在这 种情况中,基片1的厚度的选择范围如下:只要能检测出所述基片1的透射系 数和反射系数的变化就可以了。在这里,选择的基片1的厚度是0.6mm。
在所述光透射基片1的一个主表面上,形成了包括四个存储区的槽,这些存 储区的磁道间距在0.40μm到0.36μm之间,而且它的最小变化单位为0.02μ m。
在实际设计中,不需要说,除了上述槽外,用于读取地址以及类似信息的凹 坑标志和摆动槽也可以形成于这个光透射基片1的一个主表面上。
在这种情况下,如图22B所示,通过将紫外线有选择地照射到带有紫外线的 光掩模的光透射基片1上,基于字符的信息B就被记录到光透射基片1上了, 其中,如图22A所示,所述光透射基片1上形成了若干个环形槽G。而且,在这 种情况中,只将紫外线照射到字符部分10分钟。
在这种情况下,那些字符是可以用肉眼真实地观察的。
因此,如上所述,要理解的是,数字、字符、条形码和图象都可以被写到记 录媒体上。
如上所述,虽然可以检测到基于透过光透射基片1的光的透射系数的变化, 但本发明并不仅限于此,经紫外线照射后的光透射基片1上还可以形成反射膜, 该反射膜上沉积有预定反射系数的铝、铜、铂、银、金和它们的合金,并且,透 射系数的变化可以随来自光透射基片1的反射光光量的变化被检测出来。
如图22A和22B所示,虽然可以将信息B记录在形成了槽G的光透射基片1 中,但本发明并不仅限于此,记录媒体可以包括光透射记录材料100本身,这 样,就可以将类似的信息B记录在上述得到的效果相似的记录媒体中。
下面,将说明这样的发明实例,其中,紫外线对光透射基片1的照射改变了 作为光透射基片1的光学常量的折射率和消光系数,由此,光透射基片1的透 射系数和反射系数也发生了变化,以便记录并再现信息B。
发明实例3:
在该发明实例3中,参照如上所述的发明实例2,因为可以通过用紫外线有 选择地照射光透射基片1的任意位置,将信息记录到光透射基片1,所以可以通 过用紫外线有选择地照射光透射基片1,将信息记录B到光透射基片1,并且, 利用依据本发明的再现装置,再现所记录的信息B。
还是在这种情况下,如上所述,这里提供了直径为120mm的光透射基片1。 还是在这种情况下,虽然光透射基片1的厚度的选择范围如下:只要能检测出透 射系数和反射系数的变化就可以了,但是在这里,选择的光透射基片1的厚度是 0.6mm。
当把紫外线照射到上述光透射基片1时,如上所述,通过用来自紫外线灯的 紫外线照射光掩模上的光透射基片1,可以将记录标志链作为信息B记录。当标 志的长度分别变化为2.0mm、1.0mm、0.5mm和0.3mm时,这些记录标志链被记 录了。
在这种情况下,不需要说,在光透射基片1的一个主表面上,形成有槽、凹 坑标志、用于读取地址的摆动槽、以及反射膜和记录层。
为了再现光透射基片1,其中,通过本发明的再现装置紫外线辐射将信息B 记录在所述基片中,光透射基片的一个主表面上沉积有包括一个由铝制成的厚度 为100nm的反射膜,其中,溅射装置将信息B记录在所述基片中。
然后,将经紫外线固化的树脂涂在上述铝反射膜上,并用紫外线照射对其进 行固化,这样,得到一个所形成的保护膜。
反射膜的材料并不只局限于铝,反射膜可以由在再现波长处具有合适的反射 系数的其它材料制成,这些材料例如可以是铝合金、铜、铂、银、金和它们的合 金。
使用如图23所示的光拾取器34的发明的再现装置,再现了以上述方式在其 中记录信息B的记录媒体M。
用于产生再现光的光源71是一个波长为405nm的镓氮化物半导体激光器。 这里使用的是数值孔径(NA)为0.6的物镜5。
选择的记录媒体M的线速度是3.46m/s。
当从记录媒体M中检测到信息B时,检测到的信息B是经检测的来自记录媒 体M的被输入到检测器RF1和RF2的反射光量的输出量的总和,而且,将经检 测信息用作信息B的一个再现信号。选择用于再现的再现激光的功率是2mW。
在该实施例中,来自光源71中波长为405nm的激光器(没有显示)的再现 激光,通过准直透镜72、变形透镜73、分束器75、半波板76和物镜5,被辐 射到记录媒体M。
利用前端监视检测器77,通过检测由分束器75部分反射的激光,可以得到 用于控制激光器71的功率的监控信号。
记录媒体M反射的激光,通过物镜5和半波板76,输入到分束器75,经反 射后,被输入另一个分束器78,该分束器透射部分输入光,而反射了另一部分 输入光。透过分束器78的反射激光通过一个半波板82,被输入到分束器83, 从而,被分为两条光路,然后,所述两个光路分别通过多透镜84、85被输入到 检测器RF1和RF2。
另一个方面,被分束器78分离的激光被输入聚光器透镜86、多透镜87和 聚焦检测器88。
虽然可以按如上所述的方法使用来自检测器RF1和RF2的检测输出结果的总 和,但是,例如,当把信息A记录到磁光记录媒体,即,当通过检测克尔旋转 度θk,从磁光记录媒体读取信息A时,能检测出克尔旋转角度+θk和-θk, 并且,通过上述输出结果之间的差异,可以检测出再现输出结果,从而增加了再 现输出量。
这里不需要说,可以根据信息A的各种再现方法,来修改图23所示的再现 装置的光学系统的设计。而且,信息B的再现光学系统的设计也不仅限于此,只 要能够检测透射光量的变化或反射光量的变化,它的设计就可以改变。
图24到28显示了通过检测来自记录媒体M的反射光量的变化,所得到的再 现信号。图24显示了记录标志链,可以确定,一定能得到一个稳定的合适的信 号。图25到28显示了再现信号,其中的记录标志的长度分别为0.3mm、0.5mm、 1.0mm和2.0mm。
图29显示了反射光量的改变相对于由此得到的记录标志长度的比值。可以 确定,所记录的任何记录标志都可以提供稳定、合适的信号。
图30A和30B分别显示了当再现记录媒体一次和100000次时所得到的记录 标志链的再现信号。从这些再现信号的比较中可以清楚看出,再现记录媒体 100000次后得到的再现信号可以提供稳定、合适的信号。
图31显示了相对于再现次数的长度为2.0mm的标志的反射光量的幅度。如 图31所示,对于100000次的再现,反射光量的幅度根本没有发生变化。因此, 要理解的是,依据本发明的记录媒体M的信息B是被作为极稳定的不能取消的 信息而记录的。
在类似的方式下,例如象基于酞菁染料的色素薄膜这样的色素记录薄膜、例 如象基于钴铂铬的磁性薄膜这样的磁性记录薄膜、例如象基于铽钴的磁性薄膜 这样的磁光记录薄膜、和例如象基于锗锑碲的薄膜这样的相变记录薄膜代替了由 铝制成的反射膜,并且,该反射膜位于光透射基片1的一个主平面上,各个存储 装置将信息B记录在所述光透射基片1上。然后,类似地,利用再现装置,通 过改变反射光量的变化,可以再现信息B。
在这种情况下,直到再现记录媒体100000次,都不会在再现信息的过程中 在再现稳定性上出现任何问题。
在上述记录薄膜的情况下,除所述记录薄膜之外,还可以适当地添加并沉积 光干涉薄膜、热控制薄膜和反射膜。
磁光记录薄膜的上述设计变为一个例如象中央检测型磁性超清晰度记录媒体 这样的磁性超清晰度记录媒体,这种记录媒体例如可以是一个MAMM0S(磁性放 大磁光系统),以及一个例如象DWDD(磁畴壁位移检测)这样的扩大磁畴的再 现媒体,这种再现媒体至少包括一个再现层和一个记录层,并且,利用再现光中 的温度分布,使记录在记录层上的信息磁畴被有选择地传输到再现层,或者,一 旦再现,磁畴就被扩大,并被传输到再现层,之后,被沉积到其中利用各个沉积 装置记录了信息B的光透射基片1上。然后,类似地,利用再现装置,通过改 变反射光量的变化,可以再现信息B。
在这种情况下,直到再现记录媒体100000次,都不会在再现信息的过程中 在再现稳定性上出现任何问题。
在上述记录薄膜的情况下,除所述记录薄膜之外,可以适当地添加并沉积光 干涉薄膜、热控制薄膜和反射膜。
因此,可以清楚看到,依据本发明,利用本发明的再现方法,可以从光透射 基片M中非常满意、稳定地再现出信息B,并且,所记录信息是不可消除的、稳 定的。
因此,可以确定,依据本发明的记录媒体M,记录和再现方法,以及记录和 再现装置非常适合记录例如象记录媒体的固有标识信息这样的最好应该避免很容 易被重写的信息。
如上所述,已经证明,利用随依据本发明的记录媒体、记录和再现方法、以 及记录和再现装置的紫外线辐射而变化的透射系数,可以在光透射基片1上记录 信息,或从光透射基片1中再现出信息。特别是,可以清楚看到,利用由紫外线 的照射引起的记录媒体的光透射基片的透射系数的变化,可以记录信息,而且, 通过检测所述光透射基片的透射系数(或反射系数)的变化,可以再现信息。
特别地,上述发明实例1表明,光透射基片1的光学常量折射率和消光系数 的变化是由紫外线照射光透射基片1的任意位置引起的,由此,光透射基片1 的透射系数也发生了变化,这样,就可以记录/再现信息了。
所述发明实例2表明,通过用紫外线有选择地照射光透射基片1的任意位置, 可以在记录媒体上记录信息。
此外,所述发明实例3表明,通过用紫外线有选择地照射光透射基片1的任 意位置,可以在光透射基片上记录信息,并且,利用依据本发明的再现装置,可 以再现所记录信息。
下面,将说明这样的发明实例,其中,紫外线灯代替了紫外线光源,并且, 利用紫外线激光器可以记录并再现信息。
发明实例4:
还是在该实例中,准备了由聚碳酸酯树脂造成的直径为120mm的光透射基片 1。虽然光透射基片1的厚度的选择范围如下:只要能检测出光透射基片1的透 射系数或反射系数的变化就可以了,但是在这里,选择的光透射基片1的厚度是 0.6mm。
当把紫外线激光辐射到光透射基片1上时,利用如上所述的参照图10的方 法,所述紫外线激光被辐射到上述光透射基片1的一个主表面上。选择的所记录 信息的标志的长度为0.45mm。
在这种情况下,在光透射基片1的一个主表面上形成了基于槽、凹坑标志和 用于读取地址的摆动槽的非常小的凹凸。此外,还可以将反射膜和记录薄膜也记 录在光透射基片1的所述主表面上。
作为所使用的紫外线激光器,还可以使用由Sony Precision Technology公 司制造的商品名为UW-1020远紫外线固态激光器。
所产生紫外线的波长是266.0nm,该光束点的直径是0.8±0.2mm。紫外线激 光的照射是在大气中实现的。在这种情况下,紫外线激光被直接照射到光透射基 片1,信息的记录在由安装在激光发射端口的机械光闸所执行的照射的开和关以 及照射时间的控制下实现的。
下面,为了利用依据本发明的再现装置来再现光透射基片1,其中,通过紫 外线的照射将信息记录在所述基片中,由铝制成的厚度为100nm的反射膜沉积 在光透射基片的一个主表面上,在该光透射基片中,由溅射装置记录了一些信息。
因此,将经紫外线固化的树脂涂在上述铝反射膜上,并用紫外线照射进行固 化,这样,得到一个所形成的保护膜。
在这种情况下,反射膜的材料并不只局限于铝,反射膜可以由在一个再现波 长处具有合适的反射系数的其它材料制成,这种材料例如可以是铝合金、铜、铂、 银、金和它们的合金。
使用光拾取器的有创造性的再现装置,即依据本发明的再现装置,再现了以 所述方式将信息记录在其中的记录媒体M。再现激光器是一个波长为405nm的镓 氮化物半导体激光器。这里使用的物镜的数值孔径(NA)为0.6。而记录媒体的 线速度选择为3.46m/s。
当从记录媒体中检测到信息时,检测到的信息是经检测的来自记录媒体M的 被输入到检测器RF1和RF2的反射光量的输出量的总和,而且,将经检测信息 用作信息的一个再现信号。选择用于再现的再现激光的功率是2mW。
图32A到32C显示了通过检测来自记录媒体的反射光量的变化而得到的再现 信号的测量结果。如图32A中的箭头和图32B、32C的放大比例图所示,所述反 射光量是随紫外线的照射时间而变化的,记录信号可以通过紫外线的照射时间或 强度进行调制。可以确定,这样得到的信号可以提供稳定、合适的信号。
对于100000次的再现,反射光量的幅度根本没有发生变化。因此,要理解 的是,记录媒体的信息被记录为非常稳定的不可消除的信息。
在类似的方式下,例如象基于酞菁染料的色素薄膜这样的色素记录薄膜、例 如象基于钴铂铬的磁性薄膜这样的磁性记录薄膜、例如象基于铽铁钴的磁性薄膜 这样的磁光记录薄膜、和例如象基于锗锑碲的薄膜这样的相变记录薄膜代替了由 铝制成的反射膜,并且,该反射膜位于光透射基片1的一个主平面上,各个沉积 装置将信息B记录在所述光透射基片1上。然后,类似地,利用再现装置,通 过检测反射光量的变化,可以再现信息B。
在这种情况下,直到再现记录媒体100000次,都不会在再现信息的过程中 在再现稳定性上出现任何问题。
在上述记录薄膜的情况下,除所述记录薄膜之外,可以适当地添加并沉积光 干涉薄膜、热控制薄膜和反射膜。
磁光记录薄膜的上述设计变为一个例如象中央检测型磁性超清晰度记录媒体 这样的磁性超清晰度记录媒体,这种媒体例如可以是MAMMOS,并且,一个例如 象DWDD这样的扩大磁畴的再现媒体被沉积到其中利用各个沉积装置记录了信息 B的光透射基片1上。然后,类似地,利用再现装置,通过检测反射光量的变化, 可以再现信息B。
在这种情况下,直到再现记录媒体100000次,都不会在再现信息的过程中 在再现稳定性上出现任何问题。
还是在这种情况下,除所述记录薄膜之外,可以适当地添加并沉积光干涉薄 膜、热控制薄膜和反射膜。
因此,依据紫外线激光的照射,可以从光透射基片1中非常满意、稳定地再 现出信息,并且,所记录信息是不可消除的、稳定的。
因此,所述记录媒体以及记录和再现方法,非常适合记录例如象记录媒体的 固有标识信息这样的最好应该避免很容易被重写的信息。
从上述检验,可以证明,利用随依据本发明的记录媒体、记录和再现方法、 以及记录和再现装置的紫外线照射而变化的透射系数或反射系数,可以在光透射 基片上记录信息,或从光透射基片中再现出信息。特别是,已经证实,利用由紫 外线照射而引起的记录媒体的光透射基片的透射系数或反射系数的变化,可以记 录信息,而且,通过检测所述光透射基片的透射系数或反射系数的变化,可以再 现信息。
发明实例5:
紫外线的照射记录了信息,其中,任意透射系数的改变量以多值记录方式记 录了信息。
还是在这种情况中,类似于上述发明实例,也使用了光透射基片1。图33显 示了波长与未经紫外线照射的光透射基片的透射系数之间的相关关系,以及波长 和分别经紫外线照射5分钟、10分钟和20分钟的各个光透射基片的透射系数之 间的相关关系。
图34显示了光透射基片1的透射系数和依据上述测量值的紫外线照射时间 之间的关系。对图34的研究表明,光透射基片1的透射系数是随紫外线的照射 时间变化的。例如,测量结果是,当波长为350nm时,没有紫外线的照射,透 射系数下降为84%;经紫外线照射5分钟后,透射系数下降为60%;紫外线照射 10分钟后,透射系数下降为50%;紫外线照射20分钟后,透射系数下降为44%。
因此,要理解的是,光透射基片1的透射系数的改变量可以通过照射时间来 任意调节,而且,是以多值记录方式记录信息的。
图35显示的情况是,依据信息B的记录部件20a、20b、20c的光透射基片 1上形成了多值记录链,所述光透射基片1的透射系数是随所辐射紫外线的光量 或/和紫外线的照射时间而变化的。在这种情况下,不仅记录部件的标志长度可 以提供信息,而且,还可以将信息提供给记录部件的透射系数的改变量。因此, 信息的记录密度提高了。
在这种情况下,虽然紫外线的照射时间调整了任意透射系数的改变量,但是, 类似地,紫外线的照射强度也可以控制透射系数的改变量。
图36显示了从记录部件20a、20b、20c得到的由上述透射系数的变化引起 的检测信号。如图36所示,相应的多值信号90a、90b、90c可以分别从上述记 录部件20a、20b、20c获得。
发明实例6:
对于通过紫外线的辐射在光透射基片上记录信息,可以确定透射系数改变的 不可改变性和持久性。而且,在这种情况下,类似于上述发明实例1,也使用了 相似的光透射基片1。
图37分别显示了两个光透射基片1的透射系数的测量结果,其中一个光透 射基片1经紫外线照射10分钟后,又在大气中的室温环境下放置了一个小时, 而另一个光透射基片1在室温下放置了一个月。
依据上述测量结果,可以确定,即使当光透射基片1经紫外线照射后立即在 室温下放置很长时间,光透射基片1的透射系数的变化也是稳定且不可改变的。
因此,要理解的是,用于在光透射基片1上记录信息的依据本发明的记录媒 体和记录方法的实现是不可改变的,稳定的,而且,依据本发明的记录媒体和记 录方法非常适合记录例如象记录媒体的固有标识信息这样的最好应该避免很容易 被重写的信息B。
发明实例7:
下面,对于通过紫外线的辐射在光透射基片1上记录信息,可以确定,在任 何一个波长,利用波长和透射系数的变化之间的依赖关系,可以再现信息。
而且,在这种情况下,使用的光透射基片1和上述发明实例1是一样的。
图38显示的测量结果表明了,波长与未经紫外线辐射的光透射基片1的透 射系数之间的依赖关系,以及波长和经紫外线辐射10分钟的光透射基片1的透 射系数之间的依赖关系。如图38所示,紫外线辐射前后,当波长为400nm时, 透射系数从88%变为74%;而当波长为660nm时,透射系数没有变化,始终保持 在90%。
因此,如图39所示意,依据波长和透射系数之间的依赖关系,当波长大约 为400nm的蓝色激光可以检测到透射系数的变化,从而再现信息时,波长为660nm 的红色激光却不能检测出上述透射系数的变化,当一个记录和再现装置是用普通 的红色激光再现信息A时,可以知道,所述记录和再现装置不能从光透射基片1 中再现信息B。
然后,带有两个不同波长λ1和λ2的再现装置可以再现上述发明实施例3所 使用的记录媒体。
在这种情况下,每个再现光学系统的设计分别为,光源波长λ1=660nm,物 镜的数值孔径为0.6(称为“再现装置1”),以及,光源波长λ2=405nm,物 镜的数值孔径为0.6(称为“再现装置2”)。
图40A和40B分别显示了当再现装置1和2分别再现发明实施例3中的记录 媒体M时,所得到的再现信号。如图40A所示,当激光波长为660nm的再现装 置1不能从信息B的记录部件20中再现信号时,波长为405nm的再现装置2可 以满意地再现出记录部件20。特别地,这里使用了波长与依据本发明的记录媒 体的记录信息的透射系数的变化之间的依赖关系。
特别地,依据本发明的记录媒体M,可以从依据再现激光波长的记录媒体M 的光透射基片1中有选择地再现信息B。具体地说,如图41A所示,当把蓝色激 光用于信息A的记录部件20时,可以得到一个再现波形信号,该信号的透射光 量或反射光量从T0变到了T3。但是,如图41B所示,依据用于通过红蓝激光再 现信息A的记录区域的再现装置1,得不到用于信息B的记录部件20的再现波 形。也就是说,可能所记录的信息B根本就不能用蓝色激光之外的激光再现。
因此,在下述条件下,可以将例如象记录媒体M中的固有标识信息这样的信 息B存储在记录媒体M中,该条件是,通常,不可能很容易地记录并再现信息B。
虽然如上所述,波长λ1为660nm,波长λ2为405nm,但本发明并不仅局限 于此,也可使用其它一些设计。即,依据本发明的记录媒体以及记录和再现方法, 除经常记录在记录媒体上的信息,即信息A之外,当透射系数或反射系数变化时, 记录在光透射基片1上的信息B可以由各种波长的再现装置有选择地再现。
与带有各种波长的再现装置一样,还可以使用如下设计,例如,如示意图42 所示,再现光学系统R1和R2分别用于波长λ1和λ2。如图42所示,两个再现光 学系统R1和R2包括用于产生波长为λ1和λ2的激光束的光源711和712,以及 附带的典型光学元件,即,准直透镜721、722,分束器751、752,物镜51、52, 聚光镜透镜841、842和光电检测器861、862。
在如图42所示的例子中,虽然带有各种波长的再现装置包括两个独立的再 现光学系统R1和R2,但本发明并不仅限于此,如下的变体也是可能的。即,如 图43所示,它只是上述所举例子的光路的一部分,即光学系统的一部分,这里 提供了一个公共分束器75和一个公共物镜5,这样,光电检测器86只能检测信 息A的再现光,即波长λ1。
图44显示了利用光源71的一种再现方法,用于产生包括两个波长λ1和λ2 的光。在图44中,那些与图43的元件和部件相同的元件和部件是用相同的参 考号标记的,因此就不必说明了。
记录和再现装置不仅可以改变再现光学系统,还可以改变光学系统,例如, 对应于信息A和信息B的检测方法和检测器。
发明实例8:
光透射基片1由聚烯烃树脂造成。而且,在这种情况中,虽然光透射基片1 的直径为120nm,厚度为0.6mm,但是,所述光透射基片1的厚度可以任意改变, 只要能检测出所述光透射基片1的透射系数和反射系数的变化就可以了。
图45显示的测量结果表明了,波长和经紫外线照射10分钟的光透射基片1 的透射系数之间的相关关系,以及波长与未经紫外线照射的光透射基片1的透射 系数之间的相关关系。
还是在这种情况中,对图45的研究表明,类似于聚碳酸酯材料,透射系数 随紫外线的辐射而减小,特别是,当波长小于500nm时,所述透射系数会明显 减小。当波长为400nm时,虽然在紫外线照射前,透射系数减小为91%,但是在 紫外线照射后,该系数减小为84%。当波长为350nm时,虽然在紫外线照射前, 透射系数减小为90%,但是在紫外线照射后,该系数减小为67%。
下面,为了理解透射系数随紫外线的照射而变化的现象,先用一个椭圆分光 计测量所述光透射基片1的光学常量。图46显示了用紫外线照射光透射基片1 前后测量得到的折射率的比较结果。图47显示了用紫外线照射光透射基片1前 后测量得到的消光系数的比较结果。
如图46和47所示,可以确定,类似于聚碳酸酯材料,作为聚烯烃材料的光 学常量的折射率和消光系数本身是随紫外线的照射而变化的。
因此,可以将所述透射系数的变化看作是在树脂材料内由紫外线引起的化学 变化和改变,但是,该变化不是由例如象紫外线激光束的照射引起的树脂材料的 蒸发和变形这样的所谓激光磨损引起的形状的物理变化,这一点应该引起特别注 意。
如上所述,还是在由聚烯烃材料造成的光透射基片1中,利用光学特性的变 化(透射系数的变化或反射系数的变化)以及折射率和消光系数的变化,可以将 信息B记录在基片1上,或从基片1中再现出来。因此,和上述由聚碳酸酯树 脂造成的光透射基片1的方式一样,可以将信息B记录在所述基片1上,并检 测出反射系数或透射系数的变化。而且,在这种情况中,也可以记录并再现信息。
当光透射基片1由聚碳酸酯树脂和聚烯烃树脂之外的例如象聚甲基丙烯酸甲 酯(PMMA)树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂和玻璃这样的用在光盘中的其它材料 造成时,就可以利用紫外线的辐射记录信息B。
虽然,如上所述,信息B是在光透射基片1中记录并再现的,但是,类似地, 信息B也可以在光透射防护膜2中记录并再现,在所述薄膜2中,除了可以在 上述光透射基片1中实现的材料外,所述基片1中还包括了一种经过例如象紫 外线处理这样的处理的材料,从而,形成了光透射防护膜2。
特别地,光透射防护膜2由例如象聚碳酸酯树脂、聚烯烃树脂、PMMA树脂、 环氧树脂、丙烯酸树脂、玻璃、经紫外固化的树脂、热硬化性树脂和感光性树脂 这样的材料造成,并且,可以在光透射防护膜2中记录并再现信息B。
如上所述,依据本发明,这里提供了其中可以记录并再现信息A的包括信息 A的记录区域的记录媒体。可以将记录媒体M的固有标识信息或记录信息作为信 息B,利用记录媒体M的光透射基片1的透射系数或反射系数的变化,记录/再 现。其结果是,实现了很难被复制和伪造的记录媒体,它的记录和再现方法,以 及记录和再现装置。
类似地,依据本发明的记录媒体是其中可以记录并再现信息A的包括信息A 的记录区域的记录媒体。可以将记录媒体M的固有标识信息或记录信息作为信息 B,利用记录媒体的光透射防护膜2的透射系数或反射系数的变化信息,记录/ 再现。其结果是,实现了很难被复制并伪造的记录媒体,它的记录和再现方法, 以及记录和再现装置。
虽然在上述发明例子和实施例中,主要举例并说明了盘媒体,但本发明并不 仅限于所述盘媒体,本发明的记录媒体可以采用各种形状,各种设计,例如,插 件状的记录媒体。
正如在上述例子中已经说明的光记录,利用由电子束辐射装置产生的电子束 辐射,可以将信息记录在光透射记录材料,光透射基片和光透射防护膜上。
如上所述,依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置, 利用随紫外线辐射而变化的透射系数或反射系数,可以在光透射基片1中记录并 再现信息B。特别是,记录媒体M的光透射基片1的透射系数或反射系数是随紫 外线的辐射而变化(记录)的,而且,信息通过检测(再现)光透射基片1的透 射系数或反射系数的变化,被记录/再现。
依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置,基片的透 射系数或反射系数的变化可以将信息有选择地记录到用紫外线辐射过的光透射基 片1上。
依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置,除检测透 射系数的变化的设计外,还应当有适当反射系数的反射膜,例如,铝、银、金等 被沉积到经紫外线照射过的基片上时,透射系数或反射系数的变化可以随来自基 片的反射光的反射光量的变化被检测出采。
依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置,光透射基 片的透射系数或反射系数的改变量可以依据照射时间或/和照射强度任意调节。 因此,当把信息记录到光透射基片时,透射系数或反射系数的改变量可以将信息 以多值记录方式记录。特别地,不仅可以把信息提供给普通光盘中使用的记录标 志的长度,而且,还可以把信息提供给记录标志的透射系数或反射系数的改变量。 同时,该设计可以显著提高记录在记录媒体上的信息的记录密度。
依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置,因为可以 将信息不可改变地、稳定地记录在光透射基片上,所以,可以实现的记录媒体, 记录和再现方法,以及记录和再现装置,非常适合记录例如象记录媒体的固有标 识信息这样的最好应该避免很容易被重写的信息B。
依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置,记录在记 录媒体的光透射基片上的信息,依据用于再现信息的光的波长,可以被有选择地 再现。具体地说,例如,在其中利用红色激光记录并再现信息的记录媒体中,当 利用透射系数的变化,在依据本发明的记录媒体的光透射基片中记录信息B时, 可以将不用蓝色激光就无法再现的信息B提前记录到记录媒体中。例如,如果为 了避免普通用户很容易地记录并再现记录媒体的固有标识信息,用依据本发明的 记录方法将所述信息B记录到记录媒体中,那么,可以以下述方式在记录媒体中 存储信息B:不用蓝色激光就无法再现信息。
依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置,可以将例 如象记录媒体或记录信息的管理信息、记录/再现禁止信息、记录媒体真和假的 验证信息、记录/再现次数信息、用户验证信息这样的固有标识信息作为信息B, 任意加到各自的记录媒体中。其结果是,实现了很难被复制并伪造的记录媒体, 它的记录和再现方法,以及记录和再现装置。
此外,依据本发明的记录媒体,记录和再现方法,以及记录和再现装置,因 为信息A和B的记录和再现分别使用了不同波长的激光,所以,只有记录媒体 的管理人员或制造商可以检测到信息B。其结果是,实现了很难被普通用户复制 并伪造的记录媒体。
而且,依据本发明,因为可以记录并再现信息B的光透射基片或光透射防护 膜,可以由例如象被用作普通记录媒体基片或保护膜的聚碳酸酯树脂、PMMA树 脂、环氧树脂这样的合适的树脂材料造成。所以,不需要选择任何特殊的材料。 因此,因此,依据本发明的记录媒体,以及记录和再现装置的制造成本很便宜。
参照附图说明了本发明的最佳实施例后,要理解的是,本发明并不仅限于那 些精确的实施例,而且,本领域人员可以不脱离如所附加权利要求定义的本发明 的主旨或范围,对本发明进行各种变化和修改。
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