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一种鞋材表面 等离子体放电处理设备

阅读：250发布：2020-05-13

专利汇可以提供一种鞋材表面等离子体放电处理设备专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了一种鞋材表面等离子体放电处理设备，包括一机架，所述机架包括依次设置的进料段、处理段和出料段，所述进料段设置有一对可拉伸的进料推杆、第一托盘上下推杆、第一托盘架、第一托盘滚轮，所述处理段内设置有一真空箱，所述出料段设置有一对可拉伸的第二托盘上下推杆、第二托盘架、第二托盘滚轮，所述机架下方的两侧还设置有传输导轨，所述传输导轨上设置有若干放料托盘。本发明采用节能和环保的等离子体处理技术处理鞋材表面，不仅可以解决目前使用处理水存在的污染、耗能等缺点，还可以为用户节约成本，减少成鞋的有害残留物含量，提高成鞋品质，改善了制鞋生产线的生产环境，减少了对职工身体的危害。，下面是一种鞋材表面等离子体放电处理设备专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种鞋材表面等离子体放电处理设备，包括一机架，其特征在于：所述机架包括依次设置的进料段（101）、处理段（102）和出料段（103），所述进料段（101）的上端水平设置有一对可拉伸的进料推杆（2），下端垂直设置有一对可拉伸的第一托盘上下推杆（3），所述第一托盘上下推杆（3）上固定有第一托盘架（401），所述第一托盘架（401）的两侧设置有第一托盘滚轮（501），所述处理段（102）内设置有一真空箱，所述真空箱包括可分离的真空箱罩体（601）和真空箱门板（602），所述出料段（103）下端垂直设置有一对可拉伸的第二托盘上下推杆（7），所述第二托盘上下推杆（7）固定在所述机架上，所述第二托盘上下推杆（7）上固定有第二托盘架（402），所述第二托盘架的两侧设置有第二托盘滚轮（502），所述机架下方的两侧还设置有传输导轨（8），所述传输导轨（8）上设置有若干放料托盘（9），所述机架还包括风冷系统，所述风冷系统包括风机（1001）、排风管（1002）、排风口（1003）。
2.根据权利要求1所述的鞋材表面等离子体放电处理设备，其特征在于：所述放料托盘（9）结构为两层，下层为整体结构，上层为两段组合结构，为活动式，中间设置有铰链，在下层放料不方便时可以将其翻开。
3.根据权利要求1所述的鞋材表面等离子体放电处理设备，其特征在于：所述排风口（1003）固定于所述机架上，位于所述真空箱的两侧，排风方向对准真空腔内。
4.根据权利要求１所述的鞋材表面等离子体放电处理设备，其特征在于：在所述出料段（102）上设置有挡料机构，在所述放料托盘（9）移动时将处理后的鞋材挡入到产品箱中。
5.根据权利要求１所述的鞋材表面等离子体放电处理设备，其特征在于：所述放料托盘（9）在所述出料段（102）的下端设置有出料推杆，所述放料托盘（9）在所述出料推杆的推动下向下倾斜，处理后的鞋材在重力的作用下滑入到产品箱中。
6.根据权利要求１所述的鞋材表面等离子体放电处理设备，其特征在于：所述真空箱的真空腔内设置有放电电极（603）和加热器（604）。
7.根据权利要求１所述的鞋材表面等离子体放电处理设备，其特征在于：所述放料托盘（9）可在所述进料推杆（2）的推动下在所述进料段（101）、所述处理段（102）和所述出料段（103）之间水平移动，所述放料托盘（9）依靠所述第一托盘上下推杆（3）完成上下垂直移动。

说明书全文

一种鞋材表面 等离子体放电处理设备

[0001]

技术领域

[0002] 本发明涉及鞋材表面处理领域，具体的涉及一种鞋材处理设备，更具体的说，涉及一种鞋材表面等离子体放电处理设备。

背景技术

[0003] 我国是各种类型的鞋的生产和消费大国，据不完全统计鞋产量约110亿双，占世界产量的60%以上。目前，制鞋过程中为了保证胶粘的强度，普遍使用各种处理水对鞋材包括鞋帮和鞋底做粘接前预处理。处理水中含有大量的甲苯、二甲苯、酮类等有机挥发溶剂和其他化学物质，具有非常大的有害性，如：污染空气、大量消耗石油能源、降低成鞋的品质、容易出现废品等。

发明内容

[0004] 为克服现有技术中存在的不足，本发明的目的在于提供一种鞋材表面等离子体放电处理设备，该设备保证了鞋材表面粘接性强的同时，减少了污染，降低了对工作人员的伤害，同时能大幅降低生产成本。

[0005] 为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：一种鞋材表面等离子体放电处理设备，包括一机架，所述机架包括依次设置的进料段、处理段和出料段，所述进料段的上端水平设置有一对可拉伸的进料推杆，下端垂直设置有一对可拉伸的第一托盘上下推杆，所述第一托盘上下推杆上固定有第一托盘架，所述第一托盘架的两侧设置有第一托盘滚轮，所述处理段内设置有一真空箱，所述真空箱包括可分离的真空箱罩体和真空箱门板，所述出料段下端垂直设置有一对可拉伸的第二托盘上下推杆，所述第二托盘上下推杆固定在所述机架上，所述第二托盘上下推杆上固定有第二托盘架，所述第二托盘架的两侧设置有第二托盘滚轮，所述机架下方的两侧还设置有传输导轨，所述传输导轨上设置有若干放料托盘，所述机架还包括风冷系统，所述风冷系统包括风机、排风管、排风口。

[0006] 进一步的，所述放料托盘结构为两层，下层为整体结构，上层为两段组合结构，为活动式，中间设置有铰链，在下层放料不方便时可以将其翻开。

[0007] 进一步的，所述排风口固定于所述机架上，位于所述真空箱的两侧，排风方向对准真空腔内。

[0008] 进一步的，在所述出料段上设置有挡料机构，在所述放料托盘9移动时将处理后的鞋材挡入到产品箱中。

[0009] 进一步的，所述放料托盘在所述出料段的下端设置有出料推杆，所述放料托盘在所述出料推杆的推动下向下倾斜，处理后的鞋材在重力的作用下滑入到产品箱中。

[0010] 进一步的，所述真空箱的真空腔内设置有放电电极和加热器。

[0011] 进一步的，所述放料托盘可在所述进料推杆的推动下在所述进料段、所述处理段和所述出料段之间水平移动，所述放料托盘依靠所述第一托盘上下推杆完成上下垂直移动。

[0012] 本发明的有益效果是：1、本发明采用节能和环保的等离子体处理技术处理鞋材表面，不仅可以解决目前使用处理水存在的污染、耗能等缺点，而且由于等离子体表面处理技术运行成本低，还可以为用户节约成本，同时还可以减少成鞋的有害残留物含量，提高成鞋品质；
2、本发明改善了制鞋生产线的生产环境，减少了对职工身体的危害。

[0013] 上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本发明的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。

附图说明

[0014] 图1为本发明结构示意图；图2为本发明托盘结构示意图；
图3为本发明真空箱的正视图；
图4为本发明真空箱的侧视图。

[0015] 图中标号说明：101、进料段，102、处理段，103、出料段，2、进料推杆，3、第一托盘上下推杆，401、第一托盘架，402、第二托盘架，501、第一托盘滚轮，502、第二托盘滚轮，601、真空箱罩体，602、真空箱门板，603、放电电极，604、加热器，7、第二托盘上下推杆，8、传输导轨，9、放料托盘，1001、风机，1002、排风管，1003、排风口。

具体实施方式

[0016] 下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本发明。

[0017] 参见图1、图2所示，一种鞋材表面等离子体放电处理设备，包括一机架，所述机架包括依次设置的进料段101、处理段102和出料段103，所述进料段101的上端水平设置有一对可拉伸的进料推杆2，下端垂直设置有一对可拉伸的第一托盘上下推杆3，所述第一托盘上下推杆3上固定有第一托盘架401，所述第一托盘架401的两侧设置有第一托盘滚轮501，所述处理段102内设置有一真空箱，所述出料段103下端垂直设置有一对可拉伸的第二托盘上下推杆7，所述第二托盘上下推杆7固定在所述机架上，所述第二托盘上下推杆7上固定有第二托盘架402，所述第二托盘架的两侧设置有第二托盘滚轮502，所述机架下方的两侧还设置有传输导轨8，所述传输导轨8上设置有若干放料托盘9，所述机架还包括风冷系统，所述风冷系统包括风机1001、排风管1002、排风口1003。

[0018] 进一步的，所述放料托盘9结构为两层，下层为整体结构，上层为两段组合结构，为活动式，中间设置有铰链，在下层放料不方便时可以将其翻开。

[0019] 进一步的，所述排风口1003固定于所述机架上，位于所述真空箱的两侧，排风方向对准真空腔内。

[0020] 进一步的，在所述出料段102上设置有挡料机构，在所述放料托盘9移动时将处理后的鞋材挡入到产品箱中。

[0021] 进一步的，所述放料托盘9在所述出料段102的下端设置有出料推杆，所述放料托盘9在所述出料推杆的推动下向下倾斜，处理后的鞋材在重力的作用下滑入到产品箱中。

[0022] 参见图3、图4所示，所述真空箱包括可分离的真空箱罩体601和真空箱门板602，所述真空箱的真空腔内设置有放电电极603和加热器604。

[0023] 进一步的，所述放料托盘9可在所述进料推杆2的推动下在所述进料段101、所述处理段102和所述出料段103之间水平移动，所述放料托盘9依靠所述第一托盘上下推杆3完成上下垂直移动。

[0024] 工作过程为：初始状态时所述第一托盘架401、所述第二托盘架402和所述真空箱罩体601处于最低位。当启动开始，所述第一托盘架401、所述第二托盘架402和所述真空箱罩体601同时上升至最高点，所述进料推杆2将所述第一托盘架401上的所述放料托盘9推入所述真空箱，当所述放料托盘9在所述真空箱内到位后，所述第一托盘架401、所述第二托盘架402和所述真空箱罩体601下降，真空箱罩体601和所述第一托盘架401下降到最低点，所述第二托盘架402下降到中间高度，待所述第二托盘架402上的所述放料托盘9中的鞋材取完后，所述第二托盘架402再下降到最低位置，同时所述第一托盘架401接到所述放料托盘9后上升至中间位置，开始放置鞋材，此后所述第一托盘架401上的所述放料托盘9沿着所述传输导轨8滑行到下滑定位档杆位时停止，等待所述真空箱内的处理过程结束。处理结束后进行下一个循环。

[0025] 以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

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