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一种二化镁超导材料及其制备方法

阅读:1029发布:2020-06-03

专利汇可以提供一种二化镁超导材料及其制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种二 硼 化镁(MgB2)超导材料及其制备方法,涉及一种具有高临界 电流 密度 的新型二硼化镁超导材料及其制备方法。其特征在于:在二硼化镁超导材料中掺杂有选自WSi2、ZrB2、或ZrSi2中的一种 金属化 合物X,其组成的摩尔比Mg∶X∶B=(0.8-0.95)∶(0.05-0.2)∶2。本 发明 的制备方法是将Mg粉、X粉和B材料按摩尔比混合均匀,在常压氩气气氛中进行 烧结 。本发明的二硼化镁超导材料在4.2K以上的 温度 ,具有高临界电流密度,而且 磁场 下的性能也非常优良。,下面是一种二化镁超导材料及其制备方法专利的具体信息内容。

1.一种二化镁超导材料,其特征在于:在二硼化镁超导材料中掺杂 有选自WSi2、ZrB2、或ZrSi2中的一种金属化合物X,其组成的摩尔比Mg∶X∶ B=(0.8-0.95)∶(0.05-0.2)∶2。
2.一种制备二硼化镁超导材料的方法,其特征在于,将Mg粉、选自 WSi2、ZrB2、或ZrSi2中的一种金属化合物X粉和B粉按照摩尔比(0.8-0.95)∶ (0.05-0.2)∶2配制并混合均匀,在常压氩气气氛中进行烧结,在600℃-950° C,保温1-4小时。

说明书全文

技术领域

一种二化镁超导材料及其制备方法,特别涉及具有高临界电流密度的 二硼化镁超导材料及其制备方法。

背景技术

2001年1月,日本Akimitsu等人发现的临界转变温度为39K的二硼化 镁超导体(Nature 410(2001)63),引起了全世界的广泛关注,掀起了研究 简单化合物超导电性的热潮。二硼化镁的结构十分简单,是由Mg和B层交 替堆叠而成,在B层内,B-B以强共价键结合;在c轴方向,Mg-B以离 子键结合,是典型的A1B2六方对称结构,有系数约为2的各向异性。二硼 化镁的最大优势在于可以在更高的温度(20-30K)下应用,而低温超导体 如Nb3Sn、NbTi等在这一温区无法工作。与高温化物超导体相比,二硼 化镁在制备和成材方面具有不可比拟的优势,即二硼化镁超导线的性能价格 比将高于氧化物高温超导体。总之,由于二硼化镁成材容易,成本低廉,因 此它很有可能成为最具潜的新型超导材料,使得制冷机的广泛应用成为可 能。然而,目前与低温超导体相比,二硼化镁的临界电流密度还很低。通常 制备二硼化镁的方法是通过氩气氛下固态烧结B和Mg的混合物,经过扩散 反应形成二硼化镁,这种方法制备的二硼化镁的材和带材通常比较疏松, 造成晶粒间的连接性能比较差,从而导致其临界电流密度较差。在固态烧结 法制备二硼化镁的过程中,通过施加压力可以提高二硼化镁的致密度,但是, 这种方法易降低二硼化镁的转变温度,难以制备实用化的块材和带材,大大 影响了二硼化镁超导体的实用化进程
发明内容
为克服现有技术的缺点,本发明的目的是提供一种二硼化镁超导材料及 其制备方法,以提高二硼化镁超导体的临界电流密度。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
本发明的二硼化镁超导材料,其特征在于在二硼化镁超导材料中掺杂有 选自WSi2、ZrB2、或ZrSi2中的一种金属化合物X,其组成的摩尔比Mg∶X∶ B=(0.8-0.95)∶(0.05-0.2)∶2。
本发明的二硼化镁超导材料的制备方法,其特征在于将Mg粉、选自 WSi2、ZrB2、或ZrSi2中的一种金属化合物X粉和B粉按照摩尔比(0.8-0.95)∶ (0.05-0.2)∶2配制并混合均匀,在常压氩气气氛中进行烧结,在600℃-950 ℃,保温1-4小时,制备含金属化合物X的二硼化镁超导材料。
本发明的二硼化镁与已有的二硼化镁相比较,通过金属化合物X的掺杂, 提高了二硼化镁材料的致密度,改善了晶粒的连接性。另一方面,掺杂可以 进入到晶体的晶格,造成晶格畸变,形成晶体缺陷;而且,可以以细小的第 二相弥散在整个超导体当中或者可以起到细化晶粒的效果,增加晶界的有 效面积,加强了晶界钉扎的作用,最终使得总的磁通钉扎力得以提高,从而 提高临界电流密度。本发明的二硼化镁制备方法实用简单,制备的二硼化镁 超导体既可以作为块材直接应用,也可以作为线材、带材的前驱粉或是作为 商业的二硼化镁粉末的原材料。用一般的四引线法测试表明,用本发明 的方法所制备的含这种金属化合物的二硼化镁带材在4.2K,8T下其临界电 流密度可以达到104A/cm2;4.2K,10T下其临界电流密度可以达到 3000A/cm2。

具体实施方式

下面结合实例对本发明作进一步说明。
本发明的二硼化镁超导材料,其特征在于在二硼化镁超导材料中掺杂有 选自WSi2、ZrB2、或ZrSi2中的一种金属化合物X,其组成的摩尔比Mg∶ X∶B=(0.8-0.95)∶(0.05-0.2)∶2。
本发明的二硼化镁超导材料的制备方法,其特征在于将Mg粉、X粉和 B粉按照摩尔比(0.8-0.95)∶(0.05-0.2)∶2配制并混合均匀,在常压氩气气 氛中进行烧结,在600℃-950℃,保温1-4小时,制备含金属化合物X的 二硼化镁超导材料。
本发明的二硼化镁超导材料的制备方法,其特征在于将市售化学纯Mg 粉、X(选自WSi2、ZrB2、或ZrSi2中的一种)粉和B粉按照摩尔比(0.8-0.9)∶ (0.05-0.2)∶2配制并混合均匀,经压片后在常压氩气气氛中进行烧结,在 600℃-950℃,保温1-4小时,直接得到具有高临界电流密度二硼化镁超导 块材;或者将Mg粉、X粉和B粉混合料装入管中,经旋锻、拉拔轧制至 0.5mm×4.0mm的带材,然后在常压氩气气氛中进行烧结,在600℃-950℃, 保温1-4小时,得到具有高临界电流密度二硼化镁超导带材。
实施例1
制备掺杂金属化合物ZrSi2的二硼化镁带材。将Mg粉、ZrSi2粉和B粉按 照摩尔比:0.95∶0.05∶2配制并混合均匀,装入铁管中,经旋锻、拉拔、 轧制至0.5mm×4.0mm的带材,在常压氩气气氛中进行烧结热处理,600℃ 保温1小时,随热处理炉冷却至室温,取出样品,从而得到掺杂金属化合物 ZrSi2的二硼化镁超导带材。
这种二硼化镁带材在4.2K,8T下其临界电流密度可以达到104A/cm2; 10T下,临界电流密度可以达到3000A/cm2。
实施例2
制备掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁带材。将Mg粉、ZrB2粉和B粉按照 摩尔比:0.95∶0.05∶2配制并混合均匀,装入铁管中,经旋锻、拉拔、轧 制至0.5mm×4.0mm的带材,在常压氩气气氛中进行烧结热处理,600℃保 温1小时,随热处理炉冷却至室温,取出样品,从而得到掺杂金属化合物ZrB2 的二硼化镁超导带材。
这种二硼化镁带材在4.2K,8T下其临界电流密度可以达到5200A/cm2; 10T下,临界电流密度可以达到1700A/cm2。
实施例3
制备掺杂金属化合物WSi2的二硼化镁带材。将Mg粉、WSi2粉和B粉按 照摩尔比:0.95∶0.05∶2配制并混合均匀,装入铁管中,经旋锻、拉拔、 轧制至0.5mm×4.0mm的带材,在常压氩气气氛中进行烧结热处理,600℃ 保温1小时,制备含掺杂金属化合物WSi2硼化物的二硼化镁带材。随热处理 炉冷却至室温,取出样品,从而得到掺杂金属化合物WSi2的二硼化镁超导带 材。
这种二硼化镁带材在4.2K,8T下其临界电流密度可以达到5000A/cm2; 10T下,临界电流密度可以达到1900A/cm2。
实施例4
制备掺杂金属化合物ZrSi2的二硼化镁块材。将Mg粉、ZrSi2粉和B粉按 照摩尔比:0.9∶0.1∶2配制并混合均匀,经压片后,在常压氩气气氛中进 行烧结热处理,950℃保温4小时,随热处理炉冷却至室温,取出样品,从 而得到掺杂金属化合物ZrSi2的二硼化镁超导块材。
实施例5
制备掺杂金属化合物WSi2的二硼化镁块材。将Mg粉、WSi2粉和B粉按 照摩尔比:0.8∶0.2∶2配制并混合均匀,经压片后,在常压氩气气氛中进 行烧结热处理,850℃保温2小时,随热处理炉冷却至室温,取出样品,从 而得到掺杂金属化合物WSi2的二硼化镁超导块材。
实施例6
制备掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁块材。将Mg粉、ZrB2粉和B粉按照 摩尔比:0.8∶0.2∶2配制并混合均匀,经压片后,在常压氩气气氛中进行 烧结热处理,950℃保温4小时,随热处理炉冷却至室温,取出样品,从而 得到掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁超导块材。
实施例7
制备掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁块材。将Mg粉、ZrB2粉和B粉 按照摩尔比:0.8∶0.2∶2配制并混合均匀,经压片后,在常压氩气气氛中 进行烧结热处理,780℃保温4小时,随热处理炉冷却至室温,取出样品, 从而得到掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁超导块材。
实施例8
制备掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁块材。将Mg粉、ZrB2粉和B粉 按照摩尔比:0.85∶0.15∶2配制并混合均匀,经压片后,在常压氩气气氛 中进行烧结热处理,950℃保温2小时,随热处理炉冷却至室温,取出样 品,从而得到掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁超导块材。
实施例9
制备掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁块材。将Mg粉、ZrB2粉和B粉 按照摩尔比:0.9∶0.1∶2配制并混合均匀,经压片后,在常压氩气气氛中 进行烧结热处理,600℃保温2.5小时,随热处理炉冷却至室温,取出样 品,从而得到掺杂金属化合物ZrB2的二硼化镁超导块材。
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