防滑片污染装置
专利汇可以提供防滑片污染装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 提供一种应用于工艺腔体的防滑片污染装置，其包含有一缓冲承接组件；以及数个用以将该缓冲承接组件 定位 于一欲装设该防滑片污染装置的机台内的定位件。其利用一种不会造成腔体污染、安装容易、便于维修、成本低的防滑片污染装置，来装设于机械手臂取芯片至工艺平台的路径上，以承接由机械手臂夹持滑落或自芯片轮流碟上滑落的芯片。，下面是防滑片污染装置专利的具体信息内容。
1、 一种防滑片污染装置，其特征在于：包含有一缓冲承接组件；以及数个用以将该缓冲承接组件定位于一欲装设该防滑片污染装置的机台内的定位件。
2、 根据权利要求1所述的防滑片污染装置，其特征在于：该机台为离子注入机台。
3、 根据权利要求1所述的防滑片污染装置，其特征在于：所述定位件包含有：一上方定位件，其包含有一上方定位平整片与数个用以将该上方定位平整片与该缓冲承接 组件锁固于该机台壁上方锁固件；一下方定位件，其包含有一下方定位支撑片、 一下方定位平整片与数个用以将该下方定位 平整片、该下方定位支撑片与该缓冲承接组件锁固于该机台壁的下方锁固件。
4、 根据权利要求1所述的防滑片污染装置，其特征在于：该缓冲承接组件为不锈钢金属软网。
5、 根据权利要求3所述的防滑片污染装置，其特征在于：该下方定位支撑片末端朝内弯曲。
6、 根据权利要求2所述的防滑片污染装置，其特征在于：该防滑片污染装置装设于该离子注入机台的传片机械手臂与芯片轮流碟间的腔壁上。
防滑片污染装置
技术领域
背景技术
离子注入机的终点即是芯片放置的位置， 一般操作员会将芯片放置于大气中的输出/输入 平台，机台会自动将芯片送进真空室中，到达注入地点，在芯片完成适当的工艺处理后，芯 片会被送回位于大气中的输出/输入平台（Load/Unload Stage)，完成所有的程序。但是， 当机械手臂取芯片送至真空室中时，极易因为抓取失误，而导致芯片滑落撞击到机台腔壁， 而导致整个腔室内污染。
因此，本发明提出一种防滑片污染装置，以解决上述问题。
发明内容
本发明的另一目的在于，提供一种防滑片污染装置，其能够有效避免因芯片碎裂，所产 生的工艺延误，以及不必要的工艺浪费。
本发明的再一目的在于，提供一种不易造成金属与微粒污染，且兼具低成本、易安装维 修与不会和其它部件接蚀的防滑片污染装置。
本发明提供一种防滑片污染装置，其包含有一缓冲承接组件；以及数个用以将缓冲承接 组件定位于一欲装设防滑片污染装置的机台内的定位件。
本发明可以有效的避免工艺中芯片滑片撞击到工艺腔体，所可能产生破片与腔室污染，以及后续因污染导致的种种处理程序花费。
以下结合附图及实施例进一步说明本发明。
附图说明
图2为本发明的实施例示意图。
图3为图2的侧视图。
标号说明
1防滑片污染装置
12缓冲承接组件
14上方定位件
16下方定位件
18上方定位平整片
20锁固组件
22下方定位平整片 24下方定位支撑片 26锁固组件 28机械手臂 30芯片轮流碟 32腔室
具体实施方式
其中该缓冲承接组件可以是利用不锈钢软网来作为缓冲承接组件，因为不锈钢软网具有 不易被破坏，不会造成金属污染和粒子的问题，且不锈钢金属软网成本低、安装和维修都极 为容易，此外，不锈钢金属软网不会与其它部件接蚀，因此较安全、可靠等优点。
请参阅图l，其为本发明的一较佳实施例的示意图。如图所示，本发明包含有一缓冲承接 组件12、一用以将缓冲承接组件12上方与下方分别固定于需防滑片污染装置1的机台内的上 方定位件14以及一下方定位件16。而，上方定位件14包含有一上方定位平整片18以及适当 锁固组件20，以把缓冲承接组件12平整延展开。下方定位件16包含有一下方定位平整片22、 一下方定位支撑片24以及适当锁固组件26，其中此一下方定位支撑片24末端向内巻取一弧 度，以顺利拦取下滑掉落的芯片。
请一并参阅图l、图2与图3，其中图2与图3为将本发明的防滑片污染装置装设于离子 注入机台上的实施例示意图与侧视图。如图所示，本发明的防滑片污染装置1是利用上方定 位平整片18、适当锁固组件20、下方定位平整片22、 一下方定位支撑片24以及适当锁固组 件26装设于工艺腔室（wheel chamber)中机械手臂28与芯片轮流碟30间的腔壁32上。因此，当机械手臂28自芯片轮流碟30取芯片放置至进行离子注入的旋转碟上时或者是反之将 已完成离子注入的芯片自旋转碟上放置至芯片轮流碟30上时，芯片由于机械手臂28箝取失 误而滑落，或者因为放置失误，而使芯片自芯片芯片轮流碟30掉落时，芯片将落至缓冲承 接组件12上，而不会直接撞击到腔室32壁，如此将可以避免芯片，且进而避免芯片破碎后 所将产生的污染过高的问题与污染所导致的种种如机台维修等成本花费。
综上所述，本发明为一种防滑片污染装置，其可以有效的避免工艺中芯片滑片撞击到工 艺腔体，所可能产生破片与腔室污染，以及后续因污染导致的种种处理程序花费。
以上所述的实施例仅用于说明本发明的技术思想及特点，其目的在使本领域内的技术人 员能够了解本发明的内容并据以实施，当不能仅以本实施例来限定本发明的专利范围，即凡 依本发明所揭示的精神所作的同等变化或修饰，仍落在本发明的专利范围内。
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台，是提供专利分析，专利查询，专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据，免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析，涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度，系统通过AI智能系统对图表进行解读，只需1分钟，一键生成行业专利分析报告。
