可调转速比的平面研磨装置
专利汇可以提供可调转速比的平面研磨装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种可调转速比的平面 研磨 装置，包括：外 研磨盘 、内研磨盘、外 驱动轴 、内驱动轴、 工件 粘板、 摇臂 和修整环，所述内研磨盘与所述内驱动轴连接，所述外研磨盘与所述内研磨盘同心设置，所述外研磨盘与所述外驱动轴连接，所述工件粘板的下方与所述外研磨盘和所述内研磨盘之间的 位置 用于放置工件，所述工件粘板放置于所述修整环内，所述修整环与所述摇臂相 接触 。本发明提供的可调转速比的平面研磨装置能够显著提高加工效率和工件表面 质量 。，下面是可调转速比的平面研磨装置专利的具体信息内容。
1.一种可调转速比的平面研磨装置，包括：外研磨盘、内研磨盘、外驱动轴、内驱动轴、工件粘板、摇臂和修整环，所述内研磨盘与所述内驱动轴连接，所述外研磨盘与所述内研磨盘同心设置，所述外研磨盘与所述外驱动轴连接，所述工件粘板的下方与所述外研磨盘和所述内研磨盘之间的位置用于放置工件，所述工件粘板放置于所述修整环内，所述修整环与所述摇臂相接触。
2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述内研磨盘和所述外研磨盘分别通过销钉与所述内驱动轴和所述外驱动轴连接。
3.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，工件通过石蜡与所述工件粘板粘结。
4.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述修整环为圆环形，所述修整环设置在所述工件粘板的外围，且所述修整环的底部与所述内研磨盘和所述外研磨盘相接触。
5.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述修整环与所述内研磨盘和所述外研磨盘相接触的表面设置有沟槽。
6.根据权利要求5所述的研磨装置，其特征在于，所述沟槽数量为两个以上，且所述沟槽呈中心对称分布。
7.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述摇臂包括两个滚轮，所述修整环的外圆柱面与所述摇臂的滚轮相接触。
8.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述内研磨盘和外研磨盘为铸铁盘。
9.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述工件粘板选自陶瓷、铸铁、永磁吸盘中的一种，所述工件粘板上设置有把手。
10.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述内研磨轴由第一圆柱和第二圆柱垂直组成，所述内研磨轴的横截面为T字型，所述第一圆柱的直径和所述内研磨盘的直径保持一致。
可调转速比的平面研磨装置
技术领域
背景技术
机、激光、航空航天等技术领域有着广泛的应用。目前现有的平面研磨设备分为两大类，一
类是单面研磨设备，另一类是双面研磨设备，其中单面研磨设备按驱动方式又可分为定偏
心式、不定偏心式、直线式和摇摆式。研磨磨粒的轨迹的分布对工件的加工质量有重要的影
响，磨粒运动轨迹分布不均匀导致工件材料去除不均匀，影响工件加工表面的平面度和表
面粗糙度。现有的平面研磨设备控制模式单一，而且采用的都是整块研磨盘，可调节的部分
仅限于整块研磨盘的转速，研磨液供给流量等，当研磨尺寸较大的工件需要研磨盘的尺寸
也较大，研磨盘的平面度难以提高也限制了所加工工件的平面度难以提高。
发明内容
式、分布均匀性可控，采用分体式单控研磨盘，且能够显著提高加工效率和工件表面质量的
平面研磨装置。
盘与所述内研磨盘同心设置，所述外研磨盘与所述外驱动轴连接，所述工件粘板的下方与
所述外研磨盘和所述内研磨盘之间的位置用于放置工件，所述工件粘板放置于所述修整环
内，所述修整环与所述摇臂相接触。所述工件粘板安装在所述外研磨盘和所述内研磨盘上，
工件粘结在所述工件粘板的下方。在一些实施例中，所述内研磨盘和所述外研磨盘分别通
过销钉与所述内驱动轴和所述外驱动轴连接，方便地更换研磨盘或抛光盘，从而实现研磨
和抛光两个工序在同一个平台上完成。
修整，保证研磨盘的平面度，进而保证所加工工件表面的平面度。
磨盘上的研磨液分散均匀，从而保证所加工工件能够得到均匀地去除。
动所述修整环与摇臂滚轮相接触，所述摇臂在电机的带动下旋摆并带动所述修整环旋摆。
进一步优选地，为保证修整环与摇臂滚轮时刻接触外驱动轴转向固定，工件须同时与内、外
研磨盘接触。
铁、永磁吸盘中的一种，所述工件粘板上设置有把手。
及摇臂摆动的角度和速度，从而提高研磨过程中磨粒运动轨迹的均匀性，能够显著的提高
加工效率和质量。
附图说明
具体实施方式
明，而不构成对本发明的限制。
工件粘板4、摇臂3和修整环5，所述内研磨盘6与所述内驱动轴7连接，所述外研磨盘2与所述
内研磨盘6同心设置，所述外研磨盘2与所述外驱动轴1连接，所述工件粘板4安装在所述外
研磨盘2和所述内研磨盘6上，工件(图1中未示出)粘结在所述工件粘板4的下方，且工件(图
1中未示出)与所述外研磨盘2和所述内研磨盘6相接触。所述修整环5设置在所述工件粘板4
的外围且与所述内研磨盘6和所述外研磨盘2相接触。所述修整环5可对内外研磨盘(2和6)
进行修整，保证内外研磨盘(2和6)的平面度，进而保证所加工工件表面的平面度。进一步优
选地，所述摇臂3还包括滚轮，所述摇臂3与电机输出轴相连接，所述内研磨盘6和所述外研
磨盘2旋转过程中带动所述修整环5与摇臂3的滚轮相接触，所述摇臂3在电机的带动下旋摆
并带动所述修整环5旋摆。
抛光两个工序在同一个平台上完成。
数量的沟槽，保证供给到研磨盘上的研磨液分散均匀，从而保证所加工工件能够得到均匀
地去除。
度，从而提高研磨过程中磨粒运动轨迹的均匀性，能够显著的提高加工效率和质量。
隐含地包括至少一个该特征。
部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员
而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示
第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第
一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不
必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任
一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技
术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结
合和组合。
护的本发明范围内。
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