在蓝光光盘等信息记录介质中，记录层形成在基板上，通过将激光 会聚到记录层上，从而可进行数据的写入或读取。
此外，在介质上螺旋状地形成轨道(track)，在主轴电动机等上载置 信息记录介质并使其旋转，同时沿轨道会聚激光，由此执行数据的读写。
轨道通过在基板上物理地刻设的槽或坑而实现。例如在记录型蓝光 光盘中，轨道通过槽而实现。此外，例如在再现专用型蓝光光盘中，轨 道通过坑而实现。
此处，所谓的槽是指在信息记录介质的周向上物理上连续形成的凹 凸图案。此外，所谓坑是指在信息记录介质的周向上断续形成的凹凸图 案，通过在信息记录介质的周向上排列多个坑来构成一个轨道。
此外，根据信息记录介质的种类，也有漕和沟二者在同一信息记录 介质上分别刻设在规定的区域内的情况。即，存在以下等的情况：例如 将仅刻设有槽的区域用作可记录的区域，将仅刻设有坑的区域用作再现 专用区域。
另一方面，在记录型蓝光光盘的情况下，信息记录介质的最佳记录 功率和介质制造商信息等作为控制数据预先记录在信息记录介质上(将 记录有控制数据的区域称作“控制数据区域”。也有如后所述称作“PIC 区域”的情况。)。通过与用户数据区域不同的调制方式来使槽蛇行，由 此进行控制数据的记录。
此处，所谓的蛇行是通过使槽以规定的振幅和图案在信息记录介质 的半径方向上微小地移位来实现的。此外，调制方式是指用于将想预先 记录的数据转换为规定的蛇行图案的转换方式。此外，在以下的记载中， 为了简便，将“用于槽的蛇行的调制方法”简单地记述为“摆动(wobble) 调制方式”。
并且，在记录型蓝光光盘中，为了使驱动器进行的控制数据的读取 更加可靠，控制数据区域的轨道间距形成为比用户数据区域的轨道间距 要大。
此处，所谓的轨道间距是指在半径方向上观察信息记录介质时的邻 接的两个轨道的中心间距离。如上所述，在记录型蓝光光盘中，使槽在 信息记录介质的半径方向上微量蛇行，但是在讨论轨道间距的值时，不 考虑槽的蛇行。由此，轨道间距与半径方向上观察信息记录介质时的槽 间的平均距离相等。
另一方面，关于照射在信息记录介质上的激光，其一部分被反射， 反射光例如由二分割光电探测器等接收。
图15(a)～图15(c)是分别表示标准化推挽信号振幅(检测面在 沿轨道的方向上被分割的二分割光电探测器的各个输出的差除以各个输 出之和得到的信号的振幅)、轨道间距、槽深以及槽宽的相互关系的曲线 图。
从图15(a)～图15(c)的曲线图可知，例如在记录型蓝光光盘的 情况下，控制数据区域的轨道间距比用户数据区域的轨道间距宽，因此， 在控制数据区域和用户数据区域的槽形状大致相同时，从控制数据区域 得到的标准化推挽信号振幅比从用户数据区域得到的标准化推挽信号振 幅大。此外，可知标准化推挽信号振幅的大小随着槽宽和槽深的变化而 变化。
另一方面，安装了用于会聚激光的物镜的拾波器根据标准化推挽信 号来追随轨道(以下，将追随轨道而动作的行为称作“循轨(tracking)”， 将执行循轨的控制称作“循轨伺服”。)。拾波器通常以标准化推挽信号振 幅在规定的范围内为前提而设计。换言之，在标准化推挽信号振幅在规 定的范围内时，才能实现稳定的循轨伺服。
例如，在标准化推挽信号振幅小于规定范围内的值的情况下，不能 得到用于实现稳定的循轨伺服的充分的信号振幅，会出现引起循轨伺服 不良的不良影响。
此外，例如，在标准化推挽信号振幅大于规定范围内的值的情况下， 超过需要的信号振幅被输入循轨伺服电路，其结果会出现伺服系统振荡 的不良影响。
并且，在标准化推挽信号振幅相对过大的情况下，推挽信号(检测 面在沿轨道的方向上被分割的二分割光电探测器的各个输出的差信号) 作为噪声叠加在进行聚焦伺服而使用的聚焦误差信号上，有可能会引起 聚焦不准等课题。
此外，也可以考虑根据拾波器的种类而使用标准化推挽信号以外的 信号来执行循轨的情况，但是只有用于执行循轨的信号振幅在规定范围 内时才能实现稳定的循轨伺服这一点上是相同的。
此外，即使在标准化推挽信号振幅在规定范围内时，伺服系统的增 益控制电路也不能跟随急剧的标准化推挽信号振幅的变化，有可能会发 生引起循轨伺服不良的情形。由此，尽可能减小标准化推挽信号振幅的 变化会使引起有关循轨伺服的不良情况的可能性降低。
如上所述，可知标准化推挽信号的急剧变化会给循轨伺服或聚焦伺 服带来不良影像，所以公知也可以通过例如使控制数据区域和用户数据 区域的槽形状不同，来减小控制数据区域和用户数据区域的标准化推挽 信号振幅的差。
此外，根据一般的信息记录介质的制造方法，通过针对每个区域改 变母盘曝光装置的曝光功率，可以针对每个区域改变槽形状。
此外，为了针对上述轨道间距不同的区域实现稳定的循轨伺服，提 出了把轨道间距不同的区域形成一个螺旋状的轨道，且设置使轨道间距 逐渐变化的变迁区间的方案(专利文献1)。
上述设置使轨道间距逐渐变化的变迁区间的技术例如在记录型蓝光 光盘中被采用。根据该技术，控制数据区域和用户数据区域被设为连续 的螺旋状的轨道，两个区域通过设置使轨道间距逐渐变化的轨道间距变 迁区间Stp而连接。
利用图16对记录型蓝光光盘中的控制数据区域、用户数据区域以及 轨道间距变迁区间Stp的配置进行说明。此外，图16是用于说明一般的 记录型蓝光光盘中的控制数据区域、用户数据区域以及轨道间距变迁区 间Stp的配置的图。
如图16所示，在记录型蓝光光盘中，控制数据区域配置在用户数据 区域的内周侧，并将控制数据区域中的轨道间距设定为大约0.35μm，将 用户数据区域的轨道间距设定为大约0.32μm。
此外，在用户数据区域和控制数据区域之间，设有保护区域 (Protection zone)，形成为轨道间距变迁区间Stp完全包含在保护区域中。
存在于轨道间距变迁区间Stp的内周侧的保护区域(图16中的内周 侧保护区域)的轨道间距被设定为与控制数据区域的轨道间距的值相同。
另一方面，存在于轨道间距变迁区间Stp的外周侧的保护区域(图 16中的外周侧保护区域)的轨道间距被设定为与用户数据区域的轨道间 距的值相同。
此外，摆动调制方式被设为与控制数据区域和用户数据区域的方式 不同的方式，保护区域的摆动调制方式被设为与用户数据区域的摆动调 制方式相同的方式。即，摆动调制方式形成为在保护区域和控制数据区 域的边界部处变化(专利文献2)。
即，保护区域是指设置在摆动调制方法及轨道间距不同的两个区域 之间的、为了连接形成为一个螺旋状轨道的两个区域而设置的区域。
专利文献1：日本特开2003—346384号公报
专利文献2：日本特开2006—12355号公报
关于本发明要解决的课题，举例对蓝光光盘进行说明。
如上所述，在蓝光光盘中，控制数据区域以相对较宽的轨道间距设 置在用户数据区域的内周侧。两者设置在连续的轨道上，在两者之间设 置有使轨道间距逐渐变化的轨道间距变迁区间Stp。
此外，为了减小控制数据区域和用户数据区域的标准化推挽信号振 幅的差，通过使母盘曝光装置中的两个区域的曝光功率分别不同，而可 以使两个记录区域的槽形状互不相同。
但是，当使两个记录区域的槽形状互不相同时，在不同的槽形状的 连接部分产生标准化推挽信号振幅的不连续，会存在无法得到驱动器动 作所需大小的标准化推挽信号振幅、或者得到了会引起循轨伺服和聚焦 伺服障碍的大小的标准化推挽信号振幅等不良情况。
此外，由于标准化推挽信号振幅不连续，也会有循轨伺服系统的增 益控制电路不能完全随动而引起循轨伺服不良的不利情况。
在记录层中含有有机色素材料的In-Groove型的Low-To-High记录型 蓝光光盘中这种不良情况尤其显著。此处，In-Groove型是指凹凸图案中 的将距记录再现光入射侧的记录介质表面较远一侧的槽底部作为记录轨 道的类型的蓝光光盘。此外，Low-To-High记录型蓝光光盘是指构成为记 录标记部分的反射率比未记录部分的反射率高的蓝光光盘。
在In-Groove型的Low-To-High记录型蓝光光盘中，为了在用户数据 区域中获得实用上足够的记录再现特性，优选一定程度地增大记录前的 标准化推挽信号振幅。因此，考虑了在记录前的状态下，控制数据区域 和用户数据区域中的标准化推挽信号振幅的差变大，容易出现两个区域 的连接部分中标准化推挽信号振幅的不连续引起的循轨伺服不良等不良 情况。

本发明是为了解决上述课题而完成的。即，本发明的目的在于，提 供一种能够在具有轨道间距和槽形状不同的多个记录区域的信息记录介 质中，实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服的信息记录介质和制造该信息记 录介质的母盘曝光装置。
本发明的发明人对上述课题进行深入研究，作为结果发现了在具有 轨道间距和槽形状不同的多个记录区域的信息记录介质中，在这些记录 区域间，设置具有轨道间距变迁区间和槽形状变迁区间的变迁区间，同 时使这些区间至少共有一部分区域，由此能够实现稳定的聚焦伺服和循 轨伺服。
此外，发现了一种母盘曝光装置，其通过设置单调增加或单调减少 地扫描记录光的强度的机构或以100msec以下的周期重复进行插值并调 节记录光强度的动作的机构，可以制造这种信息记录介质，从而完成了 本发明。
即，本发明具有以下的要旨。
(1)一种信息记录介质，其具有由凹凸图案形成的记录轨道，其特 征在于，
该记录轨道至少具有：第一记录区域R1、第二记录区域R2及配置 在第一记录区域R1和第二记录区域R2之间的记录区域变迁区间Sx，
第一记录区域R1中的轨道间距tp1、槽宽w1及槽深d1和第二记录 区域R2中的轨道间距tp2、槽宽w2及槽深d2满足下述式(1)、下述式 (2)和/或式(3)，
0<|tp1-tp2|(1)
0<|w1-w2|  (2)
0<|d1-d2|  (3)
记录区域变迁区间Sx具有：轨道间距从tp1向tp2变迁的轨道间距 变迁区间Stp，槽宽从w1向w2变迁和/或槽深从d1向d2变迁的槽形状 变迁区间Sg，
轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg至少共有一部分的区域 SL。
(2)根据上述(1)所述的信息记录介质，第一记录区域R1、第二 记录区域R2及记录区域变迁区间Sx由物理上连续的槽形成。
(3)根据上述(1)或(2)所述的信息记录介质，所述信息记录介 质具有包含有机色素的记录层。
(4)根据上述(1)～(3)的任意一项所述的信息记录介质，记录 标记部分中的反射率比未记录部分的反射率高。
(5)根据上述(1)～(4)的任意一项所述的信息记录介质，将凹 凸图案中的与记录再现光入射侧的信息记录介质的表面相距较远一侧的 槽底部设为记录轨道。
(6)根据上述(1)～(5)的任意一项所述的信息记录介质，记录 层的组成和膜厚至少在第一记录区域R1、第二记录区域R2及记录区域 变迁区间Sx中是相同的。
(7)根据上述(1)～(6)的任意一项所述的信息记录介质，在圆 盘状的信息记录介质中，沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg是圆盘 状的信息记录介质的轨道一周长以上。
(8)根据上述(1)～(7)的任意一项所述的信息记录介质，槽形 状变迁区间Sg中的槽宽及/或槽深沿轨道单调增加或单调减少地变化。
(9)根据上述(1)～(8)的任意一项所述的信息记录介质，沿轨 道间距变迁区间Stp的轨道的长度Ltp和沿轨道间距变迁区间Stp及槽形 状变迁区间Sg所共有的区域SL的轨道的长度LL满足下述式(4)及式
(5)
0.2≦Lg/Ltp≦2.5 (4)
0.1≦Lg/Ltp≦1.0 (5)。
(10)根据上述(1)～(9)的任意一项所述的信息记录介质，在 将第一记录区域R1和第二记录区域R2中的未记录状态下的标准化推挽 信号振幅的最大值设为NPPmax，最小值设为NPPmin的情况下，记录区域 变迁区间Sx内的全部区域内的标准化推挽信号振幅NPP满足下式
NPPmin≦NPP≦NPPmax (6)。
(11)根据上述(1)～(10)的任意一项所述的信息记录介质，在 将第一记录区域R1和第二记录区域R2中的未记录状态下的槽部反射率 的最大值设为Rgvmax，最小值设为Rgvmin的情况下，记录区域变迁区间 Sx内的全部区域内的未记录状态下的槽部反射率Rgv满足下式
Rgvmin≦Rgv≦Rgvmax    (7)。
(12)根据上述(1)～(11)的任意一项所述的信息记录介质，第 一记录区域R1配置在第二记录区域R2的内周侧，且在第一记录区域R1 的内周侧配置有第三记录区域R3，所述第三记录区域R3具有比第一记 录区域R1中的轨道间距tp1及第二记录区域R2中的轨道间距tp2宽的 轨道间距tp3。
(13)根据上述(12)所述的信息记录介质，在第三记录区域R3 中未进行通过槽的蛇行而进行的信息记录。
(14)根据上述(12)或(13)所述的信息记录介质，在第三记录 区域R3和第一记录区域R1之间，配置有轨道间距从tp3向tp1变迁的 轨道间距变迁区间Stp’。
(15)根据上述(1)～(14)的任意一项所述的信息记录介质，第 一记录区域R1包含存储了规定的信息的读取专用区域，第二记录区域 R2包含可写入用户数据的可读写区域。
(16)根据上述(15)所述的信息记录介质，读取专用区域中的轨 道间距为0.35μm，可读写区域中的轨道间距为0.32μm。
(17)根据上述(15)或(16)所述的信息记录介质，在将读取专 用区域中的标准化推挽信号振幅设为NPP1，将可读写区域中的未记录状 态下的标准化推挽信号振幅设为NPP2，将可读写区域中的记录后的标准 化推挽信号振幅设为NPP2a，并将各个最大值中的最大值设为NPPALmax， 各个最小值中的最小值设为NPPALmin时，
NPPALmax/NPPALmin≦3。
(18)根据上述(17)所述的信息记录介质，其中，NPPALmax/NPPALmin ≦2。
(19)根据上述(15)～(18)的任意一项所述的信息记录介质， 针对读取专用区域应用第一摆动调制方式，针对可读写区域应用与第一 摆动调制方式不同的第二摆动调制方式，且在记录区域变迁区间Sx中应 用与可读写区域相同的摆动调制方式。
(20)一种母盘曝光装置，其特征在于，该母盘曝光装置具有：
记录光源；
偏转信号生成机构，其使得产生基于规定的格式的规定的偏转信号；
记录光偏转机构，其根据上述偏转信号生成机构所生成的偏转信号， 使上述记录光源产生的记录光偏转；
聚光机构，其使上述记录光会聚到母盘上；
旋转机构，其用于载置上述母盘并使其旋转；
半径移动机构，其使上述聚光机构在上述母盘的半径方向上相对地 移动；
控制机构，其根据预先设定的值，控制上述旋转机构的旋转速度、 上述半径移动机构的移动速度及上述聚光机构的位置，以使能生成轨道 间距不同的多个记录区域；
记录光强度调节机构，其调节上述记录光的强度；以及
记录光强度扫描机构，其根据预先设定的值，单调增加或单调减少 地扫描上述记录光的强度。
(21)根据上述(20)所述的母盘曝光装置，该母盘曝光装置具有 以下机构，该机构检测聚光机构到达了预先设定的特定的半径位置处的 情况，开始及/或结束上述记录光强度扫描机构进行的记录光强度的扫描。
(22)根据上述(20)所述的母盘曝光装置，该母盘曝光装置具有 以下机构，该机构检测上述偏转信号生成机构输出了预先设定的特定的 地址的情况，开始及/或结束上述记录光强度扫描机构进行的记录光强度 的扫描。
(23)根据上述(20)所述的母盘曝光装置，该母盘曝光装置具有 以下机构，该机构检测聚光机构到达了预先设定的特定的半径位置处的 情况，开始上述记录光强度扫描机构进行的记录光强度的扫描，并且在 经过了预先设定的规定的时间以后，结束上述扫描。
(24)根据上述(20)所述的母盘曝光装置，该母盘曝光装置具有 以下机构，该机构检测上述偏转信号生成机构输出了预先设定的特定的 地址的情况，开始上述记录光强度扫描机构进行的记录光强度的扫描， 并且在经过了预先设定的规定的时间以后，结束上述扫描。
(25)一种母盘曝光装置，其特征在于，该母盘曝光装置至少具有：
记录光源；
偏转信号生成机构，其使得产生基于规定的格式的规定的偏转信号；
记录光偏转机构，其根据上述偏转信号生成机构所生成的偏转信号， 使上述记录光源产生的记录光偏转；
聚光机构，其使上述记录光会聚到母盘上；
旋转机构，其用于载置上述母盘并使其旋转；
半径移动机构，其使上述聚光机构在上述母盘的半径方向上相对地 移动；
控制机构，其根据预先设定的值，控制上述旋转机构的旋转速度、 上述半径移动机构的移动速度及上述聚光机构的位置，以使得能生成轨 道间距不同的多个记录区域；
记录光强度调节机构，其根据上述聚光机构的位置和预先设定的特 定的半径值中的记录光强度设定值，来插值并调节记录光强度；以及
重复动作机构，其重复进行上述记录光强度调节动作，
上述重复动作机构的1个周期所需要的动作时间在100msec以下。
本发明的信息记录介质具有轨道间距和槽形状不同的多个记录区 域，同时能够实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服。
此外，利用本发明的母盘曝光装置，能够高效地制造上述信息记录 介质。
附图说明
图1(a)和图1(b)均是示出本发明的信息记录介质所具有的层结 构的例子的示意性的局部剖面图。
图2是示出本发明的信息记录介质中的第一记录区域R1、第二记录 区域R2及记录区域变迁区间Sx的关系的图。示意性地分别示出了第一 记录区域R1、第二记录区域R2及记录区域变迁区间Sx中的邻接的两个 槽的截面形状的例子。
图3是示意性地示出本发明的信息记录介质的一例的记录型蓝光光 盘中的记录区域的配置的俯视图。
图4(a)～图4(i)是示出用于制造本发明的信息记录介质的压模 制造工序的一例的图。
图5是示意性地示出本发明的一个实施方式的母盘曝光装置的基本 结构的例子的功能框图。
图6是表示在本发明的一个实施方式的母盘曝光装置的第2形式中， 通过连续的插值而得的理论曝光强度和聚光机构的半径值之间的关系的 曲线图。
图7是表示在本发明的一个实施方式的母盘曝光装置的第2形式中， 通过重复插值动作而得的实际的曝光强度和聚光机构的半径值之间的关 系的曲线图。
图8(a)是示出用于各实施例及各比较例的信息记录介质的评价的 信息再现装置(以下称作“评价用信息再现装置”)的主要部分的结构的 功能框图。图8(b)是示出图8(a)所示的评价用信息再现装置所具有 的四分割光电二极管的结构的图。
图9是示出实施例1的信息记录介质中的标准化推挽信号振幅NPP 及和信号SUM的信息记录介质的大约1/2周部分的波形的图。
图10是示出实施例2的信息记录介质中的标准化推挽信号振幅NPP 及和信号SUM的信息记录介质的大约1/2周部分的波形的图。
图11是示出实施例3的信息记录介质中的标准化推挽信号振幅NPP 及和信号SUM的信息记录介质的大约1/2周部分的波形的图。
图12是示出比较例1的信息记录介质中的标准化推挽信号振幅NPP 及和信号SUM的信息记录介质的大约1/2周部分的波形的图。
图13是示出比较例2的信息记录介质中的标准化推挽信号振幅NPP 及和信号SUM的信息记录介质的大约1/2周部分的波形的图。
图14是绘出关于实施例1～7及比较例1、2的信息记录介质得到的 Lg/Ltp和LL/Ltp的关系的图。
图15(a)～图15(c)是分别表示标准化推挽信号振幅(检测面在 沿In-Groove型轨道的方向上被分割的二分割光电探测器的各个输出的 差信号)、轨道间距、槽深以及槽宽的相关关系的曲线图。
图16是示出一般的记录型蓝光光盘中的控制数据区域、用户数据区 域以及轨道间距变迁区间Stp的配置的图。
标号说明
100、200信息记录介质；101、201基板；102反射层；103记录 层；104、207覆盖层；105、208激光；202第一反射层；203第一记 录层；204中间层；205第二反射层；206第二记录层；300记录型蓝 光光盘；301BCA区域；302PIC区域；303用户数据区域；501母盘用 基板；502光致抗蚀剂；503母盘；503’凹凸母盘；504图案；505导 电层；506父版层(父版压模、父版)；507剥离层；508母版层(母版 压模、母版)；600母盘曝光装置；601格式器(偏转信号生成机构)； 602激光光源(记录光源)；603功率调节元件(记录光强度调节机构)； 604EOD元件(记录光偏转机构)；605物镜(聚光机构)；606转台(旋 转机构)；607滑块(半径移动机构)；608反射镜；609控制器(控制 机构)；900评价用信息再现装置；901四分割光电二极管；902推挽信 号生成电路；903和信号生成信号；904标准化推挽信号生成电路；905 合成电路；906评价对象的信息记录介质。

以下，参照附图说明用于实施本发明的最佳方式(以下称作“发明 的实施方式”)。
但是，本发明不限于以下的发明的实施方式，在本发明的主旨范围 内可以进行各种变形来实施。
此外，本发明优选应用于In-Groove型的Low-To-High记录型蓝光光 盘，因此，在以下的发明的实施方式说明中，作为信息记录介质以 In-Groove型的Low-To-High记录型蓝光光盘为例进行说明。但是，本发 明不仅可以应用于特定的信息记录介质，还可以应用于各种信息记录介 质(例如On-Groove型等记录型蓝光光盘和DVD(Digital Versatile Disc： 数字通用光盘)等蓝光光盘以外的信息记录介质等)。
[I.信息记录介质]
[I.1基本结构]
本发明的信息记录介质是具有由凹凸图案形成的记录轨道的信息记 录介质，其通常至少具有圆盘状(disc状)的基板和形成在基板上的记录 层。
基板可以适当使用以往公知的材料，但优选其具有形状稳定性，以 使信息记录介质具有一定程度的刚性。即，优选机械稳定性高、刚性大 的基板。
作为这种材料，可以使用例如丙烯类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚 碳酸酯树脂、聚烯烃类树脂(特别是非晶聚烯烃)、聚酯类树脂、聚苯乙 烯类树脂、环氧树脂等树脂和玻璃等。可以单独使用这些材料的任意一 种，也可以以任意组合和比例并用两种以上的这些材料。其中，从成形 性等的高生产率、成本、低吸湿性、形状稳定性等方面出发，优选聚碳 酸酯作为基板的材料。
作为基板的厚度，通常优选在0.5mm以上且1.2mm以下。
记录层可适当使用以下这样的现有公知的材料：即通过激光的照射 其物理特性或形状等变化，通过反射率等光学特性的变化可进行信息的 记录再现。作为这种材料，可以列举有机色素材料和以相变材料为代表 的无机材料等。
作为有机色素材料，例如可以列举以下材料等：大环氮杂轮烯系色 素(酞菁色素、萘酞菁色素、卟啉色素等)、吡咯甲川系色素、聚甲炔系色 素(菁色素、部花青色素、方酸菁(squalirium)色素等)、蒽醌 (anthoraquinone)系色素、薁鎓(azulenium)系色素、金属络合物偶氮 类色素、金属络合物靛苯胺类色素等。
作为无机材料，例如可以使用GeTe、GeSbTe等硫族类合金膜；Si/Ge、 Al/Sb等双层膜；BiGeN、SnNbN等(部分)氮化膜；TeOx、BiFOx等(部 分)氧化膜等。可以单独使用这些材料的任意一种，也可以以任意组合 和比例并用两种以上。
记录层的膜厚通常在1nm以上且100nm以下，优选10nm～90nm。
此处，记录层的组成和膜厚优选至少在第一记录区域R1、第二记录 区域R2及记录区域变迁区间Sx中是相同的。但是，并不禁止制造工序 和槽形状引起的不可避免的记录层的组成和膜厚的分布不均。即，作为 记录层，在例如使用一般的旋涂法涂布有机色素材料的情况下，在槽形 状不同的区域或圆盘的内外周产生记录层膜厚少许不同的情况，但是只 要在可以实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服的范围内，则是容许的。
此外，本发明的信息记录介质优选应用于In-Groove型的 Low-To-High记录型蓝光光盘。即，记录层的组成和膜厚优选为记录标记 部分中的反射率比未记录部分的反射率高的结构。之所以这样，是因为 如上所述，In-Groove型的Low-To-High记录型蓝光光盘容易出现标准化 推挽信号振幅的不连续引起的循轨伺服不良等的不良情况。但是，本发 明的信息记录介质也可以应用于High-To-Low记录型蓝光光盘等，可以 任意选择记录层的组成和膜厚。
此外，本发明的信息记录介质使用公知的记录和/或再现装置，对记 录层照射用于记录或再现的激光，由此可以在记录层中记录数据或再现 在记录层中所记录的数据。
此外，本发明的信息记录介质也可以具有其他的层。作为其他的层 的例子，可以列举反射层、覆盖层、中间层、界面层等。
反射层需要是针对记录再现所使用的激光具有一定数值以上的反射 率的反射层，可以适当使用以往公知的材料。作为这类的材料，可以使 用例如Al、Ag、Au等金属或者这些金属的合金。可以单独使用这些材 料中的任意一种，也可以以任意组合和比例并用两种以上。
反射层的膜厚通常在3nm以上且400nm以下，优选50nm～300nm。
对覆盖层选择相对于记录再现中所使用的激光透明且双折射少的材 料。通常用粘结剂贴合塑料板(称作薄板)，在涂布覆盖层的溶液后，利 用光、放射线、或热等进行固化而形成。可以单独使用这些材料中的任 意一种，也可以以任意组合和比例并用两种以上。
覆盖层的膜厚通常在10μm以上且300μm以下，优选50μm～ 150μm。在蓝光光盘中，通常覆盖层的膜厚是100μm左右，优选97μm～ 103μm。
中间层主要用于具有多个记录层的层叠型信息记录介质中。除了需 要针对记录再现中所使用的激光具有一定的透光性之外，还需要能够形 成凹凸的槽和坑。
作为中间层的材料，例如可以列举热塑性树脂、热固化性树脂、电 子射线固化性树脂、紫外线固化性树脂(包括延迟固化型)等树脂材料。可 以单独使用这些材料中的任意一种，也可以以任意组合和比例并用两种 以上。
中间层的膜厚通常在5μm以上且100μm以下，优选10μm～ 70μm。
界面层设置在记录层和覆盖层的界面、记录层和反射层的界面等处， 具有防止相互的层的扩散和调节光学特性等功能。
界面层的膜厚通常在1nm以上且50nm以下，优选3nm～15nm。
本发明的信息记录介质中的这些层的数量和组合、层叠顺序等没有 限制，是任意的。
使用图1(a)、图1(b)对本发明的信息记录介质所具有的具体的层结 构的例子进行说明。此处，图1(a)和图1(b)均是示出本发明的信息 记录介质所具有的层结构的例子的示意性局部剖面图。
具体地说，图1(a)所示的信息记录介质100是单层型的信息记录介 质的一例，依序层叠了基板101、反射层102、记录层103及覆盖层104。 此外，通过从覆盖层104侧向记录层103照射用于记录或再现的激光105， 可以在记录层103中记录数据或再现在记录层103中所记录的数据。
此外，图1(b)所示的信息记录介质200是双层型的信息记录介质， 依序层叠了基板201、第一反射层202、第一记录层203、中间层204、 第二反射层205、第二记录层206以及覆盖层207。此外，通过从覆盖层 207侧向第一记录层203或第二记录层206照射用于记录或再现的激光 208，可以在第一记录层203或第二记录层206中记录数据或再现在第一 记录层203或第二记录层206中所记录的数据。
以下，有以图1(a)、图1(b)中示出的层结构为例进行说明的情况， 但是这些图1(a)、图1(b)所示的层结构仅是本发明的信息记录媒体的层结 构的一例。本发明的信息记录介质不限于这些层结构，也可以有其他的 层结构。例如，可以去除图1(a)、图1(b)中示出的层结构中的一部分的层、 追加其他的层、将两个以上的层形成为一层、变更层叠顺序、设置三层 以上的记录层或者加以其他任意的变更。
本发明的信息记录介质在一些层(通常是基板和中间层等)上具有 通过凹凸图案而实现的螺旋状的轨道。以该轨道为基准，向记录层照射 用于记录的激光，由此沿轨道记录数据。此外，以该轨道为基准，向记 录层照射用于再现的激光，由此能够沿轨道再现所记录的数据。
具体地说，在图1(a)中示出的单层型信息记录介质中，在基板101 上形成轨道(凹槽轨道)GT1，反射层102、记录层103、覆盖层104层叠 形成在该轨道GT1上。
此外，在图1(b)中示出的双层型信息记录介质中，在基板201上形 成轨道(凹槽轨道)GT21，第一反射层202、第一记录层203及中间层204 层叠在该轨道GT21上。此外，在中间层204的与第一记录层203相反侧 的面上形成轨道(凹槽轨道)GT22，第二反射层205、第二记录层206及覆 盖层207层叠在该轨道GT22上。
在以下的记载中，如图1(a)、图1(b)所示，作为原则，以在基 板或中间层上形成轨道的情况为例进行说明。但是，本发明的信息记录 介质中形成轨道的层不限于基板或中间层。
此外，轨道可以由在从信息记录介质的激光入射侧观察时的凹凸图 案的凹部形成，也可以由凸部形成，或者还可以由凸部和凹部两者形成。 但是，尤其在作为记录层具有有机色素材料的膜面入射方式的信息记录 介质中，优选由从激光入射侧观察时的凹凸图案的凹部形成轨道。在以 下的记载中，将这种由从激光入射侧观察时的凹凸图案的凹部形成的轨 道称作“凹槽轨道(groove track)”。图1(a)、图1(b)中示出的轨道 GT1、GT21和GT22都是凹槽轨道的例子。
在以下的记载中，只要没有特别的限制性记载，如图1(a)、图1(b) 所示，以由基板和中间层等槽(凹部)形成的凹槽轨道为前提进行说明， 但是本发明的信息记录介质所具有的轨道并不限于凹槽轨道。
此外，在轨道由槽形成的情况下，该槽的截面形状(在信息记录介 质的厚度方向上的截面形状)不受限制，是任意的。作为例子，可以列 举矩形、梯形、半圆形及半椭圆形等。
此外，在本发明中，将形成轨道的槽的宽度定义为“槽宽”。此外， 在形成轨道的槽的宽度随着信息记录介质的厚度方向的位置而不同的情 况下，例如在轨道的截面形状是梯形等情况下，可以将槽的最大深度的 二分之一位置处所具有的宽度作为“槽宽”。
此外，在本发明中，将形成轨道的槽的深度定义为“槽深”。此外， 在形成轨道的槽的深度随着信息记录介质的半径方向的位置而不同的情 况(例如轨道的截面形状是半圆的情况等)下，可以把该深度的最大值 设为“槽深”。
此外，形成轨道的槽的形状主要由这些“槽宽”和“槽深”决定。 在以下的记载中，有时将信息记录介质的槽宽和/或槽深总称为“槽形状”。
[I-2.记录区域及记录区域变迁区间Sx]
接下来，参照图2对本发明的信息记录介质的记录轨道具有的第一 记录区域R1、第二记录区域R2及记录区域变迁区间Sx的关系进行说明。 此外，图2是用于说明本发明的信息记录介质的第一记录区域R1、第二 记录区域R2及记录区域变迁区间Sx的关系的图，示意性地分别示出了 第一记录区域R1、第二记录区域R2及记录区域变迁区间Sx中的邻接的 两个槽的截面形状的例子。
如图2所示，本发明的信息记录介质的记录轨道至少具有第一记录 区域R1和第二记录区域R2。
本发明的信息记录介质的记录轨道的第一记录区域R1中的轨道间 距tp1、槽宽w1及槽深d1和第二记录区域R2中的轨道间距tp2、槽宽 w2及槽深d2满足下述式(1)、下述的式(2)和/或式(3)，
0<|tp1-tp2|(1)
0<|w1-w2|(2)
0<|d1-d2|(3)
式(1)表示第一记录区域R1中的轨道间距tp1和第二记录区域R2 中的轨道间距tp2具有互不相同的值。
此外，式(2)表示第一记录区域R1中的槽宽w1和第二记录区域 R2中的槽宽w2具有互不相同的值。
此外，式(3)表示第一记录区域R1中的槽深d1和第二记录区域 R2中的槽深d2具有互不相同的值。
此外，可以仅满足式(2)及式(3)中的任意一方，也可以两者都 满足。
即，也可以是第一记录区域R1的槽宽w1和第二记录区域R2的槽 宽w2不同的同时，第一记录区域R1的槽深d1和第二记录区域R2的槽 深d2也不同。此外，也可以是第一记录区域R1的槽宽w1和第二记录 区域R2的槽宽w2不同，另一方面，第一记录区域R1的槽深d1和第二 记录区域R2的槽深d2相同。此外，也可以是第一记录区域R1的槽宽 w1和第二记录区域R2的槽宽w2相同，另一方面，第一记录区域R1的 槽深d1和第二记录区域R2的槽深d2不同。
在图2中，示出了第一记录区域R1的槽宽w1和第二记录区域R2 的槽宽w2不同的同时，第一记录区域R1的槽深d1和第二记录区域R2 的槽深d2也不同的情况，但是本发明不限于此。
此外，第一记录区域R1中的轨道间距tp1、槽宽w1及槽深d1和第 二记录区域R2中的轨道间距tp2、槽宽w2及槽深d2都通常在各记录区 域R1、R2的整体范围内大致相同。
此外，如图2所示，本发明的信息记录介质具有配置在上述第一记 录区域R1和第二记录区域R2之间的记录区域变迁区间Sx。即，第一记 录区域R1和第二记录区域R2物理上分离，在这些第一记录区域R1和 第二记录区域R2之间配置有记录区域变迁区间Sx。
该记录区域变迁区间Sx具有：轨道间距从tp1向tp2变迁的轨道间 距变迁区间Stp，槽宽从w1向w2变迁和/或槽深从d1向d2变迁的槽形 状变迁区间Sg。
此处，轨道间距变迁区间Stp是指存在于记录区域R1和R2之间， 在沿轨道观察信息记录介质的情况下，轨道间距从tp1向tp2逐渐变化的 区域。
此外，与轨道间距变迁区间Stp同样，槽形状变迁区间Sg是指存在 于记录区域R1和R2之间，在沿轨道观察信息记录介质的情况下，槽宽 从w1向w2逐渐变化和/或槽深从d1向d2逐渐变化的区域。
即，在第一记录区域R1的槽宽w1和第二记录区域R2的槽宽w2 相同的情况下，槽形状变迁区间Sg的槽宽不变化，w1和w2相同，仅槽 深从d1向d2逐渐变化。此外，在第一记录区域R1的槽深d1和第二记 录区域R2的槽深d2相同的情况下，槽形状变迁区间Sg的槽深不变化， d1和d2相同，仅槽宽从w1向w2逐渐变化。
此外，这些轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg至少共有一 部分的区域SL。
此处，关于记录区域变迁区间Sx和轨道间距变迁区间Stp、槽形状 变迁区间Sg的关系，例如可以考虑以下(1)～(3)的形式。
(1)在轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg完全一致，并 彼此共有全部区域SL的情况下，记录区域变迁区间Sx也与两者一致。
(2)在轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg共有一部分区 域SL，且具有分别单独存在的区域的情况下，记录区域变迁区间Sx是 指所述共有区域SL及各自的单独区域合起来的区域。
(3)在轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg中的任意一方的 (较宽一方)记录区域完全包含另一方(较窄一方)的记录区域的情况 下，作为较窄一方的全部记录区域的SL被共有，另一方面，记录区域变 迁区间Sx与两个区域中的较宽一方的区域一致。
此处，重要的一点是轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg至 少共有一部分区域SL。即，两个区域完全分离的方式不包括在本发明的 对象中。
此外，在图2中，为了明确化，作为记录区域变迁区间Sx的槽截面 形状，示出了轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg所共有的区域 SL的槽截面形状。即，示意性示出了轨道间距在tp1和tp2之间，槽宽 在w1和w2之间，槽深在d1和d2之间的情况。如上所述，记录区域变 迁区间Sx的槽截面形状不限于此。
此处，所谓槽形状是指槽宽和槽形状所代表的与记录介质垂直的截 面上的各个槽的几何学形状，而不是根据摆动调制方法变化的向槽自身 的半径方向的蛇行。由此，所谓槽形状的变迁不是向槽自身的半径方向 的蛇行量的变迁，两者可以独立控制。但是，不禁止槽形状变迁区间Sg 内的摆动调制方法的变化和向槽自身的半径方向的蛇行量的变化。如果 介质的特性上没有问题，则即使例如在槽形状变迁区间Sg内摆动调制方 法变化也不会造成障碍。
此外，为了抑制槽形状的急剧的变化，沿槽形状变迁区间Sg轨道的 长度Lg优选在圆盘状的信息记录介质的轨道一周长以上。
此外，在抑制标准化推挽信号振幅的急剧变动方面，优选轨道间距 变迁区间Stp中的轨道间距的变化的状态沿轨道单调增加或单调减少。
此外，在轨道间距变迁区间Stp中，优选轨道间距连续变化。但是， 如果标准化推挽信号振幅的变动被抑制到实用上不造成障碍的程度，则 轨道间距变化也可以不连续。
此外，在抑制标准化推挽信号振幅的急剧变动方面，优选槽形状变 迁区间Sg中的槽形状的变化的状态是槽宽和/或槽深沿轨道单调增加或 单调减少。
此外，在槽形状变迁区间Sg中，优选槽形状连续变化。但是，如果 标准化推挽信号振幅的变动被抑制到实用上不造成障碍的程度，则槽形 状变化也可以不连续。
即，如上所述，沿着轨道使槽形状的变化单调增加或单调减少，由 此，在将记录区域R1和记录区域R2中的未记录状态下的槽部反射率的 最大值设为Rgvmax，最小值设为Rgvmin的情况下，记录区域变迁区间Sx 内的全部区域内的未记录状态下的槽部反射率Rgv满足下式的可能性增 大。
Rgvmin≦Rgv≦Rgvmax  (7)
如果记录区域变迁区间Sx内的全部区域中的未记录状态下的槽部反射率 Rgv满足上式，则能够更可靠地抑制标准化推挽信号振幅的变动。
此外，优选设定沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的长度Ltp和沿槽形 状变迁区间Sg的轨道的长度Lg的值，以使两者的比值Lg/Ltp满足通常 在0.2以上，也可以在0.4以上，更优选在0.6以上且通常在2.5以下的 关系。
此外，在将沿轨道间距变迁区间Stp及槽形状变迁区间Sg所共有的 区域SL的轨道的长度设为LL时，优选设定LL及Ltp的值，以使LL和 Ltp的比值LL/Ltp满足通常在0.1以上，也可以在0.2以上，且通常在1.0 以下的关系。
通过将Lg、Ltp、LL的值设定在上述范围内，能够抑制急剧的标准 化推挽信号振幅的变化。并且，在存在于记录区域R1、R2之间的记录区 域变迁区间Sx的全部区域中，能够将标准化推挽信号振幅收敛于规定的 范围内，能够实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态。
此处，规定的范围是指根据需要仅对聚焦伺服电路和循轨伺服电路 加以微调，就能够实现充分良好的聚焦伺服特性和循轨伺服特性的范围。
即，通过将Lg、Ltp、LL的值设定在上述范围内，在将记录区域R1 和记录区域R2中的未记录状态下的标准化推挽信号振幅的最大值设为 NPPmax，标准化推挽信号振幅的最小值设为NPPmin的情况下，在记录区 域变迁区间Sx内的全部区域中，标准化推挽信号振幅NPP始终满足下 式(6)的可能性增大。
NPPmin≦NPP≦NPPmax    (6)
即，能够将记录区域变迁区间Sx内的标准化推挽信号振幅始终收敛 于记录区域R1和记录区域R2中的标准化推挽信号振幅的范围内。由此， 不用特别调节聚焦伺服电路和循轨伺服电路，就能够实现稳定的聚焦伺 服和循轨伺服状态，非常适宜。
本发明人如下这样推断根据本发明的信息记录介质，能够实现稳定 的聚焦伺服和循轨伺服状态的理由。
即，通过在轨道间距不同的两个记录区域R1和记录区域R2的边界 部，使轨道间距逐渐变化，即，通过设置轨道间距变迁区间Stp，能够抑 制由于轨道间距的不同而引起的标准化推挽信号振幅的急剧变化。
此外，通过适当变更轨道间距不同的两个记录区域R1和记录区域 R2中的槽形状，能够减小两个记录区域R1和记录区域R2中的标准化推 挽信号振幅的差，从而能够实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态。
但是，在槽形状不同的两个记录区域R1和记录区域R2的边界部， 槽形状急剧变化时，标准化推挽信号振幅也急剧变化，给聚焦伺服和循 轨伺服带来不良影响。
因此，在本发明中，通过设置成槽形状变迁区间Sg至少与轨道间距 变迁区间Stp共有一部分区域，能够抑制伴随上述槽形状的变化而来的标 准化推挽信号振幅的急剧变化。
本发明的信息记录介质至少具有一组上述的第一记录区域R1、第二 记录区域R2及记录区域变迁区间Sx的组合即可，但是也可以有两组以 上。这样，在存在两组以上第一记录区域R1、第二记录区域R2及记录 区域变迁区间Sx的组合的情况下，一个组合中的第一记录区域R1与其 他的组合中的第二记录区域R2也可以是相同的区域。
此外，在本发明的信息记录介质中，优选第一记录区域R1、第二记 录区域R2及记录区域变迁区间Sx全部都通过物理上连续的槽形成。物 理上连续的槽是指在从内周到外周沿轨道观察槽的情况下，任意一处都 没有槽断裂的情况。但是，只要是不会给标准化推挽信号振幅和记录再 现特性带来影响的程度，则不排除槽断续的情况，可以任意选择其结构。
此外，在本发明的信息记录介质是盘状的情况下，第一记录区域R1 和第二记录区域R2可以任意一个存在于盘的内周侧，任意一个存在于盘 的外周侧。通常，在满足上述的第一记录区域R1和第二记录区域R2的 关系的两个记录区域中，将存在于盘的内周侧的记录区域设为第一记录 区域R1、将存在于盘的外周侧的记录区域设为第二记录区域R2。
此处，也可以是在第一记录区域的内周侧配置有第三记录区域R3 的方式，该第三记录区域R3具有比第一记录区域R1中的轨道间距tp1 及第二记录区域R2中的轨道间距tp2的任意一个都宽的轨道间距tp3。 在第三记录区域R3中可以不通过槽的蛇行进行信息的记录。
此外，也可以在第三记录区域R3和第一记录区域R1之间，配置轨 道间距从tp3向tp1变迁的轨道间距变迁区间Stp’。
在以下详细描述将这些方式应用于记录型蓝光光盘的情况的例子。
[I—3.应用于记录型蓝光光盘的例子]
接下来，使用图3对将本发明的信息记录介质应用于记录型蓝光光 盘的情况的结构进行说明。图3是示意性示出本发明的信息记录介质的 一例的记录型蓝光光盘中的记录区域的配置的俯视图。
图3中示出的记录型蓝光光盘300具有轨道间距不同的三个记录区 域。
首先，在光盘的最内周，形成了BCA(Burst Cutting Area：烧录区) 区域301。BCA区域301的轨道间距为大致2.0μm，形成在距离光盘中 心的半径值从大约21mm到大约22.2mm的区间内。在BCA区域301中 进行条形码状的低密度的记录，存储信息记录介质的各种属性信息。在 BCA区域中，通常不通过槽的蛇行进行信息的记录。
在BCA区域301的外侧，形成PIC(Permanent Information and Control data：持久信息和控制数据)区域(有时将其称作“控制数据区域”)302。 PIC区域302的轨道间距为大致0.35μm，形成在距离光盘中心的半径值 从大约22.2mm到大约23.2mm的区间范围内。在PIC区域302中，存储 例如最佳记录功率和介质制造商信息等，设为读取专用。
在PIC区域302的外侧，形成用户数据区域303。用户数据区域303 的轨道间距为大致0.32μm，形成在距离盘中心的半径值从大约23.2mm 到大约58.5mm的区间范围内。在用户数据区域303中，能够进行数据的 写入，能够读取所写入的数据。
此外，调节PIC区域302和用户数据区域303的槽形状以使其分别 得到规定的标准化推挽信号振幅。
PIC区域302中的槽宽优选在0.01μm以上，更优选在0.07μm以 上，优选在0.25μm以下，更优选在0.13μm以下。PIC区域302中的槽 深优选在10nm以上，更优选在20nm以上，优选在50nm以下，更优选 在40nm以下。
用户数据区域303中的槽宽优选在0.10μm以上，更优选在0.17μ m以上，优选在0.28μm以下，更优选在0.21μm以下。用户数据区域 303中的槽深优选在20nm以上，更优选在30nm以上，优选在70nm以 下，更优选在60nm以下。
此外，为了连接PIC区域302和用户数据区域303，优选在两个区 域302、303之间设置保护区域(未图示)。
此处，优选为：第一记录区域R1包括存储了规定的信息的读取专用 区域即PIC区域，第二记录区域R2包括可写入用户数据的可读写区域即 用户数据区域。在该方式中，记录区域变迁区间Sx完全包含在保护区域 中。即，PIC区域的轨道间距和槽形状是指，在保护区域内，向用户数据 区域的轨道间距和槽形状变迁。
第一记录区域R1和第二记录区域R2的槽形状，即槽宽w1和w2、 槽深d1和d2通过信息记录介质所要求的记录再现特性和信息记录介质 的制造工序等，如上所述分别选择适当的值。此处，例如在蓝光光盘中， 在PIC区域和用户数据区域的轨道间距被设为不同的值，在两个区域间 减小由于两个区域的轨道间距的差引起的标准化推挽信号振幅的差的情 况下，在制造工序上优选，不仅槽宽设为不同的值，而且槽深也设为不 同的值。之所以会这样，是因为为了例如将PIC区域中的标准化推挽信 号振幅和用户数据区域中的标准化推挽信号振幅设为相同程度，PIC区域 的槽宽必须比用户数据区域的槽宽设定得窄。但是，在想仅将PIC区域 的槽宽变窄来进行应对时，根据情况不同PIC区域的槽宽变得过窄从而 超过母盘曝光装置的分辨率时，有可能发生槽无法正确形成的情况。在 该情况下，与槽宽的变更同时，将PIC区域的槽深设定得比用户数据区 域的槽深浅的对策是有效的。由此，比起仅将第一记录区域R1和第二记 录区域R2的槽宽设为不同的值来制造介质，与槽宽同时将槽深也设为不 同的值的工序，在信息记录介质的制造上更适合。
此外，优选第三记录区域R3是包括BCA区域的区域。
优选为：在将PIC区域中的标准化推挽信号振幅设为NPP1，将用户 数据区域中的未记录状态下的标准化推挽信号振幅设为NPP2，将用户数 据区域中的记录后的标准化推挽信号振幅设为NPP2a，并将各个最大值 中的最大值设为NPPALmax，将各个最小值中的最小值设为NPPALmin时， 调节槽形状和记录层等的组成和膜厚，以满足
NPPALmax/NPPALmin≦3。
即，无论在记录前后，都可以将PIC区域和用户数据区域这两个区域中 的标准化推挽信号振幅的值收敛在恒定范围内，所以能够实现稳定的聚 焦伺服和循轨伺服状态。
其中，更优选：调节槽形状和记录层等的组成和膜厚，以满足
NPPALmax/NPPALmin≦2。
由此，能够实现更稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态。
此外，在记录性蓝光光盘300中，形成为BCA区域301、PIC区域 302、用户数据区域303全部的轨道连续的轨道，同时在BCA区域301 和PIC区域302的边界部以及PIC区域302和用户数据区域303的边界 部，分别设置了轨道间距变迁区间Stp(在图3中省略了图示。)。在这些 轨道间距变迁区间Stp中，如上所述，轨道间距连续地变化。
在将上述的记录性蓝光光盘300构成作为本发明的信息记录介质的 情况下，在BCA区域301和PIC区域302的边界部，及/或PIC区域302 和用户数据区域303的边界部，形成为使上述的槽形状变迁区间Sg和上 述的轨道间距变迁区间Stp至少共有一部分的区域(即，设置上述记录区 域变迁区间Sx)。由此，能够抑制急剧的标准化推挽信号振幅的变化，能 够实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态。
此外，记录区域变迁区间Sx和槽形状变迁区间Sg可以仅设置在 BCA区域301和PIC区域302的边界部及PIC区域302和用户数据区域 303的边界部中的任意一处，也可以设置在两处。但是，通过至少在PIC 区域302和用户数据区域303的边界部设置记录区域变迁区间Sx和槽形 状变迁区间Sg，可以显著地得到上述效果，因此是优选的。
此外，摆动调制方法是在控制数据区域和用户数据区域中与通常不 同的方法。此处，优选在保护区域内部，摆动调制方法相同，并且应用 与用户数据区域相同的摆动调制方式。
另一方面，如上所述，在本发明的记录型蓝光光盘中，优选记录区 域变迁区间Sx完全包含在保护区域中。即，优选在记录区域变迁区间Sx 内的全部区域中，摆动调制方法相同。
[I—4.测定方法]
信息记录介质具有的槽形状(槽宽和槽深)可以通过以下的步骤来 测定。例如，在记录型蓝光光盘等的形成有相当于凹槽轨道的凹凸图案 的基板上层叠记录层，并在其上形成有由紫外线固化树脂等构成的覆盖 层的信息记录介质的情况下，利用AFM(Atomic Force Microscope：原 子力显微镜)测定层叠记录层之前的基板，由此能够直接测定槽深和槽 宽。
此外，在记录层上形成有覆盖层的信息记录介质的情况下，例如， 用割刀等剥离覆盖层，使相当于凹槽轨道的基板上的凹凸图案从表面露 出，由此能够使用AFM测定槽形状。
此外，沿信息记录介质所具有的槽形状变迁区间Sg的轨道的长度 Lg也可以使用AFM通过以下的步骤来求出。
具体地说，首先，测定槽形状变迁区间Sg内及其附近的多处槽形状， 并且，测定该测定处的信息记录介质上的半径值，由此求解槽形状变迁 区间Sg的内周端半径值和外周端半径值。接着，对存在于槽形状变迁区 间Sg内的轨道的个数进行计数，取其和槽形状变迁区间Sg所存在的半 径值的圆周长的乘积，由此能够求出沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度 Lg。
但是，为了用上述方法求出沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg， 要求对多处的槽形状进行精度良好的测定，并且要求该测定处的半径值 的测定等，有时比较繁杂。在该情况下，也可以通过用适当的再现装置 对信息记录介质进行再现，并调查槽形状变迁区间Sg中的反射光的光量 变化的情况，来求出沿槽形状变迁区间Sg信息的轨道的长度Lg。即， 通过在主轴电动机上载置该信息记录介质并使其旋转，同时用物镜使激 光会聚到轨道上，则可以得到与槽形状相对应的光量的反射光。在槽形 状变迁区间Sg中槽形状变化，因此通过调查激光会聚处的信息记录介质 上的半径值和与反射光的光量变化对应的情况，能够获知沿槽形状变迁 区间Sg的轨道的长度Lg。
此外，关于信息记录介质所具有的轨道间距和轨道间距变迁区间Stp 的长度Ltp，可以通过以下的步骤来测定。
首先，与上述槽形状的情况同样，通过AFM可以直接测定信息记录 介质所具有的轨道间距和轨道间距变迁区间Stp的长度Ltp。
或者，也能够以光学方式测定第一记录区域R1和第二记录区域R2 的轨道间距。
在本发明的信息记录介质所具有的第一记录区域R1和第二记录区 域R2中，等间隔地排列有多个凹槽轨道。在该情况下，一般公知：通过 向这些记录区域R1和记录区域R2照射激光灯等相干光，多个排列的凹 槽轨道发挥衍射光栅的作用，在与轨道间距相对应的角度上出现衍射光。 此外，也设计有应用该原理的形状测定装置(参照日本特开昭57-187604 公报等)。利用该原理，通过测定衍射光的出现角度，即能够获知轨道间 距。
此外，利用该原理，也可以求出沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的 长度。例如，在信息记录介质的半径方向扫描激光，与照射激光的半径 值一起预先记录衍射光的出现位置，由此能够获知轨道间距变迁区间Stp 的半径方向上的大小。此外，根据基于轨道间距变迁区间Stp的半径方向 的大小和轨道间距变迁区间Stp的前后的轨道间距而求出的平均轨道间 距，能够估计沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的长度。
此外，一般还公知有上述衍射光的强度根据槽形状而变化的情况。 此外，在信息记录介质的半径方向上扫描激光，同时测定衍射光的出现 位置和强度，由此还能够同时测定槽形状变迁区间Sg和轨道间距变迁区 间Stp的存在情况。
此外，除了AFM以外，还能够用例如SEM(Scanning Electron Microscope：扫描型电子显微镜)等进行上述各测定。
[II.信息记录介质的制造方法]
本发明的信息记录介质没有特别限制，但是可以通过例如以下说明 的方法来制造。
在信息记录介质的一般的制造步骤中，准备具有凹凸图案的压模， 其中，该凹凸图案的形状与形成在基板和中间层上的轨道的凹凸图案的 形状互补，使用该压模在基板和中间层上形成凹凸图案的轨道。由此， 为了制造上述具有槽形状变迁区间Sg的本发明的信息记录介质，将该压 模所具有的凹凸图案的形状形成为所期望的形状即可。
压模所具有的凹凸图案的形状通常在压模的制造步骤中的母盘曝光 时确定。为了形成本发明规定的特定形状的凹凸图案，使用特定的母盘 曝光装置是有效的。
在以下的记载中，首先对压模的制造步骤进行说明，接着对使用该 压模的信息记录介质的制造步骤进行说明。然后，对用于获得具有所期 望形状的凹凸图案的压模的母盘曝光装置(本发明的母盘曝光装置)进 行说明。
[II-1.压模的制造]
使用图4对用于制造本发明的信息记录介质的压模的制造步骤的一 例进行详细说明。此外，图4(a)～图4(i)是示出用于制造本发明的 信息记录介质的压模的制造步骤的一例的图。但是，以下的制造步骤只 不过是一个例子，用于制造本发明的信息记录介质的压模的制造步骤并 不限于以下的例子。
首先，准备在母盘用基板501上涂布光致抗蚀剂502而构成的母盘 503(参照图4(a))。
母盘用基板501的材质没有限制，通常使用玻璃板。
作为光致抗蚀剂502，可以使用所谓的酚醛清漆·重氮萘醌类抗蚀剂 和化学增幅型抗蚀剂等一般的光致抗蚀剂。此外，既可以使用正型抗蚀 剂，也可以使用负型抗蚀剂。此外，可以使用这些材料中的任意一种， 也可以以任意组合和比例并用两种以上。此外，关于正型抗蚀剂和负型 抗蚀剂的定义将在后面叙述。
光致抗蚀剂502通常利用旋涂法涂布在母盘用基板501上，其膜厚 在母盘用基板501的面内大致均匀。具体的光致抗蚀剂502的膜厚根据 作为目的的压模的凹凸图案的形状来进行设定即可，但是通常在10nm以 上且100nm以下的范围。
接下来，使用母盘曝光装置对母盘503进行曝光处理，在母盘用基 板501上的光致抗蚀剂502上，把目的在于形成与相当于轨道的凹凸图 案对应的规定的图案504作为潜像形成(参照图4(b))。在[III.母盘曝光 装置]中对本工序中使用的母盘曝光装置的结构和动作进行详细说明。
然后，对母盘503实施显像处理，使作为潜像而形成的图案504作 为物理的凹凸图案明显出现(参照图4(c))。
一般来说，采取在显像机的转台上载置母盘503，在旋转转台的同 时滴下显像液的方法，但是例如也可以使用在使玻璃板静止的状态下盛 放显像液的方法(所谓的水坑(puddle)显像法)等。
此时，通过选择光致抗蚀剂502的种类，可以使作为潜像而形成的 图案504侧凹陷，反过来也可以使作为潜像而形成的图案504侧凸出。 一般地多使用使图案504侧凹陷的光致抗蚀剂(将其称作“正型抗蚀剂”)。
在本发明书中，包括图4，主要对使用了正型抗蚀剂的情况进行说 明，但是也可以使用使图案504侧凸出的光致抗蚀剂(将其称作“负型 抗蚀剂”)，这种选择是任意的。
根据上述步骤，可以获得具有物理的凹凸图案的母盘(将其称作“凹 凸母盘”)503’。使用该凹凸母盘503’，通过以下的步骤制作压模。
首先，在上述的凹凸母盘503’上，使用溅射法或无电解电镀法等， 成膜压模的材料，形成导电层505(参照图4(d))。
作为压模的材料，通常使用金属材料。作为金属材料，例如列举镍。 压模的材料可以单独使用任意一种，也可以以任意组合和比例并用两种 以上。
导电层505的厚度没有特别限制，只要是在后述的电镀中不造成障 碍的厚度，则可以任意选择。
接下来，在电铸装置上安装形成有导电层505的凹凸母盘503’，通 过电镀法等，在导电层505上进一步层叠压模的材料，由此形成父版层 506(参照图4(e))。父版层506与导电层505一体地形成，其厚度没有 特别限制，但是通常在100μm以上且500μm以下。
接下来，从凹凸母盘503’剥离父版层506，根据需要，使用光致抗 蚀剂去除液等去除附着在父版层506上的光致抗蚀剂(参照图4(f))。 光致抗蚀剂去除液根据光致抗蚀剂502的种类适当选择即可。例如，可 以使用丙酮和Nagase Chemtex(ナガセケムテツクス)公司生产的N-303C。 可以单独使用这些材料中的任意一种，也可以以任意组合和比例并用两 种以上。
将获得的父版层506称作父版压模(以下称作“父版506”)。在父 版506上仿形凹凸图案，该凹凸图案成为凹凸母盘503’上的凹凸图案倒 转后的图案。
接下来，通过氧化处理等手法对该父版层506的凹凸图案表面进行 处理，由此形成剥离层507(参照图4(g))。剥离层507的厚度没有特 别限制，但是通常在0.1nm以上100nm以下。
此外，在该剥离层507上，通过电镀法等层叠压模的材料，形成母 版层508(参照图4(h))。母版层508的厚度没有特别限制，但是通常 在100μm以上500μm以下。
接下来，剥离该母版层508(参照图4(i))。将获得的母版层508 称作母版压模(以下称作“母版508”)。在母版508上也仿形凹凸图案， 该凹凸图案成为与凹凸母盘503’上的凹凸图案相同的图案。
通过上述的步骤获得的父版506或母版508的任意一个都可以作为 压模使用。
此外，将这些父版压模506和母版压模508作为模子，在其他材料 上仿形凹凸图案，由此可以制作新的压模。例如，可以从父版压模506 仿形多个母版压模508，并且也可以从母版压模508再进一步仿形子版压 模(未图示)。这样获得的子版压模上的凹凸图案成为与父版压模506上 的凹凸图案相同的图案(以下，有时将子版压模简称为“子版”)。
此外，在制造由树脂材料形成的压模(树脂制压模)的情况下，以 下的手法是有效的：通过上述步骤制作由金属材料形成的压模(金属制 压模)，把该金属制压模作为模子将树脂材料注射模塑成形，由此获得仿 形了金属制压模的凹凸图案的树脂制压模。
[II-2.信息记录介质的制造]
将通过上述步骤制作的压模作为模子，在基板和中间层等上形成凹 凸图案，来制造本发明的信息记录介质。
在制造图1(a)中示出的单层型的信息记录介质100的情况下，首 先，使用上述的压模，制作形成有相当于轨道的凹凸图案的基板101。具 体而言，例如，将上述的压模作为模子，将基板101的材料注射模塑成 形，由此形成仿形了压模的凹凸图案的基板101，从压模剥离所获得的基 板101进行使用即可。基板101的材料和厚度等如上所述。此外，作为 压模，通常使用由金属材料形成的压模(金属压模)。
此外，从压模仿形到基板101上的凹凸图案成为压模的凹凸图案倒 转后的图案。例如，在制造In-Groove型的记录型蓝光光盘时，从激光入 射侧观察记录轨道为凹侧，因此将父版压模或子版压模作为模子使用即 可。另一方面，在制造将从激光入射侧观察到的凸侧作为记录轨道使用 的On-Groove型的记录型蓝光光盘时，从激光入射侧观察记录轨道为凸 侧，因此将母版压模作为模子使用即可。此外，在记录层中使用有机色 素的信息记录介质中，从制造方法和记录特性方面优选采用In-Groove 型。
接下来，在基板101的凹凸图案上，形成反射层102。反射层102 的材料和厚度等如上所述。作为反射层102的形成方法，可以列举例如 溅射法等。
此后，在反射层102上，形成记录层103。记录层103的材料和厚 度等如上所述。作为记录层103的形成方法，例如在记录层103是有机 色素材料的情况下可以列举旋涂等涂布法等，在记录层103是无机材料 的情况下可以列举溅射法等。
此后，在记录层103上，形成覆盖层104。覆盖层104的材料和厚 度等如上所述。作为覆盖层104的形成方法，可以列举例如旋涂法等。 此外，也可以通过粘接层等将另外准备的覆盖层104粘接到记录层103 上。
此外，在制造图1(b)中示出的双层型的信息记录介质200的情况 下，首先，使用压模制作形成有轨道的凹凸图案的基板201。其形成步骤 与图1(a)的基板101的情况相同。
接下来，在基板201的凹凸图案上依次层叠形成第一反射层202和 第一记录层203。这些层的材料和厚度、形成步骤等与图1(a)的反射 层102及记录层103的情况相同。
接下来，在第一记录层203上，形成中间层204。中间层204的材 料和厚度等如上所述。作为中间层204的形成方法，可以列举例如涂布 法等。
在该中间层204的形成时，使用压模形成凹凸图案。凹凸图案的形 成步骤没有特别限制，通过将压模的凹凸图案抵接在中间层204上，从 而在中间层204上仿形压模的凹凸图案即可。
作为其中的优选手法，使用紫外线固化性树脂和可见光固化性树脂 等光固化性树脂作为中间层204的材料，在第一记录层203上将该光固 化性树脂成膜规定厚度。其后，在其上进一步载置了压模的状态下，将 可以使光固化性树脂固化的紫外线和可见光等光通过压模照射向光固化 性树脂，使光固化性树脂固化。由此，可以形成仿形了压模的凹凸图案 的中间层204。此外，作为压模，使用可以使光固化性树脂固化的紫外线 和可见光等能够使光透过的材料形成的压模(通常是树脂制压模)。
此外，从压模仿形到中间层204上的凹凸图案成为与压模的凹凸图 案颠倒的图案，因此如上所述，根据所期望的信息记录介质的形式选择 母版压模、父版压模或子版压模即可。
接下来，在中间层204的凹凸图案上，依次层叠形成第二反射层205 和第二记录层206。这些层的材料和厚度、形成步骤等与图1(a)的反 射层102及记录层103的情况相同。
此后，在第二记录层206上，形成覆盖层207。覆盖层207的材料 和厚度、形成步骤等与图1(a)的覆盖层104的情况相同。
在图1(b)中示出的双层型的信息记录介质200的情况下，基板201 所具有的轨道的凹凸图案的形状和中间层204所具有的轨道的凹凸图案 的形状可以相同，也可以互不相同。在基板201和中间层204的凹凸图 案的形状互不相同的情况下，基板201和中间层204中的至少一方满足 本发明的规定即可。即，具有本发明所规定的第一记录区域R1、第二记 录区域R2及记录区域变迁区间Sx即可。此外，也可以是基板201和中 间层204的双方满足本发明的规定。
此外，在存在三层以上轨道的信息记录介质(即，具有三层以上的 记录层的信息记录介质)的情况下，这些层的至少任意一层满足本发明 的规定即可，但是也可以是这些层全部满足本发明的规定。
根据以上的步骤，制造本发明的信息记录介质。
此外，上述的说明以记录型蓝光光盘为例，但是关于其他的信息记 录介质，也能够通过对上述步骤上加以适当变更来制造。例如，在制造 DVD(Digital Versatile Disc：数字化通用光盘)的情况下，构成为贴合厚 度为0.6mm的基板即可。
[III.母盘曝光装置]
本发明的信息记录介质，如上所述，是在轨道间距及槽形状不同的 两个记录区域间，除了轨道间距变迁区间Stp之外，还具有槽形状变迁区 间Sg的信息记录介质。该槽形状变迁区间Sg根据在信息记录介质的制 造时所使用的压模的凹凸图案形状而形成。
压模的凹凸图案形状在压模的制造步骤中的母盘的曝光工序(参照 上述的图4(b))中，通过母盘曝光装置来实现。
以下，关于用于制造本发明的信息记录介质所使用的母盘曝光装置 (本发明的母盘曝光装置)，列举实施方式进行说明。
[III-1.基本结构]
参照图5对本发明的一个实施方式所涉及的母盘曝光装置的基本结 构进行说明。此外，图5是示意性示出本发明的一个实施方式的母盘曝 光装置的基本结构例的功能框图。
图5中示出的母盘曝光装置600具有：产生规定的偏转信号的格式 器(formatter)(偏转信号生成机构)601；用于产生记录光的激光光源(记 录光源)602；将记录光设定为规定的输出的功率调节元件(记录光强度 调节机构)603；用于根据格式器601的输出信号使激光偏转的EOD (Electro Optical Deflector：电光偏转器)元件(记录光偏转机构)604； 用于使激光会聚到母盘503上的物镜(聚光机构)605；用于载置母盘503 并使其旋转的转台(旋转机构)606；用于使物镜605在母盘503的半径 方向上相对移动的滑块(半径移动机构)607；以及用于控制激光的方向 的一个或多个反射镜608。此外，母盘曝光装置600具有用于协调控制这 些结构要素601～608中的一部分或全部的控制器(控制机构)609。特 别地，控制器609具有根据预先设定的值控制转台606的旋转速度、滑 块607的移动速度及物镜605的位置的功能。
从激光光源602出射的记录光首先通过功率调节元件603。功率调 节元件603能够根据预先设定的值使记录光强度改变。
经功率调节元件603调节强度后的记录光接下来为了使记录光偏转 而被导向EOD元件604。
在本实施方式中，使用EOD元件604，但是只要是具有使记录光偏 转的功能的元件，则EOD元件604没有特别限定，例如也可以使用AOD (Acoustic Optical Deflector：声光偏转器)元件。在EOD元件604上连 接有格式器601，能够根据格式器601产生的信号使记录光在角度方向上 偏转。
此外，也可以根据制造的信息记录介质的种类，设置用于调制记录 光的AOM(Acoustic Optical Modulator：声光调制器)元件或EOM(Electro Optical Modulator：电光调制器)元件(在图5中省略图示)。
此外，也可以使一个元件集中具有调制记录光和偏转记录光的功能， 该结构可以根据所制造的信息记录介质的种类进行任意变更。
接下来，从EOD元件604出射的记录光被导向用于使记录光会聚到 母盘503上的物镜605。此外，也可以在使记录光入射到物镜605之前， 通过用于对光束形状进行整形的光束扩展器(在图5中省略图示)。
此外，物镜605安装在聚焦致动器上(在图5中省略图示)，施加聚 焦伺服以使母盘503面和物镜605之间的距离始终保持恒定。通过施加 聚焦伺服，能够将母盘503面和物镜605之间的距离保持恒定，因此会 聚到母盘503面上的记录光的光斑大小始终相同，能够曝光宽度均匀的 图案。
此外，为了在母盘503上形成与螺旋状的轨道相当的图案，使载置 了母盘503的转台606以规定的转速旋转，同时以规定的进给速度进给 滑块607即可。
接下来，对具有上述结构的母盘曝光装置600的动作进行说明。
根据预先设定的线速度和轨道间距，使转台606旋转，并且使滑块 607以规定的速度移动。即，形成与具有第一轨道间距的第一记录区域 R1的轨道相当的图案。
此外，转台606的旋转方向和转速、滑块607的移动速度和移动方 向等条件，可以根据要制作的压模和信息记录介质的格式任意地选择， 选择适当的动作条件即可。
此外，记录光的强度也可以通过各个制造程序和要形成的槽形状， 来任意地设定。
在本发明的信息记录介质是记录型蓝光光盘的情况下，形成为它的 槽以规定的振幅在介质的半径方向上蛇行。采取了以下方法：作为蛇行 图案预先规定了几种种类，通过多个种类的蛇行图案的组合，记录地址 信息和光盘制造商信息等信息。
基于蛇行图案的信息记录是指通过变更蛇行的振幅和周期等、光盘 面内的槽的蛇行形状自身来记录信息，而不是变更槽深、槽宽、平均的 轨道间距。在母盘曝光装置600中，这种槽的蛇行可以通过在母盘503 的半径方向上每次以规定的分量使记录光偏转来形成。用于使记录光偏 转的偏转信号通过格式器601产生，记录光的偏转通过EOD元件604进 行。此外，通过变更格式器601的内部结构可以任意形成蛇行图案。由 此，在作为本发明的信息记录介质制作记录型蓝光光盘以外的信息记录 介质的情况下，变更格式器的内部结构以每次形成合适的蛇行图案即可。
在通过上述的步骤完成与第一记录区域R1的轨道相当的图案的形 成时，接下来转移到与具有第二轨道间距的第二记录区域R2的轨道相当 的图案的形成。在该阶段，进行轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间 Sg的形成，因此对轨道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg的形成方 法进行叙述。
轨道间距变迁区间Stp可以通过改变滑块607的移动速度而形成。 例如，预先在母盘曝光装置600内部存储要开始轨道间距变迁区间Stp 的形成的半径值等，检测滑块607通过了该半径值的情况而改变滑块607 的移动速度即可。作为改变移动速度的方法，例如具有改变用于驱动滑 块607的脉冲列的频率等。此时，例如通过改变用于驱动滑块607的脉 冲列的频率的扫描(sweep)时间，可以设为任意长度的轨道间距变迁区 间Stp。在想设为较长的轨道间距变迁区间Stp的情况下，增长频率的扫 描时间即可，在想设为较短的轨道间距变迁区间Stp的情况下，缩短频率 的扫描时间即可。也可以阶段性地改变滑块607的移动速度，但为了使 轨道间距的变化的方式平滑，优选连续地改变滑块607的移动速度。
另一方面，作为槽形状变迁区间Sg的形成方法，可以考虑两种方式， 与之对应，母盘曝光装置600的结构也不同。以下，对这两种方式进行 说明。
[III-2.第1方式]
在第1方式中，在上述的母盘曝光装置600中，根据预先设定的值， 设置单调增加或单调减少地扫描记录光的强度的机构(记录光强度扫描 机构)。即，通过在与槽形状变迁区间Sg相当的凹凸图案形成时，单调 增加或单调减少地扫描记录光的强度，能够形成槽宽从w1向w2逐渐变 化和/或槽深从d1向d2逐渐变化的图案(即，与槽形状变迁区间Sg相当 的凹凸图案)。
在第1方式中，能够抑制急剧的记录光强度的变化引起的急剧的槽 形状变化，因此能够抑制最终获得的信息记录介质中的急剧的标准化推 挽信号振幅的变化。即，通过第1方式，能够获得可以实现稳定的聚焦 伺服和循轨伺服状态的信息记录介质。
优选为：记录光强度扫描机构具有检测聚光机构到达了预先设定的 特定的半径位置的情况，从而开始和/或结束记录光强度的扫描的功能。 此外，优选为：记录光强度扫描机构具有检测上述偏转信号生成机构输 出了预先设定的特定的地址，从而开始和/或结束记录光强度的扫描的功 能。
记录光强度扫描机构通过具有上述的功能，能够始终制作将记录光 强度的变化开始点保持在恒定值的母盘，因此能够始终将最终获得的信 息记录介质中的标准化推挽信号振幅的变化方式维持恒定。即，能够获 得可以实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态的信息记录介质。
此外，还优选为：记录光强度扫描机构具有检测聚光机构到达了预 先设定的特定的半径位置的情况从而开始记录光强度的扫描，且在经过 预先设定的规定的时间后，结束上述扫描的功能。此外，还优选为：记 录光强度扫描机构具有检测上述偏转信号生成机构输出了预先设定的特 定的地址的情况，从而开始记录光强度的扫描，且在经过预先设定的规 定的时间后，结束上述扫描的功能。
在记录光强度扫描机构具有这些功能的情况下，记录光强度扫描机 构只进行扫描开始触发的监视和扫描时间的管理即可，因此能够使母盘 曝光装置的结构简单。
此外，上述说明的记录光强度扫描机构的各种功能，例如通过使用 软件等使控制器609进行所期望的动作，由此可以实现作为控制器609 的功能。
[III-2.第2方式]
在本发明中，意在抑制轨道间距不同的两个记录区域的边界部处的 急剧的标准化推挽信号振幅的变动。特别是只要标准化推挽信号振幅变 动能够被抑制到在实用上没有问题的程度，则槽形状没有必要一定连续 地变化，也可以是断续的变化。立足于这种着眼点，还可以考虑比上述 的第1方式结构更简单且保养容易的方式的母盘曝光装置。
在第2方式中，在上述母盘曝光装置600中，设置根据物镜(聚光 机构)605的位置和预先设定的特定的半径值处的记录光强度的设定值， 对记录光强度进行插值和调节的记录光强度调节机构和重复进行上述记 录光强度调节动作的重复动作机构，并且，在第2方式中，上述重复动 作机构的1个周期所需要的动作时间在100msec以下。
以下参照图6和图7对本发明的母盘曝光装置的基本动作进行说明。 图6是表示在本方式的母盘曝光装置中，通过连续的插值而获得的理论 上的曝光强度和聚光机构的半径值之间的关系的曲线图。图7是表示在 本方式的母盘曝光装置中，通过重复插值动作而获得的实际的曝光强度 和聚光机构的半径值之间的关系的曲线图。
此外，基于下述的条件进行以下的记载。
(1)在对与第一记录区域R1存在于第二记录区域R2的内周侧的 信息记录介质的轨道相当的图案进行曝光的情况下，
(2)与第一记录区域R1的轨道对应的图案以曝光强度P1进行曝光，
(3)与第二记录区域R2的轨道对应的图案以曝光强度P2进行曝光，
(4)与槽形状变迁区间Sg的轨道对应的图案贯穿半径值Ri到Ro 范围而形成，
(5)半径值Ri处的曝光功率等于P1，
(6)半径值Ro处的曝光功率等于P2，
(7)从内周向外周进行曝光动作。
但是，关于曝光功率和半径值的设定等的详细情况，可以考虑各种 情形，因此并不限定在上述(1)～(7)的条件下，而在其主旨的范围 内可以进行各种变形而实施。
此外，在本方式的母盘曝光装置中，例如，预先在母盘曝光装置内 部存储形成与第一记录区域R1的轨道对应的图案时的曝光强度P1、形 成与第二记录区域R2的轨道对应的图案时的曝光强度P2、槽形状变迁 区间Sg的内侧半径值Ri和外侧半径值Ro等参数。
根据本方式，根据预先设定的线速度和轨道间距，使转台606旋转， 并且使滑块607以规定的速度移动，记录光强度调节机构读取物镜605 在母盘上的半径位置，首先判断物镜605使哪个区域处于曝光中。接下 来，以该判断结果为基准，将曝光强度设定为适当的值。另一方面，滑 块607始终以规定的速度移动，因此在将曝光光强度设定为适当的值的 瞬间，物镜605移动到与当初读取的半径位置不同的半径位置处。因此 再次读取物镜605的半径位置，再次判断物镜605使哪个区域处于曝光 中，根据该判断结果，使曝光强度向适当的值变化。由此，把从读取半 径位置到曝光强度设定设为1个周期，通过依次重复进行该周期动作直 到所期望的半径位置，能够在母盘整个面上进行所期望的曝光强度的曝 光。
以下更具体地对该插值动作进行说明。此外，为了简便，将从读取 半径位置到曝光强度设定的1个周期所需要的动作时间记为Tu。在此， Tu是受母盘曝光装置的性能影响的值。
即，如果物镜605使第一记录区域R1处于曝光中，则记录光强度调 节机构动作以将曝光强度设为P1，如果使第二记录区域R2处于曝光中， 则记录光强度调节机构动作以将曝光强度设为P2。在判断为物镜605使 槽形状变迁区间Sg处于曝光中的情况下，例如如图6所示，记录光强度 调节机构动作以使曝光强度成为以适当形式的函数对Ri和Ro之间进行 插值那样的曝光强度。即，第一记录区域R1位于第二记录区域R2的内 周侧，在进一步以一次函数对Ri和Ro之间进行插值的情况下，物镜605 位于半径位置Rc(此处，设为Ri≦Rc≦Ro)情况下的曝光功率Pc通过 下式计算。
Pc＝(P2-P1)×(Rc-Ri)/(Ro-Ri)+P1
此外，在上述说明中利用一次函数来插值曝光强度，但是函数的形 式不限于一次函数，例如也可以使曝光强度以二次函数的形式来增减。 即，通过计算进行插值来设定曝光强度这一点是重要的。
另一方面，如上所述，对母盘曝光装置而言重复动作时间Tu是必要 的，因此槽形状变迁区间Sg内的实际曝光强度不是如图6所示那样的平 滑，而是如图7所示的阶梯状。此处，与阶梯的1个台阶相当的轨道长 度Su相当于曝光时的线速度LV乘以Tu所得的值，以下式表示。
Su＝LV×Tu
本方式的母盘曝光装置的基本动作如上所述。
即，在完成了第一记录区域R1的形成后，在形成槽形状变迁区间 Sg时，依次读入物镜605的半径位置使记录光强度变为阶梯状、即台阶 的形状，因此能够阶段地改变槽形状变迁区间Sg中的槽形状。此外，优 选将标准化推挽信号振幅变动抑制到某种程度，因此希望将与阶段性变 化的槽形状的1个台阶相当的轨道长度Su缩短到某种程度。
为了缩短Su，Su是曝光时的线速度LV和Tu的乘积，因此为了减 小Su，只要减小LV或Tu即可。
但是，如果减小LV，则产生曝光所需要的时间变长的问题。如果曝 光需要的时间变长，则生产量降低，不仅如此，还产生难以确保长时间 的母盘曝光装置的稳定性的问题。
为了减小Su，减小Tu的方法更适合，为了确保现实的LV，期望将 Tu至少设为100msec以下。在Tu过长的情况下，以现实速度的曝光线 速度进行曝光时，槽形状变迁区间Sg内的槽形状变化成为非常粗略的状 态，有时会不能彻底抑制标准化推挽信号振幅的急剧变化。
[实施例]
以下，使用实施例更详细地对本发明进行说明，但是本发明在不超 出其主旨的范围内不通过以下的实施例进行限定和解释。
在以下的各实施例和各比较例中，作为信息记录介质，制作改变了 槽形状变迁区间Sg和轨道间距变迁区间Stp的形成条件的蓝光光盘，通 过由信息再现装置对所获得的信息记录介质进行再现来进行评价。
[压模的制造]
为了制造具有所期望的槽形状变迁区间Sg和轨道间距变迁区间Stp 的、各实施例和各比较例的信息记录介质，首先制造具有凹凸图案的压 模(父版)，其中，该凹凸图案与作为目的的槽形状变迁区间Sg和轨道 间距变迁区间Stp相当。
压模的制造通过上述的[II-1.压模的制造]一栏所说明的方法进行。 具体来说，将厚度6mm的玻璃板作为母盘用基板501，在其上涂布光致 抗蚀剂502使厚度成为60nm，使用以上这样的母盘503，根据下述的条 件进行曝光后，进行显像，获得凹凸母盘503’。在该凹凸母盘503’上， 使用溅射法成膜为使镍的厚度为20nm(导电层505)，进一步通过电镀法 层叠镍，由此形成了厚度为290μm的父版层506。剥离该父版层506， 成为父版压模506。
此外，通过以下的条件进行母盘的曝光。
在记录型蓝光光盘中，PIC区域与光盘的内周侧相当，用户数据区 域与光盘的外周侧相当。轨道是从PIC区域向用户数据区域前进的方向， 母盘曝光也在从PIC区域向用户数据区域前进的方向上进行。
此外，在任一实施例和比较例中，也将第一记录区域R1设为PIC 区域，将第二记录区域R2设为用户数据区域，将第一记录区域R1中的轨 道间距tp1设为0.35μm，将第二记录区域R2的轨道间距tp2设为0.32μm。
调节了PIC区域和用户数据区域的槽形状，以使标准化推挽信号振 幅NPP满足下述的管理范围。作为具体的数值，将PIC区域的槽深设为 30nm，将槽宽设为0.10μm，将用户数据区域的槽深设为60nm，将槽宽 设为0.19μm。
母盘曝光时的曝光光强度的调节仅实施例3使用上述的第2方式的 母盘曝光装置(具有记录光强度调节机构和重复动作机构的母盘曝光装 置)进行。关于除此以外的实施例和比较例，使用上述的第1方式的母 盘曝光装置(具有记录光强度扫描机构的母盘曝光装置)进行制造。
[信息记录介质的制造]
各实施例和各比较例的信息记录介质使用上述的压模制作基板，通 过在该基板上依次层叠形成反射层、记录层、界面层及覆盖层而进行制造。
具体地说，首先，作为基板的材料使用聚碳酸酯，以上述的压模作 为模子进行射出成形，从而形成仿形了压模的凹凸图案的基板。此外， 基板的厚度设为1.1mm。
接下来，在该基板上，通过溅射法将由AgNdCu合金构成的反射层 形成为70nm的厚度。
接下来，在该反射层上，使用八氟戊醇(OFP)稀释金属络合物偶氮系 色素后，使用旋涂法成膜，由此形成了记录层。旋涂法的条件如下。即，将 以1.0重量％的浓度使金属络合物偶氮系色素溶解于OFP的溶液涂布于 基板的中央附近成1.5g环状，以1200rpm的速度旋转基板7秒来延展色 素。其后，以9200rpm的速度旋转3秒来甩开色素，由此进行涂布。此 外，涂布后在100℃的环境下保持介质1小时，由此，蒸发去除溶剂即OFP。 记录层的厚度以30nm左右为目标。
接下来，在该记录层上，通过溅射法，将由ZnS:SiO2构成的界面 层形成为16nm的厚度。
接下来，在该界面层上，贴合由厚度75μm的聚碳酸酯树脂的薄板 和厚度25μm的压敏粘结剂层构成的，合计厚度为100μm的透明的覆盖层。
[评价用信息再现装置]
在各实施例和各比较例的信息记录介质的评价中，使用了图8所示 结构的信息再现装置(以下称作“评价用信息再现装置”。)。此外，图8 (a)是示出用于各实施例及各比较例的信息记录介质的评价的评价用信 息再现装置的主要部分结构的功能框图。图8(b)是示出图8(a)所示 的评价用信息再现装置具有的四分割光电二极管的结构的图。
图8(a)所示的评价用信息再现装置具有：四分割光电二极管901、 推挽信号生成电路902、和信号生成电路903、标准化推挽信号生成电路 904、合成电路905、主轴电动机(图示省略)、半导体激光器等光源(图 示省略)、物镜(图示省略)以及放大电路(图示省略)等。此外，在主 轴电动机上可以安装作为评价对象的信息记录介质906。
从半导体激光器等出射的激光由物镜会聚到固定在主轴电动机上的 信息记录介质906上。在信息记录介质906上被反射的激光被导向四分 割光电二极管901。如图8(b)所示，四分割光电二极管901由分割成 四个的探测器构成，从各个探测器输出与向各探测器入射的激光的强度 对应的电信号。
通过各个探测器输出的电信号根据需要通过放大电路(未图示)等 之后，被导向推挽信号生成电路902及和信号生成电路903。推挽信号生 成电路902计算(A+B)-(C+D)生成推挽信号PP。此外，和信号生成电 路903计算(A+B)+(C+D)生成和信号SUM。并且，标准化推挽信号生 成电路904基于推挽信号PP及和信号SUM计算PP/SUM，生成标准化 推挽信号。此后，根据标准化推挽信号，伺服单元(未图示)执行循轨 控制。
此处，A是相对于轨道方向的右前方的光电二极管，B是相对于轨 道方向的右后方的光电二极管，C是相对于轨道方向的左前方的光电二 极管，D是相对于轨道方向的右后方的光电二极管。
[信息记录介质的评价步骤]
各实施例及各比较例的信息记录介质的评价使用上述的评价用信息 再现装置900通过以下的步骤进行。
在未进行循轨伺服的状态下使用示波器测定PIC区域和用户数据区 域的边界附近的未记录状态下的推挽信号PP及和信号SUM，计算NPP。 接下来，调查PIC区域和用户数据区域的边界附近处的NPP的变动情况， 由此评价NPP的特性。
此外，关于下述的实施例1～3和比较例1、2，图9～图14示出了 通过上述的步骤所测定的由示波器示出的标准化推挽信号振幅NPP及和 信号SUM的波形。这些波形都示出了信息记录介质的轨道的约二分之一 周的波形。即，这些图的横轴都相当于轨道的约二分之一周。
此外，在任意一个实施例和比较例中，都将PIC区域中的NPP的管 理范围设为0.26～0.52。如果PIC区域中的NPP在该范围内，则在PIC 区域中能够实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态。
此外，在任意一个实施例和比较例中，作为用户数据区域中的未记 录状态下的NPP以0.6左右为目标，将用户数据区域中的未记录状态下 的NPP的上限设定为0.8。此外，将用户数据区域中的未记录状态下的 NPP的下限设定为0.21。如果用户数据区域中的未记录状态下的NPP在 该范围内，则在用户数据区域能够实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态。
此外，在任意一个实施例和比较例中，记录区域变迁区间Sx中的未 记录状态下的NPP的管理范围与上述PIC区域和用户数据区域的管理范 围中范围更宽的用户数据区域是相同的范围。即，将记录区域变迁区间 Sx中的未记录状态下的NPP的管理范围设为0.21～0.8。
此外，上述NPP的管理范围是受伺服系统的性能影响的流动的数值， 由所使用的伺服系统适当确定。
将此次设定的值设为被认为是在比通常的伺服装置的性能稍低的装 置中也能够实现稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态的范围。
即，可以考虑为：如果能够提供信息记录介质整面中的NPP在上述 的范围内的信息记录介质，则在各种记录再现装置中都能够实现稳定的 聚焦伺服和循轨伺服状态。
此外，以下的实施例和比较例中的NPP是指所有未记录状态下的 NPP。
[实施例1]
在母盘曝光时，将沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的长度Ltp设为 3.2m，将沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg设为4.5m。轨道间距变 迁区间Stp的开始点比槽形状变迁区间Sg的开始点在时间上要早，将沿 Stp和Sg的重合部分的轨道的长度LL设为2.9m。此处，Lg/Ltp的值是 1.41，LL/Ltp的值是0.91。
在以上的条件下制作出信息记录介质。将其作为实施例1的信息记 录介质。
关于实施例1的信息记录介质，通过上述的步骤进行评价。图9示 出作为其结果而获得的，PIC区域和用户数据区域的边界附近的标准化推 挽信号振幅NPP及和信号SUM的情况。
在实施例1的信息记录介质中，PIC区域中的NPP是0.3，用户数据 区域中的NPP是0.63。
此外，在PIC区域和用户数据区域的边界附近，NPP平滑地变化，即 使在记录区域变迁区间Sx中也没有超出NPP的管理范围的下限及上限。
此外，记录区域变迁区间Sx内的NPP始终比PIC区域的NPP大， 始终比用户数据区域的NPP小。
通过以上的结果可知，在本实施例中可以获得能够实现充分稳定的 聚焦伺服和循轨伺服状态的信息记录介质。
[实施例2]
在母盘曝光时，将沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的长度Ltp设为 3.2m，将沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg设为2.5m。将轨道间距 变迁区间Stp的开始点和槽形状变迁区间Sg的开始点设为大致同一处， 将沿Stp和Sg的重合部分的轨道的长度LL设为2.5m。此处，Lg/Ltp的 值是0.78，LL/Ltp的值是0.78。
在以上的条件下制作出信息记录介质。将其作为实施例2的信息记 录介质。
关于实施例2的信息记录介质，通过上述的步骤进行评价。图10示 出作为其结果而获得的，PIC区域和用户数据区域的边界附近的标准化推 挽信号振幅NPP及和信号SUM的情况。
在实施例2的信息记录介质中，PIC区域中的NPP是0.39，用户数 据区域中的NPP是0.63。
此处，记录区域变迁区间Sx中的NPP在一部分区域中稍稍增大， 但是增大部分中的NPP的最大值是0.77，没有超过规定的NPP的管理范 围的上限。
通过以上的结果可知，在本实施例中可以获得能够实现稳定的聚焦 伺服和循轨伺服状态的信息记录介质。
[实施例3]
在母盘曝光时，将沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的长度Ltp设为 1.6m，将沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg设为3.9m。轨道间距变 迁区间Stp的开始点比槽形状变迁区间Sg的开始点在时间上要早，将沿 Stp和Sg的重合部分的轨道的长度LL设为0.4m。此处，Lg/Ltp的值是 2.44，LL/Ltp的值是0.25。
此外，在母盘曝光时，使用上述的第2方式的母盘曝光装置((具有 记录光强度调节机构和重复动作机构的母盘曝光装置)，在PIC区域和用 户数据区域的变迁部中不进行曝光光强度的扫描，在记录区域变迁区间Sx 中，每90msec重复进行通过记录光强度调节机构调节记录光强度的动作。
在以上的条件下制作出信息记录介质。将其作为实施例3的信息记 录介质。
关于实施例3的信息记录介质，通过上述的步骤进行评价。图11示 出作为其结果而获得的，PIC区域和用户数据区域的边界附近的标准化推 挽信号振幅NPP及和信号SUM的情况。
在实施例3的信息记录介质中，PIC区域中的NPP是0.34，用户数 据区域中的NPP是0.66。
此外，在PIC区域和用户数据区域的边界附近，存在一部分NPP较 小之处，该处的NPP是0.26，没有低于规定的NPP的管理范围的下限值。
即，在该结构的信息记录介质中，上述母盘曝光装置的重复动作在 100msec以下，因此在记录区域变迁区间Sx中没有看到NPP急剧变化的 情形。此外，不存在NPP极端大之处或极端小之处，没有超出规定的NPP 的管理范围的下限和上限。
通过以上的结果可知，在本实施例中。通过聚焦伺服电路和循轨伺 服电路的微调可以获得能够实现充分稳定的聚焦伺服和循轨伺服状态的 信息记录介质。
[实施例4～7]
Ltp、Lg、LL的各个值除了设为以下的表1示出的值以外，还通过 与实施例1同样的步骤来制作出信息记录介质。将这些设为实施例4～7 的信息记录介质。
关于实施例4～7，与实施例1～3同样地测定NPP，任意一个NPP 的值都收敛于规定范围的数值内，可以提供能够实现稳定的聚焦伺服和 循轨伺服状态的信息记录介质。
[比较例1]
在母盘曝光时，将沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的长度Ltp设为 3.2m，将沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg设为0.5m。轨道间距变 迁区间Stp的终点与槽形状变迁区间Sg的开始点设为大致同一处，将沿 Stp和Sg的重合部分的轨道的长度LL设为0m(即，没有Stp和Sg的重 合部分的状态)。此处，Lg/Ltp的值是0.16，LL/Ltp的值是0。
在以上的条件下制作出信息记录介质。将其作为比较例1的信息记 录介质。
在比较例1的信息记录介质中，图12示出PIC区域和用户数据区域 的边界附近的标准化推挽信号振幅NPP及和信号SUM的情况。
在比较例1的信息记录介质中，PIC区域中的NPP是0.41，用户数 据区域中的NPP是0.67。
此外，记录区域变迁区间Sx中的NPP的最大值是0.9，最小值是0.07。
即，NPP在一部分区域中高于管理范围的上限，并在其他区域中低 于下限。NPP超过管理范围到这个程度时，则难以稳定地执行循轨伺服。
此外，NPP的变化比较急剧，呈不连续地变化。这样的信息记录介 质在该处有可能对循轨伺服产生障碍。
[比较例2]
在母盘曝光时，将沿轨道间距变迁区间Stp的轨道的长度Ltp设为 3.2m，将沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg设为0m，即，设为以 Stp的开始点作为分界没有过渡地一下子变更槽形状，完全没有设置槽形 状变迁区间Sg的状态。
在以上的条件下制作出信息记录介质。将其作为比较例2的信息记 录介质。
图13示出在比较例2的信息记录介质中PIC区域和用户数据区域的 边界附近的标准化推挽信号振幅NPP及和信号SUM的情况。
在比较例2的信息记录介质中，PIC区域中的NPP是0.3，用户数据 区域中的NPP是0.61。
此外，记录区域变迁区间Sx中的NPP的最大值是1.2，最小值是0.2。
即，存在NPP超过管理范围上限之处和低于下限之处。NPP超过管 理范围到这个程度时，则难以稳定地执行循轨伺服。
此外，NPP的变化比较急剧，呈不连续地变化。这样的信息记录介 质在该处有可能对循轨伺服产生障碍。
[评价]
以下的表1中示出，在各实施例和各比较例中，沿轨道间距变迁区 间Stp的轨道的长度Ltp、沿槽形状变迁区间Sg的轨道的长度Lg、沿轨 道间距变迁区间Stp和槽形状变迁区间Sg的重合部分的轨道的长度LL、 Lg/Ltp和LL/Ltp的各数值。
[表1]
  Ltp(m) Lg(m) LL(m) Lg/Ltp LL/Ltp 实施例1 3.2 4.5 2.9 1.41 0.91 实施例2 3.2 2.5 2.5 0.78 0.78 实施例3 1.6 3.9 0.4 2.44 0.25 实施例4 3.2 4.5 3.2 1.41 1.00 实施例5 3.2 4.5 2.4 1.41 0.75 实施例6 32 3.5 2.3 1.09 0.72 实施例7 3.2 2.5 1.3 0.78 0.41 比较例1 3.2 0.5 0.0 0.16 0.00 比较例2 3.2 0.0 0.0 0.00 0.00
图14是绘出关于实施例1～7及比较例1、2的信息记录介质而得到 的Lg/Ltp和LL/Ltp之间的关系的图。图中的粗线框示出本发明中的合适 的Lg/Ltp和LL/Ltp的值的范围(0.2≦Lg/Ltp≦2.5、0.1≦LL/Ltp≦1.0)。
根据以上的结果可知，在本发明中，从实现稳定的聚焦伺服和循轨 伺服状态出发，优选设定在Lg/Ltp和LL/Ltp的上述合适的范围内。
产业上的可利用性
本发明的信息记录介质和母盘曝光装置适合用于例如蓝光光盘等信 息记录介质的领域中。
此外，在此引用了2006年11月30日提出申请的日本专利申请 2006-324452号和2007年3月20日提出申请的日本专利申请2007-073272 号说明书、权利要求书、附图和摘要的全部内容，作为本发明的说明书 的公开引入。