技术领域
[0001] 本
发明涉及于天然
水晶石加工技术领域，尤其涉及一种天然高纯石英砂的生产方法。
背景技术
[0002] 高纯石英砂所具有的独特的物理、化学特性，使得其在航空、航天、
电子、机械以及当今飞速发展的IT产业中占有举足轻重的地位，特别是其内在分子链结构、晶体形状和晶格变化规律，使其具有的耐高温、
热膨胀系数小、高度绝缘、耐
腐蚀、
压电效应、谐振效应以及其独特的光学特性，在许多高科技产品中发挥着越来越重要的作用。高纯石英砂是
硅系列深加工产品，它是制取
多晶硅，
硅酸钾的主要原料，而目前高纯石英砂生产流程为一、选矿：将
矿石整理分选；二、洗矿：清洗以肉眼观察无明显杂质为准；三、
煅烧：将炉温设置860摄氏度，出料时以
块石发红为准；四、水淬：用
冷却水急冷，达到结构疏松；五、
粉碎：经颚式
破碎机粉碎，然后经
辊磨机粉碎；六、筛选：进行目数分类；七、清洗：经多次高纯水清；八、沥水：通过离心机进行脱水；九、干燥：进入烘箱干燥；十、
磁选：进入
磁选机进行
铁杂质去除；十一、再次挑选；进入浮选机进行再次挑选；十二、入库经人工检测后，进行
包装入库，但是目前的工艺流程中没有酸浸，从而石英矿中的铁杂质，难以去除，从而导致高纯石英砂的品质下降，不能够满足当今社会发展的需求。
[0003] 综上所述，本发明提出一种天然高纯石英砂的生产方法来改善目前存在的问题。
发明内容
[0004] 本发明的目的在于提供一种天然高纯石英砂的生产方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
[0005] 为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
[0006] 一种天然高纯石英砂的生产方法，包括以下步骤：
[0007] S1，选取原矿1-3级的优质天然硅石为材料，并将优质天然硅石送入水洗机，用高压水反复冲洗，并用肉眼进行观察，清洗以肉眼观察优质天然硅石表面无明显杂质为准；
[0008] S2，将冲洗后优质天然硅石送入860摄氏度煅烧炉进行煅烧，煅烧出料时以块石发红为准，此后水淬，用冷却水急冷；
[0009] S3，通过一级
破碎机粉碎进行粉碎为0.3-0.1mm的颗粒，并通过一级
振动筛选机进行筛选，筛选后经过二级破碎机粉碎进行粉碎为0.1-0.01mm的颗粒，并且二级振动筛选机进行筛选，经过二级振动筛选机筛选后通过粉碎辊进行粉碎为为0.01-0.005mm的颗粒并且通过三级振动筛选机筛选；
[0010] S4，经过三级振动筛选机筛选后的颗粒送入磁选机，磁选；
[0011] S5，磁选过后将天然硅石投入HCL和HF的稀
盐酸混合液酸缸中浸泡并且进行适度均匀搅拌，将酸缸中的HCL和HF稀盐酸混合液抽走，并将浸泡后的天然硅石放入洗砂机进行清洗；
[0012] S6，洗净的石英砂用
输送机送入
烘干机烘干，烘干，然后将烘干后的石英砂第二次送入磁选机，第二次磁选机后送入浮选机进行挑选，制得天然高纯石英砂；
[0013] S7，对天然高纯石英砂取样并通过ICP检测，检测合格后进行称量包装。
[0014] 优选的，所述S3，一级破碎机粉碎、二级破碎机粉碎均为
颚式破碎机。
[0015] 优选的，所述S4，经过三级振动筛选机筛选后的颗粒送入磁选机，磁选时间为1-2小时。
[0016] 优选的，所述S5，磁选过后将天然硅石投入HCL和HF的浓度为9％-11％稀盐酸混合液酸缸中浸泡48小时，洗砂机进行清洗1-2小时。
[0017] 优选的，所述S6，洗净的石英砂用输送机送入烘干机烘干，烘干
温度为 80℃-110℃，烘干时间为3-4小时，然后将烘干后的石英砂第二次送入磁选机，磁选1-2小时。
[0018] 优选的，所述S6，浮选机进行挑选为正反浮选。
[0019] 与
现有技术相比，本发明的有益效果是：
[0020] 本发明中，通过在原有的工艺流程中加入酸浸的工艺步骤，设计将多级粉碎后和多级筛选后天然硅石的投入HCL和HF的浓度为稀盐酸混合液酸缸中浸泡，能生产出优质高品质的天然高纯石英砂，从而满足了当今社会发展的需求。
具体实施方式
[0021] 下面将结合本发明
实施例中，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0022] 本发明提供一种技术方案：
[0023] 一种天然高纯石英砂的生产方法，包括以下步骤：
[0024] S1，选取原矿1-3级的优质天然硅石为材料，并将优质天然硅石送入水洗机，用高压水反复冲洗，并用肉眼进行观察，清洗以肉眼观察优质天然硅石表面无明显杂质为准；
[0025] S2，将冲洗后优质天然硅石送入860摄氏度煅烧炉进行煅烧，煅烧出料时以块石发红为准，此后水淬，用冷却水急冷；
[0026] S3，通过一级破碎机粉碎进行粉碎为0.3-0.1mm的颗粒，并通过一级振动筛选机进行筛选，筛选后经过二级破碎机粉碎进行粉碎为0.1-0.01mm的颗粒，并且二级振动筛选机进行筛选，经过二级振动筛选机筛选后通过粉碎辊进行粉碎为为0.01-0.005mm的颗粒并且通过三级振动筛选机筛选；
[0027] S4，经过三级振动筛选机筛选后的颗粒送入磁选机，磁选；
[0028] S5，磁选过后将天然硅石投入HCL和HF的稀盐酸混合液酸缸中浸泡并且进行适度均匀搅拌，将酸缸中的HCL和HF稀盐酸混合液抽走，并将浸泡后的天然硅石放入洗砂机进行清洗；
[0029] S6，洗净的石英砂用输送机送入烘干机烘干，烘干，然后将烘干后的石英砂第二次送入磁选机，第二次磁选机后送入浮选机进行挑选，制得天然高纯石英砂；
[0030] S7，对天然高纯石英砂取样并通过ICP检测，检测合格后进行称量包装。
[0031] 实施例1：选取原矿1-3级的优质天然硅石为材料，并将优质天然硅石送入水洗机，用高压水反复冲洗，并用肉眼进行观察，清洗以肉眼观察优质天然硅石表面无明显杂质为准；将冲洗后优质天然硅石送入860摄氏度煅烧炉进行煅烧，煅烧出料时以块石发红为准，此后水淬，用冷却水急冷；通过一级破碎机粉碎进行粉碎为0.3-0.1mm的颗粒，并通过一级振动筛选机进行筛选，筛选后经过二级破碎机粉碎进行粉碎为0.1-0.01mm的颗粒，并且二级振动筛选机进行筛选，经过二级振动筛选机筛选后通过粉碎辊进行粉碎为为 0.01-0.005mm的颗粒并且通过三级振动筛选机筛选；经过三级振动筛选机筛选后的颗粒送入磁选机，磁选时间为1-2小时；磁选过后将天然硅石投入HCL 和HF的浓度为9％稀盐酸混合液酸缸中浸泡48小时，将酸缸中的HCL和HF稀盐酸混合液抽走，并将浸泡后的天然硅石放入洗砂机进行清洗1-2小时；洗净的石英砂用输送机送入烘干机烘干，烘干温度为80℃-110℃，烘干时间为3-4小时，然后将烘干后的石英砂第二次送入磁选机，磁选1-2小时。第二次磁选机后送入浮选机进行挑选，制得天然高纯石英砂；对天然高纯石英砂取样并通过ICP检测，检测合格后进行称量包装。
[0032] 实施例2：选取原矿1-3级的优质天然硅石为材料，并将优质天然硅石送入水洗机，用高压水反复冲洗，并用肉眼进行观察，清洗以肉眼观察优质天然硅石表面无明显杂质为准；将冲洗后优质天然硅石送入860摄氏度煅烧炉进行煅烧，煅烧出料时以块石发红为准，此后水淬，用冷却水急冷；通过一级破碎机粉碎进行粉碎为0.3-0.1mm的颗粒，并通过一级振动筛选机进行筛选，筛选后经过二级破碎机粉碎进行粉碎为0.1-0.01mm的颗粒，并且二级振动筛选机进行筛选，经过二级振动筛选机筛选后通过粉碎辊进行粉碎为为 0.01-0.005mm的颗粒并且通过三级振动筛选机筛选；经过三级振动筛选机筛选后的颗粒送入磁选机，磁选时间为1-2小时；磁选过后将天然硅石投入HCL 和HF的浓度为10％稀盐酸混合液酸缸中浸泡48小时，将酸缸中的HCL和HF 稀盐酸混合液抽走，并将浸泡后的天然硅石放入洗砂机进行清洗1-2小时；洗净的石英砂用输送机送入烘干机烘干，烘干温度为80℃-110℃，烘干时间为3-4小时，然后将烘干后的石英砂第二次送入磁选机，磁选1-2小时。第二次磁选机后送入浮选机进行挑选，制得天然高纯石英砂；对天然高纯石英砂取样并通过ICP检测，检测合格后进行称量包装。
[0033] 实施例3：选取原矿1-3级的优质天然硅石为材料，并将优质天然硅石送入水洗机，用高压水反复冲洗，并用肉眼进行观察，清洗以肉眼观察优质天然硅石表面无明显杂质为准；将冲洗后优质天然硅石送入860摄氏度煅烧炉进行煅烧，煅烧出料时以块石发红为准，此后水淬，用冷却水急冷；通过一级破碎机粉碎进行粉碎为0.3-0.1mm的颗粒，并通过一级振动筛选机进行筛选，筛选后经过二级破碎机粉碎进行粉碎为0.1-0.01mm的颗粒，并且二级振动筛选机进行筛选，经过二级振动筛选机筛选后通过粉碎辊进行粉碎为为 0.01-0.005mm的颗粒并且通过三级振动筛选机筛选；经过三级振动筛选机筛选后的颗粒送入磁选机，磁选时间为1-2小时；磁选过后将天然硅石投入HCL 和HF的浓度为11％稀盐酸混合液酸缸中浸泡48小时，将酸缸中的HCL和HF 稀盐酸混合液抽走，并将浸泡后的天然硅石放入洗砂机进行清洗1-2小时；洗净的石英砂用输送机送入烘干机烘干，烘干温度为80℃-110℃，烘干时间为3-4小时，然后将烘干后的石英砂第二次送入磁选机，磁选1-2小时。第二次磁选机后送入浮选机进行挑选，制得天然高纯石英砂；对天然高纯石英砂取样并通过ICP检测，检测合格后进行称量包装。
[0034] 经过ICP检测得出实施例3中磁选过后将天然硅石投入HCL和HF的浓度为11％稀盐酸混合液酸缸中浸泡48小时的酸浸后，能生产出优质的天然高纯石英砂。
[0035] 以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉
本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
