专利汇可以提供套管水道式水冷坩埚及真空电子束熔炼装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 套管 水 道式水冷 坩埚 ,包括,坩埚,其顶部形成有物料池,在底部分布有多个水孔,底座,其固定设置在坩埚底部并将所述的水孔的下端口密封,其包括,与通孔地一一对应固定设置在底座板上且可匹配插入所述的水孔中并与水孔保持间隔的导水管,以及设置在所述的底座板底部的连通管,用以连通两组水孔间对应的导水管,其中剩余两个导水管分别与进水管和出水管连接。本发明抛弃了 真空 钎焊结构,在坩埚体内无 焊缝 ,避免了漏水的安全隐患,提高了设备的可靠性,降低了加工成本,通过打水孔和内嵌导水管的方式形成 循环水 道,可以保证加工 精度 ,可通过调整孔径和水孔 位置 灵活调整水道冷却面积,使得冷却面积增大,满足不同热负荷的要求。,下面是套管水道式水冷坩埚及真空电子束熔炼装置专利的具体信息内容。
1.一种套管水道式水冷坩埚,其特征在于,包括,
坩埚,其顶部形成有物料池,在底部分布有n个水孔,所述的水孔两两为一组且由水槽连通,其中,n为偶数;
底座,其固定设置在坩埚底部并将所述的水孔的下端口密封,其包括其上形成有n个通孔的底座板,与通孔地一一对应固定设置在底座板上且可匹配插入所述的水孔中并与水孔保持间隔的导水管,以及设置在所述的底座板底部的连通管,所述的连通管为n/2-1个,用以连通两组水孔间对应的导水管,其中剩余两个导水管分别与进水管和出水管连接;
所述的水槽互不直接连通,所述的连通管互不直接连通,所述的水孔、水槽、导水管及连通管构成整体单向通道。
2.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的连通管与对应的导通的两根所述的导水管一体形成。
3.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的底座的下表面形成有将所述的连通管嵌含其中的定位槽。
4.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的水孔沿坩埚的轴向平行设置。
5.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的水孔包括设置在物料池底部的短水孔和分别设置在物料池周侧的长水孔,所述的水孔与物料池的壁厚在5-
10mm。
6.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的导水管内的水流截面积和导水管和水孔间的水流截面积相同。
7.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的导水管的内径为10-
16mm,所述的导水管外壁与水孔间距在3-5mm。
8.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,还包括测温机构,在坩埚的物料池底部和/或物料池周侧设置有轴向延伸的测量孔,在底座上对应设置穿孔,所述的测温机构匹配地穿过所述的穿孔插入所述的测量孔。
9.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的坩埚为铜材质,所述的底座为不锈钢材质,在坩埚和底座间设置有密封板。
10.如权利要求1所述的套管水道式水冷坩埚,其特征在于,所述的水槽形成在坩埚的下表面或底座的上表面并由底座或坩埚将水槽槽口封闭以构成水流通道。
11.一种真空电子束熔炼装置,其特征在于,包括真空室,以及如权利要求1-10任一项所述的套管水道式水冷坩埚。
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