一种部分氧化工艺烧嘴及其应用
专利汇可以提供一种部分氧化工艺烧嘴及其应用专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公布了一种部分 氧 化工艺烧嘴及其应用，所述烧嘴主要由内到外依次设置的 气化 剂通道、辅助气化剂通道、 燃料 通道和保护燃料通道组成。本发明提出的部分氧化工艺烧嘴应用于气态 烃 转化炉中，可以保护 喷嘴 端面不受高温 合成气 的冲刷烧蚀，使得烧嘴形成的火焰 温度 低且分布均匀，高温火焰远离烧嘴端面，从而使喷嘴端面的温度显著降低，无需烧嘴 冷却 水 即可对烧嘴起到保护作用，同时烧嘴 法兰 温度低。本发明提供的烧嘴具有结构简单、寿命长、适用范围广等优点，具有十分广阔的应用前景。，下面是一种部分氧化工艺烧嘴及其应用专利的具体信息内容。
1.一种部分氧化工艺烧嘴，其特征在于，包括由内而外依次设置的气化剂通道（1）、辅助气化剂通道（2）、燃料通道（3）以及保护燃料通道（4）；
所述保护燃料通道（4）由燃料通道（3）的外壁（5）与转化炉喷嘴筒体耐火砖内壁（6）构成；
所述烧嘴用于气态烃转化炉中，保护所述喷嘴的端面不受高温合成气的冲刷烧蚀；
进入气化剂通道（1）的气化剂选自氧气、氧气与水蒸气或二氧化碳的混合物；
进入辅助气化剂通道（2）的气化剂为水蒸汽或二氧化碳；
所述气化剂通道（1）的物流速度为40～150m/s，辅助气化剂通道（2）的物流速度为40～
150m/s，燃料通道（3）的物流速度为40～150m/s。
2.根据权利要求1所述的烧嘴，其特征在于，所述燃料通道（3）的外壁（5）开设有小孔（7），小孔的数量大于等于2个。
3.根据权利要求2所述的烧嘴，其特征在于，所述小孔（7）的形状为圆形、方形、椭圆形或菱形。
4.根据权利要求2或3所述的烧嘴，其特征在于，所述小孔（7）的轴线与所述外壁（5）的夹角为0～90℃。
5.根据权利要求2或3所述的烧嘴，其特征在于，所述气化剂通道（1）的头部采用直管结构；所述辅助气化剂通道（2）的头部采用直管结构或者渐缩结构；所述燃料通道（3）的头部采用直管结构或者渐缩结构。
6.根据权利要求5所述的烧嘴，其特征在于，所述辅助气化剂通道（2）的头部采用渐缩结构时，外倾斜角α为45～90°。
7.根据权利要求5所述的烧嘴，其特征在于，所述燃料通道（3）的头部采用渐缩结构时，外倾斜角β为45～90°。
8.根据权利要求1所述的一种部分氧化工艺烧嘴的应用，其特征在于，所述烧嘴用于气态烃转化炉中，所述气态烃是指天然气、页岩气、油田气、煤层气、炼厂气、焦炉气、热解气中的一种或其混合物。
一种部分氧化工艺烧嘴及其应用
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
CH4 0.8984
C2H6 0.0622
C3H8 0.0105
CO2 0.0066
N2 0.0223
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