首页 / 专利库 / 诊断设备和程序 / 磁共振成像 / 用于关节磁共振成像的梯度线圈

用于关节磁共振成像梯度线圈

阅读:1028发布:2020-10-23

专利汇可以提供用于关节磁共振成像梯度线圈专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型提供了一种用于关节 磁共振成像 的 梯度线圈 ,由主梯度线圈层和屏蔽线圈层组成,主梯度线圈层和屏蔽线圈层均包括X、Y、Z三个方向的梯度线圈,每个方向的主线圈和屏蔽线圈都由两层 铜 皮切割而成,上、下叠放,便于 电流 回路和增加梯度值。主线圈层和梯度线圈层之间预留间隔,用于布置匀场槽和 水 冷通道。上述的梯度线圈具有长度短(不大于480mm)、梯度场强高(能达到70mT/m)、梯度线性度好(优于-2%~+2%)的优点,相对于全身成像系统的梯度线圈,能够大大提高成像的 对比度 ,特别适合于关节成像。,下面是用于关节磁共振成像梯度线圈专利的具体信息内容。

1.用于关节磁共振成像梯度线圈,由主梯度线圈层和屏蔽线圈层组成,主梯度线圈层和屏蔽线圈层均包括X、Y、Z三个方向的梯度线圈。每个方向的主线圈和屏蔽线圈都由两层皮上、下叠放而成,整个梯度线圈的构造由12层铜皮线圈组成,由上方的布线铜皮最外一圈导线流入电流,电流沿布线到线圈中心,然后从下层中心点流入,最后从下层最外一圈流出,各圈铜皮布线连接处上层和下层是相反的,保证上、下层对应位置的导线流过同方向的电流,从而产生同方向的磁场,两层铜皮线圈相对于单层而言,场强加倍。
2.按照权利要求1所述的用于关节磁共振成像的梯度线圈,其特征在于:为了方便的容纳关节,要求梯度线圈长度不大480mm。
3.按照权利要求1所述的用于关节磁共振成像的梯度线圈,其特征在于:主线圈层和屏蔽线圈层之间预留间隔,用于布置匀场槽和冷通道。

说明书全文

用于关节磁共振成像梯度线圈 

技术领域

[0001] 本发明属于磁共振成像领域,特别涉及一种用于关节磁共振成像的梯度线圈。

背景技术

[0002] 磁共振成像 (Magnetic Resonance Imaging,MRI) 系统包括磁体系统、梯度系统、射频系统和计算机成像系统,是当今医学界的一种重要的影像检测手段。其中,梯度系统的作用是在成像区域内提供线性的可快速切换的梯度磁场,为磁共振射频扫描提供空间编码信息。早期(上世纪80年代)的梯度线圈产品长度较长,切换率低,梯度线性度较低,产生的梯度也比较弱(小于20mT/m)。经过近40年的发展,梯度线圈向短腔、高梯度场、高切换率、高效率的方向发展。
[0003] 关节磁共振成像设备是针对关节组织(如腕关节、踝关节、膝关节等)的特点,专用于关节诊断的磁共振设备。相对于全身成像设备而言,成像对比度高,诊断效果好。究其原因,主要是由于关节成像设备的梯度线圈远远优于全身成像设备。相对于全身成像设备的梯度线圈,由于关节成像的梯度线圈孔径小,一般在200mm~220mm之间(全身成像梯度线圈孔径:约680~700mm),因此可以实现更高梯度场强。如全身成像设备的梯度线圈一般在20~30mT/m,而关节成像的梯度线圈可以实现60mT/m,甚至更高;梯度线圈孔径小带来的另一个优点是电感量小,从而梯度切换率高,因此适应快速扫描序列中梯度脉冲快速上升和翻转的需要。
[0004] 目前,仅有美国通用电气(GE)公司推出了关节成像的磁共振设备。本发明提出的关节成像磁共振梯度线圈具备高性能,可以用于关节成像设备。

发明内容

[0005] 本发明提出一种用于关节磁共振成像的梯度线圈,实现指标为:梯度线圈长度不大于480mm;梯度场强达到70mT/m;成像区域为160mm的球域;梯度线性度优于-2%~+2%。
[0006] 本发明采用的技术方案如下:
[0007] 用于关节磁共振成像的梯度线圈,由主梯度线圈层和屏蔽线圈层组成,主梯度线圈层和屏蔽线圈层均包括X、Y、Z三个方向的梯度线圈。其中,X线圈和Y线圈形状相同,Y线圈半径大于X线圈。安装时,Y线圈相对于X线圈绕z轴旋转90度。X线圈位于最内层,Y线圈位于中间层,Z线圈位于最外层。主线圈层的长度小于屏蔽线圈层,以便更好地屏蔽杂散磁场
[0008] 每方向的主线圈和屏蔽线圈都由两层皮切割而成,上、下叠放,各圈铜皮布线连接处上层和下层是相反的,保证上、下层对应位置导线流过同方向的电流,从而产生同方向的磁场。这样的布线方式便于电流回路和增加梯度值。
[0009] 主线圈层和屏蔽线圈层之间预留间隔,用于布置匀场槽和冷通道。
[0010] 附图说明[0004]
[0011] 图1,为用于关节磁共振成像的梯度线圈结构示意图;
[0012] 图2为用于关节磁共振成像的梯度线圈结构示意图
[0013] 图3为 X或Y线圈主线圈布线图;
[0014] 图4为 X或Y线圈屏蔽线圈布线图;
[0015] 图5为 X或Y线圈三维视图;
[0016] 图6为X/Y线圈双层铜皮布线示意图;
[0017] 图7为在Y=0的平面内,x∈(-0.08m,+0.08m),z∈(-0.08m,+0.08m)的区域内,X线圈产生磁场分布图;
[0018] 图8为 Z线圈主线圈布线图;
[0019] 图9为Z线圈屏蔽线圈布线图;
[0020] 图10为 Z线圈三维视图;
[0021] 图11为 在Y=0的平面内,x∈(-0.08m,+0.08m),z∈(-0.08m,+0.08m)的区域内,Z线圈产生磁场分布图。
[0022] 具体实施方式[0005]
[0023] 以下结合附图及具体实施方式进一步说明本发明。
[0024] 图1是用于关节磁共振成像的梯度线圈结构示意图。外层为屏蔽线圈层,本发明的一个实施例长度为480mm,从外到内为 Z、Y和X线圈屏蔽层,直径分别为Zs 、Ys和Xs。内层为主线圈层,本发明的一个实施例长度为440mm,按照直径径由大到小顺序分别为 Zm、Ym和Xm。主线圈层和屏蔽线圈层之间为匀场槽和水冷通道,间隔大于15mm。成像区域为半径为80mm的球域。
[0025] 下面列出了实施例中线圈布线位置:
[0026] X线圈:主层 Xm=206mm;        屏蔽层 Xs=256mm;
[0027] Y线圈:主层 Ym=212mm;        屏蔽层 Ys=262mm;
[0028] Z线圈:主层 Zm=218mm;        屏蔽层 Zs=268mm;
[0029] 图3为X或Y线圈主线圈布线图,图4为X或Y线圈屏蔽线圈布线图。坐标定义为:纵坐标为轴向坐标Z,以米(m)为单位,横坐标为圆周面上的度Theta,以弧度(rad)为单位,下面的图4、图5坐标定义与此相同。图3中,左上、右下线圈通正电流;右上、左下线圈通负电流。图4中,左上、右下线圈通负电流;右上、左下线圈通正电流。图5为X或Y线圈的三维视图,外层为屏蔽线圈,内层为主线圈。Y线圈的布线形状与X线圈相同,但柱面半径略大于X线圈,安装时与X线圈沿Z轴方向旋转90度。
[0030] 图6为X/Y线圈双层铜皮布线示意图。X/Y主线圈和屏蔽线圈均包括四个绕组,示意图仅取一个线圈绕组进行说明。从上方的布线铜皮最外一圈导线流入电流,电流沿布线到线圈中心,然后从中心A点流出,到下层中心B点流入,最后从下层最外一圈流出。各圈铜皮布线连接处上层和下层是相反的,保证上、下层对应位置的导线流过同方向的电流,产生同方向的磁场,两层的布置进而可以使场强加倍。
[0031] 图7为在Y=0的平面内,x∈(-0.08m,+0.08m),z∈(-0.08m,+0.08m)的区域内,X线圈产生磁场分布图。在本发明实施例的计算中发现,对于160mm的球域,在Y=0平面内梯度磁场线性度最差,取区域X = -0.08m~0.08m,Z=-0.08m~0.08m,得到理论线性度:-1.84%~+1.84%。通过计算,当双层布线,工作电流为69.12A时,梯度场强达到了70.2 mT/m,梯度效率达到了1.0 mT/m/A 。
[0032] 图8为Z线圈主线圈布线图,可以看作是沿z轴分布的圆环电流。远离中心的绕线电流为正,中心区域绕线的电流为负。图9是Z线圈屏蔽线圈布线图,电流方向与主线圈相反,远离中心的绕线电流为负,中心区域绕线的电流为正。图10为Z梯度线圈三维视图,外层为屏蔽线圈,内层为主线圈。
[0033] 图11为在Y=0的平面内,x∈(-0.08m,+0.08m),z∈(-0.08m,+0.08m)的区域内,Z线圈产生磁场分布图。在本发明实施例的计算中发现,对于160mm的球域,在Y=0平面,取区域X = -0.08m~0.08m,Z=-0.08m~0.08m,得到理论线性度:-1.60%~+1.60%。通过计算,当双层布线,工作电流为50.04A时,梯度场强达到了70.4 mT/m,梯度效率达到了1.4 mT/m/A 。
相关专利内容
标题 发布/更新时间 阅读量
磁共振成像方法 2020-05-11 869
磁共振成像设备 2020-05-12 103
磁共振成像装置 2020-05-12 668
磁共振成像装置 2020-05-12 497
磁共振成像装置 2020-05-13 354
磁共振成像装置 2020-05-13 511
磁共振成像装置 2020-05-12 290
磁共振成像方法 2020-05-12 335
磁共振成像方法 2020-05-13 844
磁共振成像 2020-05-11 731
高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈