专利汇可以提供用于机头的RF电极组件专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种RF装置,具有一个 支撑 结构。一个RF 电极 ,与所述支撑结构相耦合,包括导电的和 电介质 部分。一个冷却元件,与所述支撑结构相耦合,其被配置为冷却RF电极的背表面。所述冷却元件离所述RF电极的背表面一定距离。,下面是用于机头的RF电极组件专利的具体信息内容。
1.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,该电极包括导电和电介质部分; 以及
一个与支撑结构相连的冷却元件,它被设置来冷却RF电极的背 表面,其中所述的冷却元件离开RF电极的背表面一段距离。
2.根据权利要求1所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个阀门。
3.根据权利要求1所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个喷嘴。
4.根据权利要求1所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极输送总量可控的冷却液介质。
5.根据权利要求1所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极背面输送一种冷却液介质,用以蒸发性地冷却RF电 极并传导式地冷却与RF电极的皮肤界面表面相接触的皮肤表面。
6.根据权利要求1所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
7.根据权利要求1所述的RF装置,还包括:
一个位于靠近支撑结构位置的背板。
8.根据权利要求7所述的RF装置,还包括:
多个与背板相连的电接触垫片。
9.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它包括导电和电介质部分,以 及一个弯曲电路;
一个与支撑结构相连的冷却元件,它被设置来冷却RF电极的背 表面。
10.根据权利要求9所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个阀门。
11.根据权利要求9所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个喷嘴。
12.根据权利要求9所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极输送总量可控的冷却液介质。
13.根据权利要求9所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极背面输送一种冷却液介质,用以蒸发性地冷却RF电 极并传导式地冷却与RF电极的皮肤界面表面相接触的皮肤表面。
14.根据权利要求9所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
15.根据权利要求9所述的RF装置,还包括:
一个位于支撑结构近端部分的背板。
16.根据权利要求15所述的RF装置,还包括:
多个与背板相连的电接触垫片。
17.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它带有导电和电介质部分;以 及
形成在支撑结构主体中的第一与第二固定元件,所述的第一与第 二固定元件提供与一个机头支撑结构的接合和分离。
18.根据权利要求17所述的RF装置,其中所述的第一与第二固 定元件均为揿钮元件。
19.根据权利要求17所述的RF装置,其中所述的第一与第二固 定元件各自包括一个小孔,用于接受机头支撑结构的揿钮元件。
20.根据权利要求17所述的RF装置,其中所述的RF电极具有 一个组织界面表面和一个相对的背表面。
21.根据权利要求20所述的RF装置,还包括:
位于支撑结构远端部分上的背板,该背板包括一个一个背表面和 一个相对的前表面,该前表面对着RF电极的背表面。
22.根据权利要求20所述的RF装置,还包括:
一个冷却元件,被设置来冷却RF电极的背表面。
23.根据权利要求22所述的RF装置,其中所述的冷却元件的至 少一部分延伸通过背板。
24.根据权利要求23所述的RF装置,其中所述的冷却元件具有 一个近端部分,它被抬升到背板的背表面之上。
25.根据权利要求17所述的RF装置,其中所述的RF电极被设 置为,在RF电极至少有一部分与皮肤表面接触时被容性耦合。
26.根据权利要求17所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的弯曲电路。
27.一个RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个RF电极,包括导电和电介质部分,该RF电极被设置为在 RF电极至少有一部分与皮肤表面接触时被容性耦合;
一个位于支撑结构近端部分的背板;以及
多个与背板相连的电接触垫片。
28.根据权利要求27所述的RF装置,其中所述的支撑结构包括 第一与第二固定元件,它们提供与机头支撑结构的接合和分离。
29.根据权利要求27所述的RF装置,其中所述的RF电极带有 一个组织界面表面和一个相对的背表面。
30.根据权利要求29所述的RF装置,其中所述的背板包括一个 背表面和一个相对的前表面,该前表面对着RF电极的背表面。
31.根据权利要求30所述的RF装置,还包括:
一个冷却元件,被设置来冷却RF电极的背表面。
32.根据权利要求31所述的RF装置,其中所述的冷却元件至少 有一部分延伸通过背板。
33.根据权利要求32所述的RF装置,其中所述的冷却元件带有 一个近端部分,它被提升到背板的背表面之上。
34.根据权利要求31所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
35.根据权利要求27所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的弯曲电路。
36.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个RF电极,包括导电和电介质部分、一个组织界面表面和一 个相对的背表面;
一个位于支撑结构近端部分的背板,该背板包括一个正对着RF 电极相对的背表面的前表面,以及一个相对的背表面;以及
一个带有沟道的冷却元件,所述的沟道的远端部分延伸通过背 板,近端部分则被提升到背板的背表面之上。
37.根据权利要求36所述的RF装置,其中所述的RF电极包括 导电和电介质部分,其中所述的RF电极被设置为在RF电极的至少 一部分与皮肤表面接触时产生容性耦合。
38.根据权利要求36所述的RF装置,其中所述的支撑结构包括 第一和第二固定元件,它们提供与机头支撑结构的接合和分离。
39.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它包括导电和电介质部分,该 RF电极带有一个组织界面表面和一个相对的背表面;
一个与支撑结构相连的冷却元件;以及
与RF电极相连的至少一个第一传感器。
40.根据权利要求39所述的RF装置,还包括:
与RF电极相连的一个第二传感器。
41.根据权利要求39所述的RF装置,其中所述的至少一个第一 传感器位于组织界面表面上。
42.根据权利要求39所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的非易失性存储器。
43.根据权利要求39所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极的背表面输送冷却液介质,其中所述的冷却元件距RF 电极的背表面一定距离。
44.根据权利要求39所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
45.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,该电极包括导电和电介质部分, 以及一个组织界面表面和一个相对的背表面;
一个与支撑结构相连的冷却元件;以及
一个与支撑结构相连的非易失性存储器。
46.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它带有导电和电介质部分;以 及
一个与支撑结构相连的冷却元件,它被设置来冷却RF电极的背 表面,其中所述的冷却元件距RF电极的背表面一定距离。
47.根据权利要求46所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个阀门。
48.根据权利要求46所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个喷嘴。
49.根据权利要求46所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极输送总量可控的冷却液介质。
50.根据权利要求46所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极背面输送一种冷却液介质,用以蒸发性地冷却RF电 极并传导式地冷却与RF电极的皮肤界面表面相接触的皮肤表面。
51.根据权利要求46所述的RF装置,还包括:
一个位于支撑结构近端部分的背板。
52.根据权利要求51所述的RF装置,还包括:
多个与背板相连的电接触垫片。
53.一种RF装置,包括:
一个支撑结构,它决定了RF装置的主体;
一个带有导电和电介质部分的RF电极,该RF电极包括一个弯 曲电路;
一个与支撑结构相连的冷却元件,它被设置来冷却RF电极的背 表面。
54.根据权利要求53所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个阀门。
55.根据权利要求53所述的RF装置,其中所述的冷却元件包括 一个喷嘴。
56.根据权利要求53所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极输送总量可控的冷却液介质。
57.根据权利要求53所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极背面输送一种冷却液介质,用以蒸发性地冷却RF电 极并传导式地冷却与RF电极的皮肤界面表面接触的皮肤表面。
58.根据权利要求53所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
59.根据权利要求53所述的RF装置,还包括:
一个位于支撑结构近端部分的背板。
60.根据权利要求59所述的RF装置,还包括:
多个与背板相连的电接触垫片。
61.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它包括导电和电介质部分;以 及
形成在支撑结构主体中的第一与第二固定元件,它们提供与机头 支撑结构的接合与拆卸。
62.根据权利要求61所述的RF装置,其中所述的第一与第二固 定元件均为揿钮元件。
63.根据权利要求61所述的RF装置,其中所述的第一与第二固 定元件各包括一个小孔,用于接受机头支撑结构的揿钮元件。
64.根据权利要求61所述的RF装置,其中所述的RF电极具有 一个组织界面表面和一个相对的背表面。
65.根据权利要求64所述的RF装置,还包括:
位于支撑结构远端部分上的背板,该背板包括一个一个背表面和 一个相对的前表面,该前表面正对着RF电极的背表面。
66.根据权利要求64所述的RF装置,还包括:
一个冷却元件,被设置来冷却RF电极的背表面。
67.根据权利要求66所述的RF装置,其中所述的冷却元件的至 少一部分延伸通过背板。
68.根据权利要求67所述的RF装置,其中所述的冷却元件具有 一个近端,它被抬升到背板的背表面之上。
69.根据权利要求66所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
70.根据权利要求61所述的RF装置,其中所述的RF电极被设 置为在RF电极至少有一部分与皮肤表面接触时产生容性耦合。
71.根据权利要求61所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的弯曲电路。
72.一个RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,包括导电和电介质部分,该 RF电极被设置为在RF电极至少有一部分与皮肤表面接触时产生容性 耦合;
一个位于支撑结构近端部分的背板;以及
多个与背板相连的电接触垫片。
73.根据权利要求72所述的RF装置,其中所述的支撑结构包括 第一与第二固定元件,它们提供与机头支撑结构的接合和分离。
74.根据权利要求72所述的RF装置,其中所述的RF电极带有 一个组织界面表面和一个相对的背表面。
75.根据权利要求74所述的RF装置,其中所述的背板包括一个 背表面和一个相对的前表面,该前表面正对着RF电极的背表面。
76.根据权利要求75所述的RF装置,还包括:
一个冷却元件,被设置来冷却RF电极的背表面。
77.根据权利要求76所述的RF装置,其中所述的冷却元件至少 有一部分延伸通过背板。
78.根据权利要求77所述的RF装置,其中所述的冷却元件带有 一个近端部分,它被提升到背板的背表面之上。
79.根据权利要求76所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
80.根据权利要求72所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的弯曲电路。
81.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,包括导电和电介质部分、一个 组织界面表面和一个相对的背表面;
一个位于支撑结构近端部分的背板,该背板包括一个正对RF电 极的相对的背表面的前表面,以及一个相对的背表面;以及
一个带有沟道的冷却元件,所述的沟道的远端部分延伸通过背 板,近端部分则被提升到背板背表面之上。
82.根据权利要求81所述的RF装置,其中所述的RF电极包括 导电和电介质部分,其中所述的RF电极被设置为在RF电极的至少 一部分与皮肤表面接触时产生容性耦合。
83.根据权利要求81所述的RF装置,其中所述的支撑结构包括 第一和第二固定元件,它们提供与机头支撑结构的接合和分离。
84.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它包括导电和电介质部分,该 RF电极带有一个组织界面表面和一个相对的背表面;
一个与支撑结构相连的冷却元件;以及
至少一个与RF电极相连的第一传感器。
85.根据权利要求84所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的第二传感器。
86.根据权利要求84所述的RF装置,其中所述的至少一个第一 传感器位于背表面上。
87.根据权利要求86所述的RF装置,其中所述的至少一个第一 传感器检测背表面的温度。
88.根据权利要求85所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的非易失性存储器。
89.根据权利要求84所述的RF装置,其中所述的冷却元件被设 置来向RF电极的背表面输送冷却液介质,其中所述的冷却元件离RF 电极的背表面一定距离。
90.根据权利要求84所述的RF装置,其中所述的冷却元件是一 个热电制冷器。
91.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,该电极包括导电和电介质部分, 以及一个组织界面表面和一个相对的背表面;
一个与支撑结构相连的冷却元件;以及
一个与支撑结构相连的非易失性存储器。
92.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,该电极包括导电和电介质部分, 以及一个组织界面表面和一个相对的背表面,该电极的外边缘的几何 形状被设置来减少外边缘上容性耦合的面积。
93.根据权利要求92所述的RF装置,其中所述RF电极的内部 与皮肤表面的容性耦合的量大于外边缘。
94.根据权利要求92所述的RF装置,其中所述的几何形状被选 择来减少外边缘上的导电部分。
95.根据权利要求92所述的RF装置,其中所述的外边缘具有圆 齿状的几何形状,以减少外边缘上导电材料总量。
96.根据权利要求92所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的弯曲电路。
97.根据权利要求92所述的RF装置,还包括:
一个与支撑结构相连的背板;以及
多个与背板相连的电接触垫片。
98.根据权利要求92所述的RF装置,其中所述的支撑结构包括 第一与第二固定元件,它们提供与机头支撑结构的接合和分离。
99.根据权利要求92所述的RF装置,还包括:
至少一个与RF电极相连的第一传感器。
100.根据权利要求99所述的RF装置,其中所述的至少一个 第一传感器位于背表面上。
101.根据权利要求100所述的RF装置,其中所述的至少一个 第一传感器检测背表面的温度。
102.根据权利要求92所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的非易失性存储器。
103.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;以及
一个与支撑结构相连的RF电极,该电极包括导电和电介质部分, 以及一个组织界面表面和一个相对的背表面,其中所述RF电极至少 有一部分具有空隙,用以减少RF电极中导电材料的总量。
104.根据权利要求103所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的弯曲电路。
105.根据权利要求103所述的RF装置,还包括:
与支撑结构相连的背板;以及
多个与背板相连的电接触垫片。
106.根据权利要求103所述的RF装置,其中所述的支撑结构 包括第一和第二固定元件,它们提供与机头支撑结构的接合和分离。
107.根据权利要求103所述的RF装置,还包括:
与RF电极相连的至少一个第一传感器。
108.根据权利要求107所述的RF装置,其中所述的至少一个 第一传感器位于背表面上。
109.根据权利要求108所述的RF装置,其中所述的至少一个 第一传感器检测背表面的温度。
110.根据权利要求103所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的非易失性存储器。
111.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它包括导电和电介质部分,该 RF电极被设置来向皮下组织提供可控的组织效应,同时保留覆盖在 皮下组织上的表皮表面。
112.根据权利要求111所述的RF装置,其中所述的皮下组织 包括脂肪组织。
113.根据权利要求111所述的RF装置,其中所述的RF电极 包括肌肉组织。
114.根据权利要求111所述的RF装置,其中所述的RF电极 包括RF组织界面表面和一个相对的背表面。
115.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极;以及
一个与RF电极相连的弯曲电路。
116.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个RF电极;
一个与RF电极相连的弯曲电路;以及
多个与弯曲电路相连的电接触垫片。
117.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它带有导电和电介质部分;以 及
多个与RF电极相连的电接触垫片。
118.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;以及
一个与支撑结构相连的RF电极,它带有导电和电介质部分,RF 电极的至少一些部分具有不同的宽度。
119.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;以及
一个与支撑结构相连的RF电极,它带有导电和电介质部分,RF 电极至少有一些部分具有不同的导电性。
120.一种RF装置,包括:
一个带有导电和电介质部分的RF电极;以及
一个与RF电极相连的支撑结构,在该支撑结构与RF电极相连 处该支撑结构和RF电极一同形成一个密封。
121.根据权利要求120所述的RF装置,其中所述的密封是不 透水密封。
122.根据权利要求120所述的RF装置,其中所述的RF电极 带有一个前表面和一个相对的背表面。
123.根据权利要求122所述的RF装置,其中所述的背表面被 定位来接受冷却,而前表面则被定位来向组织表面输送能量。
124.根据权利要求122所述的RF装置,其中所述的背表面被 定位来接受流体的冷却。
125.根据权利要求123所述的RF装置,其中所述的流体是一 种气体。
126.根据权利要求123所述的RF装置,其中所述的流体是一 种液体。
127.根据权利要求123所述的RF装置,还包括:
一个与RF电极相连的传感器。
128.根据权利要求127所述的RF装置,其中所述的传感器被 设置在RF电极的背表面上。
129.根据权利要求128所述的RF装置,其中所述的传感器检 测RF电极背表面的温度。
130.根据权利要求127所述的RF装置,其中所述的传感器位 于RF电极的前表面上。
131.根据权利要求128所述的RF装置,其中所述的传感器检 测RF电极前表面的温度。
132.根据权利要求122所述的RF装置,还包括:
一个与支撑结构相连的冷却元件,它被设置来冷却RF电极的背 表面。
133.根据权利要求132所述的RF装置,其中所述的冷却元件 远离RF电极的背表面。
134.根据权利要求132所述的RF装置,其中所述的冷却元件 是一个热电制冷器。
135.一种RF装置,包括:
一个带有导电和电介质部分的RF电极;
一个与RF电极相连的支撑结构;
一个与支撑结构相连的冷却元件,它被设置来冷却RF电极的背 表面,其中所述的冷却元件远离RF电极的背表面,且在支撑结构与 RF电极相连处支撑结构与RF电极共同形成一个密封。
136.根据权利要求135所述的RF装置,其中所述的密封是不 透水的密封。
137.一种RF装置,包括:
一个带有导电和电介质部分的RF电极,所述的导电部分带有空 隙,且在RF电极被放置在皮肤表面上时,电介质部分位于导电部分 和皮肤表面之间。
138.根据权利要求137所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来减少RF电极边缘处的边缘效应。
139.根据权利要求137所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来影响RF电极所产生的电场的深度、均匀性及形状中的至少一项。
140.一种RF装置,包括:
一个带有导电和电介质部分的RF电极,以及一个弯曲电路,所 述的导电部分带有空隙,且在RF电极被放置在皮肤表面上时,电介 质部分位于导电部分和皮肤表面之间。
141.根据权利要求140所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来减少RF电极边缘处的边缘效应。
142.根据权利要求140所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来影响RF电极所产生的电场的深度、均匀性及形状中的至少一项。
143.一种RF装置,包括:
一个带有导电和电介质部分的RF电极,所述的导电部分带有空 隙,且在RF电极被放置在皮肤表面上时,电介质部分位于导电部分 和皮肤表面之间。
144.根据权利要求143所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来减少RF电极边缘处的边缘效应。
145.根据权利要求140所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来影响RF电极所产生的电场的深度、均匀性及形状中的至少一项。
146.一种RF装置,包括:
一个带有导电和电介质部分的RF电极,该RF电极被设置为在 RF电极的至少一部分与皮肤表面接触时产生容性耦合,所述的导电 部分带有空隙,且在RF电极被放置在皮肤表面上时,电介质部分位 于导电部分和皮肤表面之间。
147.根据权利要求146所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来减少RF电极边缘处的边缘效应。
148.根据权利要求146所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来影响RF电极所产生的电场的深度、均匀性及形状中的至少一项。
149.一种RF装置,包括:
一个带有导电和电介质部分的RF电极,该RF电极带有一个组 织界面表面和一个相对的背表面,所述的导电部分带有空隙,且在RF 电极被放置在皮肤表面上时,电介质部分位于导电部分和皮肤表面之 间;以及
至少一个与RF电极相连的第一传感器。
150.根据权利要求149所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来减少RF电极边缘处的边缘效应。
151.根据权利要求149所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来影响RF电极所产生的电场的深度、均匀性及形状中的至少一项。
152.一种RF装置,包括:
一个支撑结构;
一个与支撑结构相连的RF电极,它带有导电和电介质部分,所 述的导电部分带有空隙;以及
形成在支撑结构中的第一与第二固定元件,所述的第一与第二固 定元件提供与机头支撑结构的接合和分离。
153.根据权利要求152所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来减少RF电极边缘处的边缘效应。
154.根据权利要求152所述的RF装置,其中所述的空隙被设 置来影响RF电极所产生的电场的深度、均匀性及形状中的至少一项。
155.一种治疗方法,包括:
提供一个带有RF电极的RF装置,所述的电极带有导电和电介 质部分,所述的导电部分带有空隙,且在RF电极被放置在皮肤表面 上时,电介质部分位于导电部分和皮肤表面之间;
向RF电极输送电荷,其中所述的空隙影响RF电极所产生的电 场的深度、均匀性及形状中的至少一项;
放置RF装置,使得电介质部分靠近皮肤表面;以及
从RF装置透过皮肤表面输送RF能量。
156.根据权利要求155所述的方法,还包括:
冷却皮肤表面。
157.一种用以促使皮肤表面下被选定的含胶原质组织区域中 的伤疤胶原质形成的方法,包括:
提供一个带有RF电极的RF装置,所述的RF电极带有导电和 电介质部分;
透过皮肤表面产生一个反向热量梯度,其中皮肤表面的温度要低 于选定的含胶原质组织区域的温度;以及
从RF装置透过皮肤表面向选定的含胶原质组织区域输送RF能 量并持续足够长的时间,以促使选定的含胶原质组织区域内的胶原质 形成,将皮肤表面的细胞坏死降至最低,并在皮肤表面产生组织效应。
158.一种用以促使皮肤表面下被选定的含胶原质组织区域中 的伤疤胶原质形成的方法,包括:
提供一个带有RF电极的RF装置,所述的RF电极带有导电和 电介质部分;
从RF装置透过皮肤表面向选定的含胶原质组织区域输送RF能 量并持续足够长的时间,以促使选定的含胶原质组织区域内的胶原质 形成,且在皮肤表面形成不深于二度烧伤;以及
在皮肤表面产生组织效应。
159.一种用以促使皮肤表面下被选定的含胶原质组织区域中 的伤疤胶原质形成的方法,包括:
提供一个带有RF电极的RF装置,所述的RF电极带有导电和 电介质部分以及一个能量传递表面;
将能量传递表面放置在皮肤表面上;
透过皮肤表面产生一个反向热量梯度,该热量梯度足以促使选定 的含胶原质组织区域内的胶原质形成,且在皮肤表面形成不深于二度 烧伤,其中所述皮肤表面的温度低于含胶原质细胞区域的温度;并在 皮肤表面产生组织效应。
160.一种用于产生组织效应的方法,包括:
提供治疗设备,其包括提供一个含有RF电极的RF装置,所述 的RF电极带有导电和电介质部分;
透过皮肤表面产生一个反向热量梯度,其中皮肤表面的温度要低 于皮肤表面下组织的温度;以及
从治疗设备透过皮肤表面向皮肤表面下的组织输送能量并持续 足够长的时间,以产生所需的组织效应,同时将皮肤表面的细胞坏死 降至最低。
161.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是表 皮重塑。
162.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是皮 肤收紧。
163.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是去 皱。
164.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是弹 性组织变性消除。
165.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是除 疤。
166.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是毛 囊修改。
167.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是修 改皮肤表面的轮廓不规则。
168.根据权利要求160所述的方法,其中所述的组织效应是产 生伤疤或新生胶原质。
169.一种产生组织效应的方法,包括:
提供一个带有RF装置的治疗设备,RF装置带有一个RF电极, 且所述的RF电极带有导电和电介质部分;
从治疗设备透过皮肤表面向选定的含胶原质组织区域输送能量 并持续足够长的时间,以促使选定的含胶原质组织区域内的新胶原质 形成,且在皮肤表面形成不深于二度烧伤;
改变至少一部分皮肤表面。
170.根据权利要求169所述的方法,其中所述的治疗设备包括 光传送装置。
171.一种用于产生组织效应的方法,包括:
提供一个带有RF装置的治疗设备,RF装置带有一个RF电极, 且所述的RF电极带有导电和电介质部分以及一个能量传递表面;
将能量传递表面与皮肤的外表面相接;
透过皮肤表面产生一个反向热量梯度,同时加热下层的含胶原质 组织,其中所述的皮肤表面的温度要低于皮肤表面下含胶原质组织的 温度;
从治疗设备透过皮肤表面向选定的含胶原质组织区域输送能量 并持续足够长的时间,以促使选定的含胶原质组织区域内的新胶原质 形成,且在皮肤表面形成不深于二度烧伤;以及
产生所需的组织效应。
172.根据权利要求171所述的方法,其中所述的治疗设备包括 光传送装置。
173.一种用于产生组织效应的方法,包括:
提供一个带有RF装置的治疗设备,RF装置带有一个RF电极, 且所述的RF电极带有导电和电介质部分以及一个能量传递表面;
降低皮肤表面下的含胶原质组织区域的温度;
对含胶原质组织区域内的部分胶原质产生热损伤,且对皮肤表面 产生最小的细胞损害;以及
促使伤疤胶原质形成。
174.根据权利要求173所述的方法,其中所述的治疗设备包括 光传送装置。
175.一种用于产生组织效应的方法,包括:
提供一个带有RF装置的治疗设备,RF装置带有一个RF电极, 且所述的RF电极带有导电和电介质部分以及一个能量传递表面;
将RF装置与皮肤表面相接;
透过皮肤表面产生一个反向热量梯度,以充分加热下层的含胶原 质组织,其中所述的皮肤表面的温度要低于皮肤表面下含胶原质组织 的温度;
从治疗设备透过皮肤表面向皮肤表面下的组织输送能量并持续 足够长的时间,以促伤疤胶原质形成,同时将皮肤表面的细胞坏死降 低最低。
176.根据权利要求175所述的方法,其中所述的治疗设备包括 光传送装置。
177.根据权利要求42所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于支撑结构或RF电极上。
178.根据权利要求42所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于一个与RF电极相连的RF能量源上。
179.根据权利要求45所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于支撑结构或RF电极上。
180.根据权利要求45所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于一个与RF电极相连的RF能量源上。
181.根据权利要求88所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于支撑结构或RF电极上。
182.根据权利要求88所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于一个与RF电极相连的RF能量源上。
183.根据权利要求91所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于支撑结构或RF电极上。
184.根据权利要求91所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于一个与RF电极相连的RF能量源上。
185.根据权利要求102所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于支撑结构或RF电极上。
186.根据权利要求102所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于一个与RF电极相连的RF能量源上。
187.根据权利要求110所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于支撑结构或RF电极上。
188.根据权利要求110所述的RF装置,其中所述的非易失性 存储器位于一个与RF电极相连的RF能量源上。
本发明主要涉及RF装置,并尤其涉及包含导电和电介质部分且 与支撑结构相连的RF电极。
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