专利汇可以提供一种高功率半导体的衬底结构专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种高功率 半导体 的衬底结构,包括介电层和 基板 载体,所述基板载体的下方 焊接 有 支撑 板,所述基板载体的两侧外表壁对称开设有连接槽,所述连接槽的底端内表壁等距开设有滑槽,且滑槽的内表壁粘贴有抗 氧 化膜,所述介电层的上表面且位于相邻晶体安装槽之间嵌设有导电层,所述三个晶体安装槽的一侧内表壁均开设有引脚插孔,且引脚插孔的内部填充有绝缘填充膜。本实用新型中,该衬底结构采用介电层和基板载体组合式的拼接方式,方便对衬底结构进行快速便捷的安装拆卸操作,从而能够在衬底结构某一部分元件损坏时,可以在第一时间对衬底结构进行拆分处理,进而进行快速的更换维修,提高了衬底结构的使用灵活性。,下面是一种高功率半导体的衬底结构专利的具体信息内容。
1.一种高功率半导体的衬底结构,包括介电层(1)和基板载体(3),其特征在于,所述基板载体(3)的下方焊接有支撑板(31),所述基板载体(3)的两侧外表壁对称开设有连接槽(6),所述连接槽(6)的底端内表壁等距开设有滑槽(61),且滑槽(61)的内表壁粘贴有抗氧化膜(62),所述介电层(1)的上方设置有抗电镀层(9),所述介电层(1)的上表面等距开设有三个晶体安装槽(8),所述介电层(1)的上表面且位于相邻晶体安装槽(8)之间嵌设有导电层(7),所述三个晶体安装槽(8)的一侧内表壁均开设有引脚插孔(11),且引脚插孔(11)的内部填充有绝缘填充膜(111)。
2.根据权利要求1所述的一种高功率半导体的衬底结构,其特征在于,所述滑槽(61)共开设有若干个,且若干个滑槽(61)的侧视截面均呈半圆弧形结构。
3.根据权利要求1所述的一种高功率半导体的衬底结构,其特征在于,所述抗电镀层(9)的内部且位于引脚插孔(11)的下方设置有电极片(91),且电极片(91)与引脚插孔(11)的下端开口处连接。
4.根据权利要求1所述的一种高功率半导体的衬底结构,其特征在于,所述介电层(1)的表面四周拐角处均开设有上位孔(10)。
5.根据权利要求1所述的一种高功率半导体的衬底结构,其特征在于,所述基板载体(3)的上表面四周拐角处均开设有下位孔(2),且下位孔(2)与上位孔(10)的内径大小相等。
6.根据权利要求1所述的一种高功率半导体的衬底结构,其特征在于,所述介电层(1)的下表面两侧对称设置有卡块(4),且卡块(4)与基板载体(3)上表面两侧开设的卡槽(5)卡接固定。
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