专利汇可以提供非接触磁感应脑水肿监护方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种非 接触 磁感应脑 水 肿监护方法,该方法利用 涡流 检测原理,将磁感应信息检测和磁感应成像的方法用于各种脑水肿的监护,是将监护目标(头颅)置于激励 磁场 中,利用监护目标感应出涡流的扰动磁场,检测磁场的变化。可以获得目标内部电导率及电导率变化的分布,从而监护脑水肿的发生发展过程。利用检测的磁场变化信息,可以进行各种信息分析、也可以进行图像重构,反映被监护目标(头颅)内部的电导率分布及其变化(脑水肿病变)。本发明的非接触方式的监护方法,其主要优点是非接触、无漏 电流 ,根据该方法可以开发出相应的医疗仪器,可以显示相应的信息、曲线、图像、数值,能对各种脑水肿患者进行连续监护。,下面是非接触磁感应脑水肿监护方法专利的具体信息内容。
1.一种非接触磁感应脑水肿监护方法,其特征在于,该方法利用涡流检测原理,将磁感应信息检测和磁感应成像的方法用于各种脑水肿的监护,包括下列步骤:1)将激励线圈和测量线圈置放在接近人体头颅的周围,由激励线圈产生的交变磁场作为激励磁场B0,该磁场通过监护目标时因电磁感应作用使其产生涡流,该涡流同时产生感应磁场ΔB并改变原激励磁场的强弱,在测量线圈上检测感应磁场ΔB;当监护目标阻抗发生变化时,即影响涡流的强度和分布,进而使得检测线圈的电压和感抗也发生改变;2)通过检测线圈测得的磁场ΔB,能够反映导体的阻抗分布,并根据连续检测到的阻抗分布信息,提取出相应的变化数值、曲线,并根据测量数据重构图像或地形图,从多个角度判断颅内出血、缺血的发展程度;3)以不同的激励线圈和测量线圈排列方式,监护脑水肿的发生发展过程;其排列方式分别为:①将数量等同的激励线圈和测量线圈依次相连并围绕着监护目标排列成圆圈形状,对监护目标进行断层成像,以反映目标内部线圈对应的层面的电导率变化的位置和变化趋势,进而监护脑水肿的发生发展过程;②将数量等同的激励线圈和测量线圈排列设置在监护目标的一侧或两侧,对监护目标进行磁感应一维信息监测,依次移动激励线圈和测量线圈,比较各次测量的结果以反映目标内部电导率变化的投影位置和变化趋势,进而监护脑水肿的发生发展过程;③将数量等同的激励线圈和测量线圈构成阵列,放在监护目标两侧,一侧为激励线圈阵列,另一侧为测量线圈阵列,在激励线圈阵列中施加同步的交变电流,则在线圈阵列中间处形成近似的平行磁场,进行映射成像,得到监护目标内部的电导率总体情况和变化趋势,进而监护脑水肿的发生发展过程。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的排列成圆圈形状的激励线圈和测量线圈数量分别为6个或8个或10个或12个或14个或16个或32个。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的排列在监护目标的一侧或两侧的激励线圈和测量线圈的数量分别为2个或4个或6个或8个。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述排列在监护目标的一侧的激励线圈和测量线圈排列是激励线圈排列在一起,测量线圈排在一起。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述排列在监护目标的两侧的激励线圈和测量线圈排列是一侧为激励线圈,另一测为测量线圈。
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