专利汇可以提供一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型及其制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种用于 弥散张量成像 重建 算法 验证的电纺直写仿生模型及其制备方法。制备时,用同轴 静电纺丝 技术结合三轴运动控制平台,获得按照预设轨迹排布的由电纺中空 纤维 精确堆叠而成的纤维束,其中每股纤维束由N根电纺中空纤维组成,每根电纺中空纤维的外径为1-20微米,电纺中空纤维的 外壳 材料为非 水 溶性高分子材料, 内核 材料为 水溶性 高分子材料;然后将获得的纤维束在纯水中浸泡,除去其内核材料,即可获得最终的电纺直写仿生模型,电纺中空纤维呈中空管道状,因此可为水分子提供运动通道。该模型可由三轴运动控制平台精确控制纤维束之间的平面交叉 角 度,因此可为磁共振弥散张量成像重建算法的验证提供高 精度 的仿生模型。,下面是一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型及其制备方法专利的具体信息内容。
1.一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型,其特征在于:所述仿生模型由若干股共面的纤维束组成,每股纤维束由N根电纺中空纤维组成,每根电纺中空纤维的外径约为1-20微米,其管壁材料为非水溶性高分子材料。
2.根据权利要求2所述的一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型,其特征在于:所述非水溶性材料选自聚己内酯(PCL)、热塑性聚氨酯(TPU)、聚乳酸-羟基乙酸共聚物(PLGA)、聚乳酸(PLA)、乙基纤维素(EC)。
3.一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:该仿生模型的制备方法具体为:用同轴静电纺丝技术结合三轴运动控制平台,获得若干股共面的由电纺中空纤维堆叠而成的纤维束,其中每股纤维束由N根电纺中空纤维组成,每根电纺中空纤维的外径为1-20微米,电纺中空纤维的外壳材料为非水溶性高分子材料,内核材料为水溶性高分子材料;然后将获得的纤维束在纯水中浸泡,除去其内核材料,即可获得最终的电纺直写仿生模型。
4.根据权利要求3所述的一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:所述同轴静电纺丝技术所用的装置包括第一注射泵、第二注射泵、高压电源、同轴静电纺丝喷头以及接收板,其中,所述第一注射泵内装有非水溶性高分子材料,第二注射泵内装有水溶性高分子材料,第一注射泵通过导管连接到同轴静电纺丝喷头的外层的进液口,第二注射泵通过导管连接到同轴静电纺丝喷头的内层的进液口,同轴静电纺丝喷头外壁与高压电源的正极相连,接收板固定于三轴运动控制平台上,与高压电源的接地端相连。
5.根据权利要求3所述的一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:所述高压电源提供0-30kV电压。
6.根据权利要求3所述的一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:所述第一注射泵和第二注射泵分别提供0.1-20ml/h流速。
7.根据权利要求3所述的一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:所述三轴运动控制平台的重复定位精度优于±0.02mm,机械精度优于±0.02mm。
8.根据权利要求3所述的一种用于磁共振弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:所述接收板为具有光滑平面的导电材料。
9.根据权利要求3所述的一种用于弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:所述非水溶性材料选自聚己内酯(PCL)、热塑性聚氨酯(TPU)、聚乳酸-羟基乙酸共聚物(PLGA)、聚乳酸(PLA)、乙基纤维素(EC)。
10.根据权利要求3或4所述的一种用于弥散张量成像重建算法验证的电纺直写仿生模型的制备方法,其特征在于:所述水溶性材料选自聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚氧化乙烯(PEO)、聚乙烯醇(PVA)。
模型及其制备方法
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