X射线

阅读:363发布:2020-05-11

专利汇可以提供X射线专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且根据实施方式, X射线 管包括: 阳极 ,上述阳极具有靶面;以及 阴极 ,上述阴极具有第一纤丝及聚焦 电极 。上述聚焦电极包括谷底部分、从该谷底部分向上述阳极方向倾斜上升的第一倾斜平面、第一聚焦槽、和第一收纳槽。(θ1)>0°。上述第一聚焦槽具有长轴。上述第一聚焦槽的第一延长线侧的一端部比上述第一聚焦槽的另一端部更接近第一基准面。,下面是X射线专利的具体信息内容。

1.一种X射线管,包括:
阳极,所述阳极具有靶面,所述靶面供从通过电子束的碰撞形成的第一焦点向主放射方向放射X射线;
以及阴极,所述阴极具有:第一纤丝,所述第一纤丝与所述阳极的所述靶面相对配置,并释放所述电子束;以及聚焦电极,所述聚焦电极聚焦从所述第一纤丝释放的所述电子束,所述聚焦电极包括:谷底部分,所述谷底部分离第一焦点最远;第一倾斜平面,所述第一倾斜平面从所述谷底部分向所述阳极方向倾斜向上;第一聚焦槽,所述第一聚焦槽开口于所述第一倾斜平面;以及第一收纳槽,所述第一收纳槽开口于所述第一聚焦槽的底面并并收纳所述第一纤丝,
将穿过所述第一焦点的中心并与X射线管轴平行的轴设为基准轴,将包括所述基准轴和所述主放射方向的平面设为第一基准面,
将所述第一度设为θ1,所述第一角度是在相对于所述基准轴位于放射所述X射线一侧的相反侧相交的第一延长线与第二延长线所成的角度,所述第一延长线是沿所述第一基准面从所述谷底部分与所述第一倾斜平面的边界延伸的假想上的直线,所述第二延长线是沿所述第一基准面以及所述靶面从所述靶面延伸的假想上的直线,
θ1>0°。所述第一聚焦槽具有长轴,
所述第一聚焦槽的所述第一延长线侧的一端部比所述第一聚焦槽的另一端部更接近所述第一基准面。
2.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,所述谷底部分是与所述第一基准面平行的线段部分。
3.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,所述谷底部分是与所述第一基准面垂直的平坦面。
4.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,
所述第一收纳槽的开口与所述第一聚集槽的开口平行,
所述第一纤丝沿与所述基准轴正交且与所述第一基准面平行的方向延伸,并且沿与所述第一收纳槽的开口平行的假想平面延伸。
5.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,
所述第一纤丝具有长轴,
若将从所述第一纤丝的所述第一延长线侧的一端部到所述第一焦点的所述第二延长线侧的一端部的第一直线距离设为D1,
将从所述第一纤丝的另一端部到所述第一焦点的另一端部的第二直线距离设为D2,则D1<D2。
6.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,
所述第一收纳槽具有与所述基准轴正交且与所述第一基准面平行的长轴。
7.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,
所述第一收纳槽具有长轴,
所述第一聚焦槽的长轴从所述第一收纳槽的长轴倾斜。
8.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,所述第一收纳槽具有长轴,所述第一纤丝具有与所述第一收纳槽的长轴平行的长轴。
9.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,
所述第一收纳槽具有长轴,
所述第一收纳槽的所述第一延长线侧的另一端部比所述第一收纳槽的一端部更接近所述第一基准面。
10.如权利要求1所述的X射线管,其特征在于,
所述第一倾斜平面具有:第一端缘,所述第一端缘位于所述谷底部分侧;和第二端缘,所述第二端缘位于所述谷底部分的相反侧,从所述第一端缘向所述第二端缘均匀地倾斜。

说明书全文

X射线

技术领域

[0001] 本发明的实施方式涉及一种X射线管

背景技术

[0002] 一般地,X射线管被用于图像诊断等用途。这样的X射线管的阴极包括两个电子枪。各电子枪具有释放电子的纤丝线圈、和聚焦所释放的电子的聚焦槽。两个电子枪共用一个聚焦电极。从各电子枪释放并聚焦的电子碰撞阳极靶的靶面,从而在靶面上形成焦点。为了能够在靶面上的相同位置形成焦点,两个电子枪夹着焦点而定位,并分别倾斜配置。
[0003] 靶面沿主放射方向倾斜称为靶度的角度。从与主放射方向及X射线管轴的两者正交的方向观察时,靶面和电子枪的与靶面相对一侧的表面大致以与靶角度对应的程度倾斜。由于从纤丝线圈的长度方向的两端中的一端释放的电子的飞行距离与从另一端释放的电子的飞行距离不同,因此,焦点成为变形的形状。因此,为了修正这样的焦点形状的变形,已知有使电子枪整体相对于主放射方向倾斜适当角度的技术。
[0004] 现有技术文献
[0005] 专利文献
[0006] 专利文献1:日本专利特开平5-121020号公报附图说明
[0007] 图1是表示根据一实施方式的X射线管的示意性结构图。
[0008] 图2是放大表示图1所示的阴极和阳极的图。
[0009] 图3是表示图2所示的阴极的俯视图。
[0010] 图4是表示上述阴极和上述阳极的图,其是用于说明第一角度的图。
[0011] 图5是表示上述阴极和上述阳极的主视图,其是用于说明第二角度的图。
[0012] 图6是表示上述阴极和上述阳极的图,其是用于说明第一直线距离与第二直线距离之间的关系的图。
[0013] 图7是表示上述阴极和上述阳极的图,其是用于说明第三直线距离与第四直线距离之间的关系的图。
[0014] 图8是表示垂直投影到表示平行于上述实施方式的第一倾斜平面的假想平面上的纤丝线圈、第一聚焦槽和第一收纳槽的图。
[0015] 图9是表示垂直投影到平行于上述实施方式的第二倾斜平面的假想平面上的纤丝线圈、第二聚焦槽和第二收纳槽的图。
[0016] 图10是表示沿图3的线X-X的阴极的剖视图。
[0017] 图11是表示在上述实施方式的变形例中,垂直投影到平行于第一倾斜平面的假想平面上的纤丝线圈、第一聚焦槽和第一收纳槽的图。
[0018] 图12是表示在上述变形例中,垂直投影到平行于第二倾斜平面的假想平面上的纤丝线圈、第二聚焦槽和第二收纳槽的图。
[0019] 图13是表示上述实施方式的比较例的X射线管的阴极的俯视图。
[0020] 图14是表示沿图13的线XIV-XIV的阴极的剖视图。
[0021] 图15是表示在上述比较例中,垂直投影到平行于第一倾斜平面的假想平面上的纤丝线圈、第一聚焦槽和第一收纳槽的图。
[0022] 图16是表示在上述比较例中,垂直投影到平行于第二倾斜平面的假想平面上的纤丝线圈、第二聚焦槽和第二收纳槽的图。

具体实施方式

[0023] 一实施方式的X射线管,包括:阳极,上述阳极具有靶面,上述靶面供从通过电子束的碰撞形成的第一焦点向主放射方向放射X射线;以及阴极,上述阴极具有:第一纤丝,上述第一纤丝与上述阳极的所述靶面相对配置,并释放所述电子束;以及聚焦电极,上述聚焦电极聚焦从上述第一纤丝释放的上述电子束,上述聚焦电极包括:谷底部分,上述谷底部分离第一焦点最远;第一倾斜平面,上述第一倾斜平面从上述谷底部分向上述阳极方向倾斜向上;第一聚焦槽,上述第一聚焦槽开口于上述第一倾斜平面;以及第一收纳槽,上述第一收纳槽开口于上述第一聚焦槽的底面并收纳上述第一纤丝。将穿过上述第一焦点的中心并与X射线管轴平行的轴设为基准轴。将包括上述基准轴和上述主放射方向的平面设为第一基准面。将上述第一角度设为θ1,上述第一角度是相对于上述基准轴位于放射上述X射线一侧的相反侧相交的第一延长线与第二延长线所成的角度,上述第一延长线是沿上述第一基准面从上述谷底部分与上述第一倾斜平面的边界延伸的假想上的直线,上述第二延长线是沿上述第一基准面以及上述靶面从上述靶面延伸的假想上的直线。θ1>0°。第一聚焦槽具有长轴。上述第一聚焦槽的上述第一延长线侧的一端部比上述第一聚焦槽的另一端部更接近上述第一基准面。
[0024] 以下,参照附图,对本发明的一实施方式进行说明。另外,公开仅是一个示例,对于本领域技术人员而言,能够容易地想到保持本发明的主旨的适当改变,这当然包含在本发明的范围内。此外,附图是为了更明确地进行说明,与实际情况相比,有时会对各部分的宽度、厚度、形状等作示意性的表示,但仅是一个示例,并非对本发明的解释进行限定。此外,在本说明书和各附图中,关于上述附图,对于与前述构件相同的要素,标注相同的符号,并适当省略其详细说明。
[0025] 图1是表示一实施方式的X射线管1的示意结构图。
[0026] 如图1所示,X射线管1包括阴极2、阳极3、真空外围器4和多个销组件15。阴极2具有释放电子的纤丝(电子释放源)和聚焦电极。在本实施方式中,阴极2包括第一纤丝和第二纤丝。多个销组件15至少具有:用于对第一纤丝施加负的高电压和纤丝电流的两个销组件15、用于对第二纤丝施加负的高电压和纤丝电流的两个销组件15、以及用于对聚焦电极施加负的高电压一个销组件15。另外,聚焦电极用的销组件15还具有支承聚焦电极、固定聚焦电极的功能。
[0027] 阳极3具有与靶主体3a、及连接到靶主体3a的阳极延伸部3d。靶主体3a具有供电子碰撞的靶层3b。靶层3b中的供电子碰撞一侧的表面是靶面3c。靶主体3a由诸如钼(Mo)、(Cu)及他们的合金的高热传导性金属形成。靶层3b由比靶主体3a所用的材料的融点更高的金属形成。例如,靶主体3a由铜或铜合金形成,靶层3b由钨合金形成。阳极延伸部3d形成圆柱状,利用铜或铜合金。阳极延伸部3d固定靶主体3a。阳极3通过从上述纤丝释放并被上述聚焦电极聚焦后的电子碰撞靶面3c而释放X射线。
[0028] 真空外围器4包括玻璃容器4a和金属容器4b。金属容器4b一方面与玻璃容器4a气密地连接,另一方面与阳极3气密地连接。玻璃容器4a例如利用玻璃而形成。玻璃容器4a例如能通过熔融将多个玻璃构件气密接合而形成。由于玻璃容器4a具有X射线透射性,因此,从阳极3释放的X射线透过玻璃容器4a,并被释放到真空外围器4的外侧。金属容器4b气密地固定在靶主体3a和阳极延伸部3d的至少一方上。在此,金属容器4b通过对靶主体3a进行钎焊而气密地连接。另外,金属容器4b和玻璃容器4a通过封装而气密地连接。在本实施方式中,金属容器4b形成为环状。另外,金属容器4b利用可伐合金而形成。
[0029] 真空外围器4收纳阴极2和靶主体3a,形成为阳极延伸部3d露出。多个销组件15被气密地安装在真空外围器4上。各销组件15具有阴极销等,位于真空外围器4的内部及外部。
[0030] 另外,Z轴是与X射线管轴A平行的轴,X轴是与Z轴正交的轴,Y轴是与X轴和Z轴两者正交的轴。后述的X射线的主放射方向d与X轴平行。
[0031] 从X射线管1外侧的电源单元输出的电压和电流被施加到纤丝用的销组件15,进而施加给纤丝。由此,纤丝释放电子(热电子)。上述电源单元对阴极2和阳极3也施加规定的电压。在本实施方式中,对阴极2施加负的高电压,对阳极3施加正的高电压。由于在阳极3和阴极2之间施加有X射线管电压(管电压),因此,从纤丝中释放的电子被加速,并作为电子束入射到靶面3c。即,X射线管电流(管电流)从阴极2流向靶面3c上的焦点。
[0032] 作为阴极电位的聚焦电极能够使从纤丝朝向阳极3的电子束(电子)聚焦。
[0033] 靶面3c通过入射有电子束而释放X射线,从焦点释放的X射线透过真空外围器4,释放到X射线管1的外侧。
[0034] 图2是放大表示图1所示的阴极2和阳极3的图。图中,阴极2表示沿穿过后述的基准轴RA的Y-Z平面的剖面形状,阳极3表示从正面观察的状态。
[0035] 如图2所示,阴极2是具有:纤丝线圈5,上述纤丝线圈5作为释放电子的第一纤丝;纤丝线圈6,上述纤丝线圈6作为释放电子的第二纤丝;以及聚焦电极10,上述聚焦电极10使从纤丝线圈5和纤丝线圈6释放的电子聚焦。聚焦电极10包括:平坦的前表面10A、第一倾斜平面11、第一聚焦槽21、第一收纳槽31、第二倾斜平面12、第二聚焦槽22、以及第二收纳槽
32。如果将第一倾斜平面11和第二倾斜平面12的边界称为谷底部分,则第一倾斜平面11和第二倾斜平面12分别从谷底部分M向阳极3的方向倾斜地上升。谷底部分M是与后述的第一基准面S1平行的线段部分。
[0036] 前表面10A在阴极2(聚焦电极10)中最接近阳极3。在本实施方式中,前表面10A平行于X-Y平面。但是,前表面10A和谷底部分M也可以与X-Y平面不平行。为了使得两个电子枪能够在相同位置形成焦点F,第一倾斜平面11和第二倾斜平面12从X-Y平面倾斜。谷底部分M位于穿过基准轴RA的X-Z平面上。
[0037] 从焦点F到第一倾斜平面11或第二倾斜平面12的距离中,到谷底部分M的距离是最长的。
[0038] 第一聚焦槽21开口于第一倾斜平面11。第一收纳槽31开口于第一聚焦槽21的底面21b并收纳纤丝线圈5。第二聚焦槽22开口于第二倾斜平面12。第二收纳槽32开口于第二聚焦槽22的底面22b并收纳纤丝线圈6。
[0039] 第一倾斜平面11平行于底面21b,第二倾斜平面12平行于底面22b。因此,第一收纳槽31的开口31o与第一聚焦槽21的开口21o平行,第二收纳槽32的开口32o与第二聚焦槽22的开口22o平行。换言之,底面21b与第一倾斜平面11平行,底面22b与第二倾斜平面12平行。纤丝线圈5沿与开口31o平行的假想平面延伸。纤丝线圈6沿与开口32o平行的假想平面延伸。
[0040] 在形成于靶面3c的焦点F中,从纤丝线圈5释放的电子被入射到靶面3c,从而将在主放射方向上放射X射线的焦点设为第一焦点F1。另一方面,从纤丝线圈6释放的电子被入射到靶面3c,从而将在主放射方向上放射X射线的焦点设为第二焦点F2。在本实施方式中,第一焦点F1的中心位置与第二焦点F2的中心位置相同。但是,第一焦点F1的尺寸和第二焦点F2的尺寸不同。在本实施方式中,这是因为两个电子枪的结构不同。稍后将描述,例如,纤丝线圈5的尺寸与纤丝线圈6的尺寸不同。
[0041] 这里,上述基准轴RA是穿过第一焦点F1的中心并平行于X射线管轴A的轴。在本实施方式中,由于第一焦点F1和第二焦点F2的中心位置相同,因此,基准轴RA也是通过第二焦点F2的中心并平行于X射线管轴A的轴。另外,将包括基准轴RA和主放射方向的平面设为第一基准面S1。将与前表面10A位于同一平面上的假想上的平面设为第二基准面S2。
[0042] 图3是表示图2所示的阴极2的俯视图,并且是表示从阳极3侧观察阴极2的状态的X-Y俯视图。
[0043] 如图3及图2所示,第一倾斜平面11具有:第一端缘11e1,上述第一端缘11e1位于谷底部分M侧;以及和第二端缘11e2,上述第二端缘11e2位于谷底部分M的相反侧。第一倾斜平面11从第一端缘11e1向第二端缘11e2均匀地倾斜。同样地,第二倾斜平面12具有:第一端缘12e1,上述第一端缘12e1位于谷底部分M侧;以及第二端缘12e2,上述第二端缘12e2位于谷底部分M的相反侧。第二倾斜平面12从第一端缘12e1向第二端缘12e2均匀地倾斜。
[0044] 如图3所示,第一聚焦槽21、第二聚焦槽22、第一收纳槽31及第二收纳槽32分别具有长轴。另外,纤丝线圈5和纤丝线圈6分别以直线状延伸形成,并具有长轴。第一收纳槽31及纤丝线圈5各自的长轴与基准轴RA正交,并与第一基准面S1平行。类似地,第二收纳槽32及纤丝线圈6各自的长轴与基准轴RA正交,并与第一基准面S1平行。
[0045] 在本实施方式中,第一聚焦槽21及第二聚焦槽22各自的长轴与第一基准面S1不平行。
[0046] 这里,第一聚焦槽21具有一端部21e1及另一端部21e2。第一收纳槽31具有一端部31e1及另一端部31e2。纤丝线圈5具有一端部5e1及另一端部5e2。
[0047] 另外,第二聚焦槽22具有一端部22e1及另一端部22e2。第二收纳槽32具有一端部32e1及另一端部32e2。纤丝线圈6具有一端部6e1及另一端部6e2。
[0048] 图4是表示阴极2和阳极3的图,其是用于说明第一角度θ1的图。图中,阴极2表示从正面观察的状态,阳极3表示沿穿过基准轴RA的X-Z平面的剖面形状。另外,图中表示X射线的主放射方向d等。
[0049] 主放射方向d是穿过基准轴RA的X-Z平面上的方向,其是沿利用X射线束的中心轴的方向。在本实施例中,主放射方向与基准轴RA垂直。通常,将穿过焦点的中心且沿与基准轴RA垂直交叉的主放射方向d从X射线管1的外侧观察形成在靶面3c上的焦点得到的形状称为有效焦点。
[0050] 如图4所示,将在相对于基准轴RA位于放射X射线的一侧的相反侧相交的第一延长线E1和第二延长线E2所成的角度设为第一角度θ1。第一延长线E1是沿第一基准面S1从谷底部分M(或通常为谷底部分M与第一倾斜平面11的边界线)延伸的假想上的直线。第二延长线E2是沿第一基准面S1及靶面3c从靶面3c延伸的假想上的直线。
[0051] θ1>0°。在本实施方式中,第一角度θ1为锐角(0°<θ1<90°)。即,前表面10A及谷底部分M与靶面3c不平行。
[0052] 这里,将包括基准轴RA且与第一基准面S1正交的平面设为第三基准面S3。
[0053] 如图3和图4所示,由上,第一聚焦槽21的第一延长线E1侧的一端部21e1比第一聚焦槽21的另一端部21e2更接近第一基准面S1。类似地,第二聚焦槽22的第一延长线E1侧的一端部22e1比第二聚焦槽22的另一端部22e2更接近第一基准面S1。
[0054] 图5是表示阴极2和阳极3的主视图,并且是用于说明第二角度θ2和第三角度θ3的图。
[0055] 如图5所示,在Y轴上,将从基准轴RA朝向超过阴极2及阳极3的一侧相交的第三延长线E3与第四延长线E4所成的角度设为第二角度θ2。第三延长线E3是沿第三基准面S3及第一倾斜平面11从第一倾斜平面11延伸的假想上的直线。第四延长线E4是沿第三基准面S3及靶面3c从靶面3c延伸的假想上的直线。
[0056] θ2>0°。在本实施方式中,第二角度θ2为锐角(0°<θ2<90°)。类似地,在Y轴中,将从基准轴RA朝向超过阴极2及阳极3的一侧相交的第五延长线E5与第六延长线E6所成的角度设为第三角度θ3。第五延长线E5是沿第三基准面S3及第二倾斜平面12从第二倾斜平面12延伸的假想上的直线。第六延长线E6是沿第三基准面S3及靶面3c从靶面3c延伸的假想上的直线。
[0057] θ3>0°。在本实施方式中,第三角度θ3为锐角(0°<θ3<90°)。
[0058] 如图2、图3及图5所示,由上,纤丝线圈5、第一收纳槽31及第一聚集槽21位于比第一基准面S1更靠近第三延长线E3侧的位置。另一方面,纤丝线圈6、第二收纳槽32及第二聚焦槽22位于比第一基准面S1更靠近第五延长线E5侧的位置。
[0059] 图6是表示阴极2和阳极3的图,其是用于说明第一直线距离D1与第二直线距离D2之间的关系的图。
[0060] 如图6所示,将从纤丝线圈5的一端部5e1至第一焦点F1的第二延长线E2侧的一端部F1e1的直线距离设为第一直线距离D1。将从纤丝线圈5的另一端部5e2到第一焦点F1的另一端部F1e2的直线距离设为第二直线距离D2。于是,D1<D2。
[0061] 图7是表示阴极2和阳极3的图,其是用于说明第三直线距离D3与第四直线距离D4之间的关系的图。
[0062] 如图7所示,将从纤丝线圈6的一端部6e1至第二焦点F2的第二延长线E2侧的一端部F2e1的直线距离设为第三直线距离D3。将从纤丝线圈6的另一端部6e2到第二焦点F2的另一端部F2e2的直线距离设为第四直线距离D4。于是,D3<D4。
[0063] 图8是表示垂直投影到与第一倾斜平面11平行的假想平面上的纤丝线圈5、第一聚焦槽21及第一收纳槽31的图。
[0064] 如图8所示,第一聚焦槽21的长轴从第一收纳槽31的长轴倾斜。纤丝线圈5的长轴与第一收纳槽31的长轴平行。另外,如所述,第一聚焦槽21的一端部21e1比第一聚焦槽21的另一端部21e2更接近第一基准面S1。
[0065] 这里,在图8的垂直投影图中,将第一聚焦槽21的长轴与第一收纳槽31(纤丝线圈5)的长轴交叉的角度设为第四角度θ4。在本实施方式中,第四角度θ4为锐角(0°<θ4<
90°)。
[0066] 图9是表示垂直投影到与第二倾斜平面12平行的假想平面上的纤丝线圈6、第二聚焦槽22及第二收纳槽32的图。
[0067] 如图9所示,第二聚焦槽22的长轴从第二收纳槽32的长轴倾斜。纤丝线圈6的长轴与第二收纳槽32的长轴平行。另外,如上所述,第二聚焦槽22的一端部22e1比第二聚焦槽22的另一端部22e2更接近第一基准面S1。
[0068] 这里,在图9的垂直投影图中,将第二聚焦槽22的长轴与第二收纳槽32(纤丝线圈6)的长轴交叉的角度设为第五角度θ5。在本实施方式中,第五角度θ5为锐角(0°<θ5<
90°)。
[0069] 图10是表示沿图3的线X-X的阴极2的剖视图。如图10所示,该图是沿纤丝线圈5延伸的轴A5的剖面。轴A5与第一聚焦槽21的底面21b平行。其目的在于,使焦点聚焦成恒定的宽度。在图10中观察的情况下,第一聚焦槽21的底面21b与第二基准面S2平行。
[0070] 在纤丝线圈5的两端连接有纤丝L1、L2。纤丝L1、L2支承纤丝线圈5。纤丝L1、L2沿Z轴延伸。因此,每个纤丝L1、L2垂直于轴A5。
[0071] 这里,将纤丝线圈5和纤丝L1、L2的集合体称为纤丝集合体。在一般的纤丝集合体中,每个纤丝L1、L2保持与轴A5垂直。因此,在本实施方式中,能够直接使用一般的纤丝集合体。
[0072] 在聚焦电极10中形成有用于供纤丝L1、L2穿过的孔10h1、10h2。孔10h1、10h2与纤丝L1、L2相同地沿Z轴延伸。在进行用于孔10h1、10h2的开孔加工时,不需要在从Z轴倾斜的方向上开孔。因此,不需要花费附加的操作时间来定位角度方向。
[0073] 另外,与上述的纤丝线圈5等相关的事项也可以同样适用于纤丝线圈6等。
[0074] 根据以上述方式构成的一实施方式的X射线管1,X射线管1包括阴极2和阳极3。阴极2具有纤丝线圈5、和包括前表面10A、第一倾斜平面11、第一聚焦槽21、以及第一收纳槽31的聚焦电极10。阳极3具有靶面3c。
[0075] θ1>0°和θ2>0°。纤丝线圈5、第一收纳槽31及第一聚焦槽21位于比第一基准面S1更靠近第三延长线E3侧。使第一收纳槽31相对于主放射方向d不倾斜,并使第一聚焦槽21相对于主放射方向d倾斜。并且,第一聚焦槽21的第一延长线E1侧的一端部21e1比第一聚焦槽21的另一端部21e2更接近第一基准面S1。由此能够修正第一焦点F1的形状的变形。即,与θ4=0°的情况相比,能够抑制第一焦点F1的形状的变形。由上,能够得到能够降低焦点形状的变形的X射线管1。
[0076] 接着,为了与上述实施方式的X射线管1比较,对比较例的X射线管进行说明。图13是表示上述实施方式的比较例的X射线管1的阴极2的俯视图。
[0077] 如图13所示,第一聚焦槽21及第二聚焦槽22在X轴上平行地延伸。纤丝线圈5和第一收纳槽31在从X轴倾斜的一个方向上延伸。另外,纤丝线圈6和第二收纳槽32在从X轴倾斜的另一方向上延伸。在上述这一点上,比较例的X射线管与上述实施方式的X射线管1大致不同。
[0078] 图14是表示沿图13的线XIV-XIV的阴极的剖视图。如图14所示,纤丝线圈5的轴A5与第一聚焦槽21的底面21b平行。然而,在图14中观察的情况下,第一聚焦槽21的底面21b与第二基准面S2不平行。
[0079] 纤丝L1、L2沿Z轴延伸。另外,孔10h1、10h2也沿Z轴延伸。因此,每个纤丝L1、L2相对于轴A5以90°以外的角度倾斜。因此,在本比较例中,难以直接使用一般的纤丝集合体。在本比较例中,需要重新制作加进了纤丝L1、L2各自相对于轴A5的倾斜角度的纤丝集合体。
[0080] 另外,在本比较例中,通过调节孔10h1、10h2延伸的方向,能够使用上述一般的纤丝集合体。然而,在对聚焦电极10进行开孔加工时,需要角度方向的位置确定。因此,需要花费附加的操作时间来定位角度方向。
[0081] 另外,在上述比较例中,与纤丝线圈5等相关的事项也能够同样适用于纤丝线圈6等。
[0082] 图15是表示在上述比较例中,垂直投影到与第一倾斜平面11平行的假想平面上的纤丝线圈5、第一聚焦槽21及第一收纳槽31的图。
[0083] 如图15所示,第一收纳槽31的长轴从第一聚焦槽21的长轴(谷底部分M)倾斜。纤丝线圈5的长轴与第一收纳槽31的长轴平行。另外,第一收纳槽31的另一端部31e2比第一收纳槽31的一端部31e1更接近第一基准面S1。
[0084] 这里,在图15的垂直投影图中,将第一聚焦槽21的长轴与第一收纳槽31(纤丝线圈5)的长轴交叉的角度设为第六角度θ6。在本比较例中,第六角度θ6为锐角(0°<θ6<90°)。
[0085] 图16是表示在上述比较例中,垂直投影到与第二倾斜平面12平行的假想平面上的纤丝线圈6、第二聚集槽22及第二收纳槽32的图。
[0086] 如图16所示,第二收纳槽32的长轴从第二聚焦槽22的长轴(谷底部分M)倾斜。纤丝线圈6的长轴与第二收纳槽32的长轴平行。另外,如上所述,第二收纳槽32的另一端部32e2比第二收纳槽32的一端部32e1更接近第一基准面S1。
[0087] 这里,在图16的垂直投影图中,将第二聚焦槽22的长轴与第二收纳槽32(纤丝线圈6)的长轴交叉的角度设为第七角度θ7。在本比较例中,第七角度θ7为锐角(0°<θ7<90°)。
[0088] 虽然说明了本发明的实施方式,但这些实施方式仅为例示,并不旨在对发明范围的限定。新的实施方式还能以其它各种方式来实施,且能在不脱离发明技术思想的范围内作各种省略、置换和改变。上述实施方式及其变形包含在发明范围或要点中,且包含在权利要求书记载的发明及其均等的范围内。
[0089] 例如,在上述实施方式的图8中例示了第一收纳槽31及纤丝线圈5不倾斜的情况,在图9中例示了第二收纳槽32及纤丝线圈6不倾斜的情况,但不限定于这些情况。
[0090] 如图11所示,也可以不仅使第一聚焦槽21倾斜,使纤丝线圈5及第一收纳槽31也倾斜。在这种情况下,第一收纳槽31的另一端部31e2比第一收纳槽31的一端部31e1更接近第一基准面S1。第一聚焦槽21的长轴相对于与第一基准面S1(谷底部分M)平行的基准线RL1所成的角度是第八角度θ8,第一收纳槽31的长轴相对于与第一基准面S1(谷底部分M)平行的基准线RL1所成的角度是第九角度θ9。与图8相比为θ8<θ4,与图15相比为θ9<θ6。如图12所示,也可以不仅使第二聚焦槽22倾斜,使纤丝线圈6及第二收纳槽32也倾斜。在这种情况下,第二收纳槽32的另一端部32e2比第二收纳槽32的一端部32e1更接近第一基准面S1。第二聚焦槽22的长轴相对于与第一基准面S1(谷底部分M)平行的基准线RL2所成的角度是第十角度θ10,第二收纳槽32的长轴相对于与第一基准面S1(谷底部分M)平行的基准线RL2所成的角度是第十一角度θ11。与图9相比为θ10<θ5,与图16相比为θ11<θ7。在X射线管1具有多个电子枪的情况下,只要X射线管1的至少一个电子枪的聚焦槽如图8、图9、图11及图12所示那样倾斜即可。因此,X射线管1也可以包括聚焦槽、收纳槽以及纤丝线圈均不倾斜的电子枪。
[0091] 另外,在上述实施方式中例示了谷底部分M为线状的情况,但是谷底部分M也可以是与第一基准面S1垂直的平坦面。在这种情况下,阴极2可以在平坦的谷底部分M中设置另一个电子枪。
[0092] 另外,在上述实施方式中例示了聚焦电极10具有平坦的前表面10A的情况,但是也可以不存在平坦的前表面10A。
[0093] 本发明的实施方式不限定于上述的固定阳极型的X射线管1,能够适用于各种固定阳极型的X射线管、旋转阳极型的X射线管及其他X射线管。
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