1.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统，其包括：
斜入射辐射源，其经配置以沿着相对于所述样本的表面倾斜的方向将斜照明波长的光束引导到所述样本的一部分上；
法线入射辐射源，其经配置以沿着实质上垂直于所述样本的所述表面的方向将不同于所述斜照明波长的法线照明波长的光束引导到所述样本的一部分上，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
样本台组合件，其经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程；
一组收集光学器件，其经配置以收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
滤波器子系统，其经配置以接收由所述组收集光学器件收集的所述辐射的至少一部分，其中所述滤波器子系统经配置以将来自所述样本的所述辐射分离成包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱或近红外光谱中的一或多个波长的辐射的第一部分、包含所述法线照明波长的辐射的第二部分及包含所述斜照明波长的辐射的至少第三部分；
检测子系统，其包含用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第一部分的一或多个特性的第一传感器、用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第二部分的一或多个特性的第二传感器、及用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第三部分的一或多个特性的至少第三传感器；以及
控制器，其以通信方式耦合到所述第一传感器、所述第二传感器及所述第三传感器，所述控制器经配置以：
基于由所述第二传感器及所述第三传感器测量的所述一或多个特性中的至少一者检测一或多个散射缺陷；以及
基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性、由所述第二传感器测量的所述一或多个特性及由所述第三传感器测量的所述一或多个特性中的至少一者检测一或多个光致发光缺陷。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以通过将在所述样本的不存在光致发光缺陷的区域中来自所述第一传感器、所述第二传感器及所述第三传感器中的至少一者的信号与从所述样本的经测量区域获取的来自所述第一传感器、所述第二传感器及所述第三传感器中的至少一者的信号进行比较，基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性、由所述第二传感器测量的所述一或多个特性及由所述第三传感器测量的所述一或多个特性中的至少一者来检测一或多个光致发光缺陷。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性、由所述第二传感器测量的所述一或多个特性及由所述第三传感器测量的所述一或多个特性中的至少一者以及所述经检测的一或多个光致发光缺陷的位置来映射所述经检测的一或多个光致发光缺陷。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性、由所述第二传感器测量的所述一或多个特性及由所述第三传感器测量的所述一或多个特性中的至少一者对所述经检测的一或多个光致发光缺陷进行分类。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本的所述一或多个光致发光缺陷包括：
一或多个堆垛层错缺陷及一或多个基面位错中的至少一者。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由所述第二传感器及所述第三传感器中的至少一者检测的所述光将所述经检测的一或多个散射缺陷区分为凹坑缺陷或颗粒缺陷。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器经配置以在由所述第二传感器测量所述辐射的第二部分及由所述第三传感器测量所述辐射的第三部分中的至少一者之前选择性去激活所述第一辐射源以便基于由所述第二传感器及所述第三传感器中的至少一者检测的所述光来检测一或多个光致发光缺陷。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本为半导体装置。
9.根据权利要求8所述的系统，其中所述半导体装置为宽带隙半导体装置。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述斜入射源及所述法线入射源中的至少一者为激光器。
11.根据权利要求1所述的系统，其中所述斜入射源及所述法线入射源中的至少一者为紫外激光器。
12.根据权利要求1所述的系统，其中所述斜入射源及所述法线入射源中的至少一者为连续波CW激光器。
13.根据权利要求1所述的系统，其中经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程的所述样本台组合件包括：
旋转台组合件，其经配置以紧固所述样本且使所述样本选择性旋转以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行螺旋扫描过程。
14.根据权利要求1所述的系统，其中经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程的所述样本台组合件包括：
线性台组合件，其经配置以紧固所述样本且使所述样本沿着至少第一方向及垂直于所述第一方向的第二方向选择性平移以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行X-Y扫描过程。
15.根据权利要求1所述的系统，其中所述滤波器子系统包含：
第一光学元件，其经配置以将包含所述辐射的第一部分的第一光谱范围的辐射与从所述样本接收的所述辐射分离，且将所述第一光谱范围的辐射朝向所述第一传感器引导；
第二光学元件，其经配置以从所述第一光学元件接收并不包含于所述第一光谱范围的辐射中的辐射，其中所述第二光学元件经配置以将包含所述辐射的第二部分的第二光谱范围的辐射与从所述第一光学元件接收的所述辐射分离，且将所述第二光谱范围的辐射朝向所述第二传感器引导；以及
第三光学元件，其经配置以从所述第二光学元件接收并不包含于所述第一光谱范围的辐射或所述第二光谱范围的辐射中的辐射，其中所述第三光学元件经配置以至少将包含所述辐射的第三部分的第三光谱范围的辐射的一部分朝向所述第三传感器引导。
16.根据权利要求15所述的系统，其中所述第一光学元件及所述第二光学元件中的至少一者为二向色分束器且所述第三光学元件为镜。
17.根据权利要求16所述的系统，其中所述滤波器子系统包含：
第一光学元件，其经配置以将包含所述辐射的第一部分的第一光谱范围的辐射与从所述样本接收的所述辐射分离，且将所述第一光谱范围的辐射朝向所述第一传感器引导；
第二光学元件，其经配置以从所述第一光学元件接收并不包含于所述第一光谱范围的辐射中的辐射，其中所述第二光学元件经配置以将包含所述辐射的第二部分的第二光谱范围的辐射与从所述第一光学元件接收的所述辐射分离，且将所述第二光谱范围的辐射朝向所述第二传感器引导；以及
第三光学元件，其经配置以从所述第二光学元件接收并不包含于所述第一光谱范围的辐射或所述第二光谱范围的辐射中的辐射，其中所述第三光学元件经配置以至少将包含所述辐射的第三部分的第三光谱范围的辐射的一部分与从所述第二光学元件接收的所述辐射分离，且将所述第三光谱范围的辐射朝向所述第三传感器引导，所述第三光学元件进一步经配置以将并不包含于所述第一光谱范围的辐射、所述第二光谱范围的辐射或所述第三光谱范围的辐射中的辐射传输到一或多个额外光学装置。
18.根据权利要求17所述的系统，其中所述第一光学元件及所述第二光学元件以及所述第三光学元件中的至少一者为二向色分束器。
19.根据权利要求16所述的系统，其进一步包括：
第一窄通滤波器，其定位于所述第一传感器与所述第一光学元件之间，且经配置以接收所述第一光谱范围的辐射的至少一部分且将所述辐射的第一部分传输到所述第一传感器且阻断并不包含于所述辐射的第一部分中的辐射；
第二窄通滤波器，其定位于所述第二传感器与所述第二光学元件之间，且经配置以接收所述第二光谱范围的辐射的至少一部分且将所述辐射的第二部分传输到所述第二传感器且阻断并不包含于所述辐射的第二部分中的辐射；以及
第三窄通滤波器，其定位于所述第三传感器与所述第三光学元件之间，且经配置以接收所述第三光谱范围的辐射的至少一部分且将所述辐射的第三部分传输到所述第三传感器且阻断并不包含于所述辐射的第三部分中的辐射。
20.根据权利要求19所述的系统，其中由所述第一窄通滤波器、所述第二窄通滤波器及所述第三窄通滤波器中的至少一者传输的所述光谱范围由所述样本的特征的所述光致发光光谱的一或多个特性定义。
21.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一传感器、所述第二传感器及所述第三传感器中的至少一者包含光电倍增管PMT。
22.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一传感器经配置以测量从所述样本的一或多个光致发光缺陷发射的可见光致发光的光及近红外光中的至少一者。
23.根据权利要求1所述的系统，其中所述第二传感器经配置以测量来自所述样本的一或多个缺陷的在与由所述法线入射辐射源发射的所述光对应的波长下的散射辐射。
24.根据权利要求1所述的系统，其中所述第三传感器经配置以测量来自所述样本的一或多个缺陷的在与由所述斜入射辐射源发射的所述光对应的波长下的散射辐射。
25.根据权利要求1所述的系统，其中所述第二传感器及第三传感器中的至少一者经配置以测量来自所述样本的一或多个光致发光缺陷的紫外光致发光的光。
26.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统经配置以同时或循序地检测光致发光缺陷及散射缺陷。
27.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统，其包括：
斜入射辐射源，其经配置以沿着相对于所述样本的表面倾斜的方向将斜照明波长的光束引导到所述样本的一部分上；
法线入射辐射源，其经配置以沿着实质上垂直于所述样本的所述表面的方向将不同于所述斜照明波长的法线照明波长的光束引导到所述样本的一部分上，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
样本台组合件，其经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程；
一组收集光学器件，其经配置以收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
滤波器子系统，其经配置以接收由所述组收集光学器件收集的所述辐射的至少一部分，其中所述滤波器子系统经配置以将来自所述样本的所述辐射分离成包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱或近红外光谱中的一或多个波长的辐射的第一部分、包含所述法线照明波长的辐射的第二部分、包含所述斜照明波长的辐射的第三部分、及包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光致发光的光相关联的紫外光谱中的一或多个波长的辐射的至少第四部分；
检测子系统，其包含用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第一部分的一或多个特性的第一传感器、用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第二部分的一或多个特性的第二传感器、用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第三部分的一或多个特性的第三传感器、及用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第四部分的一或多个特性的至少第四传感器；以及
控制器，其以通信方式耦合到所述第一传感器、所述第二传感器及所述第三传感器，所述控制器经配置以：
基于由所述第二传感器及所述第三传感器中的至少一者测量的所述光检测一或多个散射缺陷；以及
通过将在所述样本的不存在光致发光缺陷的区域中来自所述第一传感器、所述第二传感器、所述第三传感器及所述第四传感器中的至少一者的信号与从所述样本的经测量区域获取的来自所述第一传感器、所述第二传感器、所述第三传感器及所述第四传感器中的至少一者的信号进行比较，基于由所述第一传感器、所述第二传感器、所述第三传感器及所述第四传感器中的至少一者检测的所述光来检测一或多个光致发光缺陷。
28.根据权利要求27所述的系统，其中所述滤波器子系统包含：
第一光学元件，其经配置以将包含所述辐射的第一部分的第一光谱范围的辐射与从所述样本接收的所述辐射分离，且将所述第一光谱范围的辐射朝向所述第一传感器引导；
第二光学元件，其经配置以从所述第一光学元件接收并不包含于所述第一光谱范围的辐射中的辐射，其中所述第二光学元件经配置以将包含所述辐射的第二部分的第二光谱范围的辐射与从所述第一光学元件接收的所述辐射分离，且将所述第二光谱范围的辐射朝向所述第二传感器引导；
第三光学元件，其经配置以从所述第二光学元件接收并不包含于所述第一光谱范围的辐射或所述第二光谱范围的辐射中的辐射，其中所述第三光学元件经配置以至少将包含所述辐射的第三部分的第三光谱范围的辐射的一部分与从所述第二光学元件接收的所述辐射分离，且将所述第三光谱范围的辐射朝向所述第三传感器引导，所述第三光学元件进一步经配置以将并不包含于所述第一光谱范围的辐射、所述第二光谱范围或所述第三光谱范围的辐射中的辐射朝向包含所述辐射的第四部分的第四光谱范围的辐射中的所述第四传感器传输。
29.根据权利要求28所述的系统，其中所述第一光学元件、所述第二光学元件及所述第三光学元件中的至少一者为二向色分束器。
30.根据权利要求28所述的系统，其进一步包括：
第一窄通滤波器，其定位于所述第一传感器与所述第一光学元件之间，且经配置以接收所述第一光谱范围的辐射的至少一部分且将所述辐射的第一部分传输到所述第一传感器且阻断并不包含于所述辐射的第一部分中的辐射；
第二窄通滤波器，其定位于所述第二传感器与所述第二光学元件之间，经配置以接收所述第二光谱范围的辐射的至少一部分且将所述辐射的第二部分传输到所述第二传感器且阻断并不包含于所述辐射的第二部分中的辐射；
第三窄通滤波器，其定位于所述第三传感器与所述第三光学元件之间，经配置以接收所述第三光谱范围的辐射的至少一部分且将所述辐射的第三部分传输到所述第三传感器且阻断并不包含于所述辐射的第三部分中的辐射；以及
第四窄通滤波器，其定位于所述第四传感器与所述第三光学元件之间，经配置以接收所述第三光谱范围的辐射的至少一部分且将所述辐射的第四部分传输到所述第四传感器且阻断并不包含于所述辐射的第四部分中的辐射。
31.根据权利要求27所述的系统，其中所述第一传感器、所述第二传感器、所述第三传感器及所述第四传感器中的至少一者包含光电倍增管PMT。
32.根据权利要求27所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由所述第一传感器、所述第二传感器、所述第三传感器及所述第四传感器中的至少一者检测的光的一或多个光谱特性对所述经检测的一或多个光致发光缺陷进行分类。
33.根据权利要求27所述的系统，其中所述样本的所述一或多个光致发光缺陷包括：
一或多个堆垛层错缺陷及一或多个基面位错中的至少一者。
34.根据权利要求27所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由所述第二传感器及所述第三传感器中的至少一者检测的所述光将所述经检测的一或多个散射缺陷区分为凹坑缺陷或颗粒缺陷。
35.根据权利要求27所述的系统，其中所述样本为半导体装置。
36.根据权利要求35所述的系统，其中所述半导体装置为宽带隙半导体装置。
37.根据权利要求27所述的系统，其中所述斜入射源及所述法线入射源中的至少一者为激光器。
38.根据权利要求37所述的系统，其中所述斜入射源及所述法线入射源中的至少一者为紫外激光器。
39.根据权利要求38所述的系统，其中所述斜入射源及所述法线入射源中的至少一者为连续波CW激光器。
40.根据权利要求27所述的系统，其中经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程的所述样本台组合件包括：
旋转台组合件，其经配置以紧固所述样本且使所述样本选择性旋转以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行螺旋扫描过程。
41.根据权利要求27所述的系统，其中经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程的所述样本台组合件包括：
线性台组合件，其经配置以紧固所述样本且使所述样本沿着至少第一方向及垂直于所述第一方向的第二方向选择性平移以便使用至少所述斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行X-Y扫描过程。
42.根据权利要求27所述的系统，其中所述第一传感器经配置以测量从所述样本的一或多个光致发光缺陷发射的可见光致发光的光及近红外光中的至少一者，且所述第四传感器经配置以测量紫外光致发光的光。
43.根据权利要求27所述的系统，其中所述第二传感器经配置以测量来自所述样本的一或多个缺陷的在与由所述法线入射辐射源发射的所述光对应的波长下的散射辐射。
44.根据权利要求27所述的系统，其中所述第三传感器经配置以测量来自所述样本的一或多个缺陷的在与由所述斜入射辐射源发射的所述光对应的波长下的散射辐射。
45.根据权利要求27所述的系统，其中所述第二传感器及第三传感器中的至少一者经配置以测量来自所述样本的一或多个光致发光缺陷的紫外光致发光的光。
46.根据权利要求27所述的系统，其中所述系统经配置以同时或循序地检测光致发光缺陷及散射缺陷。
47.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统，其包括：
法线入射辐射源，其经配置以沿着实质上垂直于所述样本的表面的方向将法线照明波长的光束引导到所述样本的一部分上，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
样本台组合件，其经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程；
一组收集光学器件，其经配置以收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
滤波器子系统，其经配置以接收由所述组收集光学器件收集的所述辐射的至少一部分，其中所述滤波器子系统经配置以将来自所述样本的所述辐射分离成包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱或近红外光谱中的一或多个波长的辐射的第一部分、包含所述法线照明波长的辐射的第二部分、及包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的紫外光谱中的一或多个波长的辐射的至少第三部分；
检测子系统，其包含用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第一部分的一或多个特性的第一传感器、用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第二部分的一或多个特性的第二传感器、及用于测量由所述滤波器子系统传输的所述辐射的第三部分的一或多个特性的至少第三传感器；以及
控制器，其以通信方式耦合到所述第一传感器、所述第二传感器及所述第三传感器，所述控制器经配置以：
基于由所述第二传感器测量的所述光检测一或多个散射缺陷；以及
通过将在所述样本的不存在光致发光缺陷的区域中来自所述第一传感器及所述第三传感器中的至少一者的信号与从所述样本的经测量区域获取的来自所述第一传感器及所述第三传感器中的至少一者的信号进行比较，基于由所述第一传感器及所述第三传感器中的至少一者检测的所述光来检测一或多个光致发光缺陷。
48.根据权利要求47所述的系统，其中所述第二传感器及第三传感器中的至少一者经配置以测量来自所述样本的一或多个光致发光缺陷的紫外光致发光的光或近紫外光致发光的光。
49.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统，其包括：
法线入射辐射源，其经配置以沿着实质上垂直于所述样本的表面的方向将法线照明波长的光束引导到所述样本的一部分上，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
样本台组合件，其经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少斜入射辐射源及所述法线入射辐射源执行扫描过程；
一组收集光学器件，其经配置以收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
滤波器子系统，其经配置以接收由所述组收集光学器件收集的所述辐射的至少一部分，其中所述滤波器子系统经配置以将来自所述样本的所述辐射分离成光致发光辐射的多个部分，每一部分包含由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述辐射的不同光谱范围中的一或多个波长；
检测子系统，其包含多个传感器，每一传感器适于测量由所述滤波器子系统传输的所述光致发光辐射的多个部分中的一者的一或多个特性；以及
控制器，其以通信方式耦合到所述多个传感器中的每一者，所述控制器经配置以：
通过将在所述样本的不存在光致发光缺陷的区域中来自所述多个传感器中的至少一者的信号与从所述样本的经测量区域获取的来自所述多个传感器中的至少一者的信号进行比较，基于由所述多个传感器中的每一者检测的所述光来检测一或多个光致发光缺陷；
以及
基于由所述多个传感器中的每一者测量的一或多个信号对所述一或多个经检测的光致发光缺陷进行分类。
50.根据权利要求49所述的系统，其进一步包括：
斜入射辐射源，其经配置以沿着相对于所述样本的所述表面倾斜的方向将斜照明波长的光束引导到所述样本的一部分上。
51.根据权利要求50所述的系统，其中所述滤波器子系统进一步经配置以将所述辐射分离成包含所述法线照明波长的辐射的一部分及包含所述斜照明波长的辐射的至少额外部分中的至少一者。
52.根据权利要求51所述的系统，其中所述检测子系统包含以下中的至少一者：适于测量包含由所述滤波器子系统传输的所述法线照明波长的所述辐射的部分的一或多个特性的传感器；及适于测量包含由所述滤波器子系统传输的所述斜照明波长的所述辐射的至少额外部分的额外传感器。
53.根据权利要求52所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由适于测量包含所述法线照明波长的所述辐射的部分的一或多个特性的所述传感器及适于测量包含所述斜照明波长的所述辐射的至少额外部分的所述额外传感器中的至少一者测量的所述光来检测一或多个散射缺陷。
54.根据权利要求49所述的系统，其中所述滤波器子系统包含多个光学元件及多个窄频带滤波器以便将从所述样本接收的所述辐射分离成多个光谱频格。
55.根据权利要求54所述的系统，其中所述多个光学元件及所述多个窄频带滤波器根据所述样本的一或多个光致发光缺陷的一或多个预期光谱特性定义所述多个光谱频格中的每一者。
56.根据权利要求55所述的系统，其中所述多个光学元件及所述多个窄频带滤波器将多个半幅值全宽值实质上匹配到光致发光光谱的一组对应强度峰值，其中每一强度峰值指示一类型的堆垛层错的存在。
57.根据权利要求49所述的系统，其中所述滤波器子系统包含多个光学元件及多个窄频带滤波器，以便将从所述样本接收的所述辐射分离成多个NUV光谱频格、多个UV频格及多个可见光谱频格中的至少一者。
58.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的方法，其包括：
沿着相对于所述样本的表面倾斜的方向将斜照明波长光束引导到所述样本的一部分上；
沿着实质上垂直于所述样本的所述表面的方向将法线照明波长光束引导到所述样本的一部分上，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
将来自所述样本的所述辐射分离成包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱中的一或多个波长的辐射的第一部分、包含所述法线照明波长光的辐射的第二部分及包含所述斜照明波长光的辐射的至少第三部分；
测量所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的一或多个特性；
基于所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个散射缺陷；以及
通过将从所述样本的不存在光致发光缺陷的区域获取的所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的所述一或多个特性与从所述样本的经测量区域获取的所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的一或多个特性进行比较，基于所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个光致发光缺陷。
59.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的方法，其包括：
沿着相对于所述样本的表面倾斜的方向将斜照明波长光束引导到所述样本的一部分上；
沿着实质上垂直于所述样本的所述表面的方向引导法线照明波长光束，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
将来自所述样本的所述辐射分离成包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱或近红外光谱中的一或多个波长的辐射的第一部分、包含所述法线照明波长的辐射的第二部分、包含所述斜照明波长的辐射的第三部分、及包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光致发光的光相关联的紫外光谱中的一或多个波长的辐射的至少第四部分；
测量所述辐射的第一部分中的至少一者的一或多个特性、所述辐射的第二部分的一或多个特性、所述辐射的第三部分的一或多个特性及所述辐射的第四部分的一或多个特性；
基于所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个散射缺陷；以及
通过将从所述样本的不存在光致发光缺陷的区域获取的所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分、所述辐射的第三部分及所述辐射的第四部分中的至少一者的所述一或多个特性与从所述样本的经测量区域获取的所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分、所述辐射的第三部分及所述辐射的第四部分中的至少一者的一或多个特性进行比较，基于所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分、所述辐射的第三部分及所述辐射的第四部分中的至少一者的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个光致发光缺陷。
60.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的方法，其包括：
沿着实质上垂直于所述样本的表面的方向引导法线照明波长光束，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
将来自所述样本的所述辐射分离成包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱或近红外光谱中的一或多个波长的辐射的第一部分、包含所述法线照明波长的辐射的第二部分、及包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光致发光的光相关联的紫外光谱中的一或多个波长的辐射的至少第三部分；
测量所述辐射的第一部分中的至少一者的一或多个特性、所述辐射的第二部分的一或多个特性及所述辐射的第三部分的一或多个特性；
基于所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个散射缺陷；以及
通过将从所述样本的不存在光致发光缺陷的区域获取的所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的所述一或多个特性与从所述样本的经测量区域获取的所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分及所述辐射的第三部分中的至少一者的一或多个特性进行比较，基于所述辐射的第一部分、所述辐射的第二部分、所述辐射的第三部分及辐射的第四部分中的至少一者的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个光致发光缺陷。
61.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的方法，其包括：
沿着实质上垂直于所述样本的表面的方向将法线照明波长光束引导到所述样本的一部分上，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
将来自所述样本的所述辐射分离成光致发光辐射的多个部分，每一部分包含由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光的不同光谱范围中的一或多个波长；
测量所述光致发光辐射的多个部分中的每一者的一或多个特性；
基于所述光致发光辐射的多个部分中的每一者的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个光致发光缺陷；以及
基于与所述光致发光辐射的多个部分中的每一者相关联的一或多个信号对所述一或多个经检测的光致发光缺陷进行分类。
62.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的方法，其包括：
沿着实质上垂直于所述样本的表面的方向将法线照明波长光束引导到所述样本的一部分上，其中所述法线照明波长的所述光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；
沿着相对于所述样本的所述表面倾斜的方向将斜照明波长光束引导到所述样本的一部分上；
收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的一或多个缺陷弹性散射的辐射或由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的光致发光辐射中的至少一者；
将来自所述样本的所述辐射分离成光致发光辐射的可见部分及光致发光辐射的近紫外NUV部分；
测量所述光致发光辐射的可见部分及所述光致发光辐射的NUV部分的一或多个特性；
基于所述光致发光辐射的可见部分及所述光致发光辐射的NUV部分的所述经测量的一或多个特性来检测一或多个光致发光缺陷；以及
基于与所述光致发光辐射的可见部分及所述光致发光辐射的NUV部分相关联的一或多个信号对所述一或多个经检测的光致发光缺陷进行分类。