薄膜触摸传感器
阅读：67发布：2021-10-25
专利汇可以提供薄膜触摸传感器专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及 薄膜 触摸 传感器 。本发明包括：分离层；第一保护层，其形成在分离层上；触摸感测层，其形成在第一保护层上；第二保护层，其形成在触摸感测层上；和光学补偿层，其形成在第一保护层与触摸感测层之间或在触摸感测层与第二保护层之间，并且对形成有构成触摸感测层的透明 电极 图案的 图案化 区域与未形成有透明电极图案的非图案化区域之间的透射率差异进行补偿。根据本发明，通过对形成所述触摸感测层的图案化区域与非图案化区域之间的透射率差异进行补偿，防止这些区域在视觉上可区分，且改进透过图案化区域的光透射率，并且由此可以改进图像 质量 。，下面是薄膜触摸传感器专利的具体信息内容。
1.一种薄膜触摸传感器，包括：
分离层；
第一保护层，其形成在所述分离层上；
触摸感测层，其形成在所述第一保护层上；
第二保护层，其形成在所述触摸感测层上；和
光学补偿层，其形成在所述第一保护层与所述触摸感测层之间或所述触摸感测层与所述第二保护层之间，对形成有构成所述触摸感测层的透明电极图案的图案化区域与未形成有所述透明电极图案的非图案化区域之间的透射率差异进行补偿。
2.如权利要求1所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述图案化区域的厚度在 至 的范围内，并且所述图案化区域与所述光学补偿层之间的厚度比(图案化区域的厚度/光学补偿层的厚度)等于或大于0.3但等于或小于0.8。
3.如权利要求1所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述图案化区域的厚度在 至 的范围内，并且所述光学补偿层与所
述图案化区域之间的厚度比(光学补偿层的厚度/图案化区域的厚度)等于或大于0.07但等于或小于0.7。
4.如权利要求1所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述光学补偿层的折射率大于所述第一保护层的折射率但等于或小于所述透明电极图案的折射率。
5.如权利要求4所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述光学补偿层的折射率等于或大于1.6但等于或小于2.1。
6.如权利要求5所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述光学补偿层的折射率等于或大于1.6但等于或小于1.8。
7.如权利要求1所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述光学补偿层包括无机绝缘膜。
8.如权利要求1所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述光学补偿层包含选自包括Al2O3、MgO、NdF3、SiON、Y2O3、ZnO、TiO2、ZrO2和Nb2O5的群组中的至少一个。
9.如权利要求1所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述光学补偿层包括有机绝缘膜。
10.如权利要求1所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述光学补偿层包含含有无机微粒的有机材料。
11.如权利要求10所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述无机微粒的含量相对于所述光学补偿层的总重量等于或大于40wt％但等于或小于95wt％。
12.如权利要求10所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述有机材料包括选自包括丙烯酸树脂、氨基甲酸乙酯树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、硅氧烷聚合物、有机硅烷缩合物的群组中的至少一个。
13.如权利要求10所述的薄膜触摸传感器，
其中，所述无机微粒包含选自包括Al2O3、MgO、NdF3、SiON、Y2O3、ZnO、TiO2、ZrO2和Nb2O5的群组中的至少一个。
14.如权利要求10所述的薄膜触摸传感器，
其中，通过控制所述无机微粒的含量来调整所述光学补偿层的折射率。
15.如权利要求10所述的薄膜触摸传感器，
其中，分布的无机微粒的平均直径等于或大于10nm但等于或小于200nm。
薄膜触摸传感器
技术领域
[0001] 本发明涉及薄膜触摸传感器。更具体地说，本发明涉及一种这样的薄膜触摸传感器：其对构成触摸感测层的图案化区域与非图案化区域之间的透射率差异进行补偿，从而防止可区分地辨认出图案化区域和非图案化区域的现象，并且能够增强透过图案化区域的光学透射率，由此增强图像质量。
背景技术
[0003] 通常，在触摸传感器中，提供包括在相互交叉的方向上形成的透明电极图案的触摸感测层作为用于感测用户的触摸动作的元件，并且该触摸感测层可以根据透明电极图案是否存在划分为图案化区域和非图案化区域。
[0004] 由于穿过这样的图案化区域和非图案化区域的光透射率彼此不同，因此产生图案化区域和非图案化区域被彼此可区分地辨认出的问题。
[0005] 此外，因为与非图案化区域的透射率相比，图案化区域的透射率相对较低，所以产生图像质量降低的问题。
[0006] [现有技术文献]
[0008] (专利文献0001)韩国专利公开第10-2013-0129625号(公开日期：2013年11月29日，标题：具有复合底涂层的透明导电膜及其制造方法、使用其的触摸面板)
[0009] (专利文献0002)韩国专利公开第10-2015-0107969(公开日期：2015年9月24日，标题：用于透明电极的高折射率防静电硬涂膜)
发明内容
[0010] 技术问题
[0011] 本发明的技术问题是提供一种薄膜触摸传感器，其能够对构成触摸感测层的图案化区域与非图案化区域之间的透射率差异进行补偿，从而防止可区分地辨认出图案化区域和非图案化区域的现象。
[0012] 此外，本发明的另一技术问题是提供一种薄膜触摸传感器，其能够增强穿过触摸感测层的图案化区域的光学透射率，由此增强图像质量。
[0013] 技术方案
[0014] 为了解决上述问题，根据本发明的触摸传感器包括：分离层；第一保护层，其形成在分离层上；触摸感测层，其形成在所述第一保护层上；第二保护层，其形成在所述触摸感测层上；和光学补偿层，其形成在所述第一保护层与所述触摸感测层之间或所述触摸感测层与所述第二保护层之间，对形成有构成所述触摸感测层的透明电极图案的图案化区域与未形成有所述透明电极图案的非图案化区域之间的透射率差异进行补偿。
[0015] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述图案化区域的厚度在至 的范围内，并且所述图案化区域与所述光学补偿层之间的厚度比(图案化区域的厚度/光学补偿层的厚度)等于或大于0.3但等于或小于0.8。
[0016] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述图案化区域的厚度在至 的范围内，并且所述光学补偿层与所述图案化区域之间的厚度比(光学补偿层的厚度/图案化区域的厚度)等于或大于0.07但等于或小于0.7。
[0017] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述光学补偿层的折射率大于所述第一保护层的折射率但等于或小于所述透明电极图案的折射率。
[0018] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述光学补偿层的折射率等于或大于1.6但等于或小于2.1。
[0019] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述光学补偿层的折射率等于或大于1.6但等于或小于1.8。
[0020] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述光学补偿层包括无机绝缘膜。
[0021] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述光学补偿层包含选自包括Al2O3、MgO、NdF3、SiON、Y2O3、ZnO、TiO2、ZrO2和Nb2O5的群组中的至少一个。
[0022] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述光学补偿层包括有机绝缘膜。
[0023] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述光学补偿层包括含有无机微粒的有机材料。
[0024] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述无机微粒的含量相对于所述光学补偿层的总重量等于或大于40wt％但等于或小于95wt％。
[0026] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，所述无机微粒包括选自包括Al2O3、MgO、NdF3、SiON、Y2O3、ZnO、TiO2、ZrO2和Nb2O5的群组中的至少一个。
[0027] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，通过控制所述无机微粒的含量调整所述光学补偿层的折射率。
[0028] 在根据本发明的薄膜触摸传感器中，其特征在于，分布的无机微粒的平均直径等于或大于10nm但等于或小于200nm。
[0029] 在根据本发明第一方面的薄膜触摸传感器中，所述光学补偿层形成在所述第一保护层上，其中，所述触摸感测层包括：第一透明电极图案，其形成在所述光学补偿层上，使得沿着第一方向彼此连接；第二透明电极图案，其形成在所述光学补偿层上，使得沿着与所述第一方向交叉的第二方向彼此分离；绝缘部分，其形成在所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案和所述光学补偿层的整个表面上，使得所述第一透明电极图案与所述第二透明电极图案绝缘；和桥接图案，其形成在接触孔中以及所述接触孔之间的所述绝缘部分上以电连接相邻第二透明电极图案，所述接触孔以暴露相邻第二感测电极图案的一部分的方式形成在所述绝缘部分中。
[0030] 在根据本发明第二方面的薄膜触摸传感器中，所述光学补偿层形成在所述触摸感测层上，其中，所述触摸感测层包括：第一透明电极图案，其形成在所述第一保护层上，使得沿着第一方向彼此连接；第二透明电极图案，其形成在所述第一保护层上，使得沿着与所述第一方向交叉的第二方向彼此分离；绝缘部分，其形成在所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案和所述第一保护层的整个表面上，使得所述第一透明电极图案与所述第二透明电极图案绝缘；和桥接图案，其形成在接触孔中以及所述接触孔之间的所述绝缘部分上以电连接相邻第二透明电极图案，所述接触孔以暴露相邻第二感测电极图案的一部分的方式形成在所述绝缘部分中。
[0031] 在根据本发明第三方面的薄膜触摸传感器中，所述光学补偿层形成在所述第一保护层上，其中，所述触摸感测层包括：第一透明电极图案，其形成在所述光学补偿层上，使得沿着第一方向彼此连接；第二透明电极图案，其形成在所述光学补偿层上，使得沿着与所述第一方向交叉的第二方向彼此分离；绝缘部分，其形成在所述所述第一透明电极图案的整个表面上以及所述第一感测电极图案与所述第二透明电极图案之间暴露的所述光学补偿层上，使得所述第一透明电极图案与所述第二透明电极图案绝缘；和桥接图案，其形成在所述绝缘部分上，使得与相邻第二透明电极图案接触，以电连接所述相邻第二透明电极图案。
[0032] 在根据本发明第四方面的薄膜触摸传感器中，所述光学补偿层形成在所述触摸感测层上，其中，所述触摸感测层包括：第一透明电极图案，其形成在所述第一保护层上，使得沿着第一方向彼此连接；第二透明电极图案，其形成在所述第一保护层上，使得沿着与所述第一方向交叉的第二方向彼此分离；绝缘部分，其形成在所述第一透明电极图案的整个表面上以及所述第一感测电极图案与所述第二透明电极图案之间暴露的所述第一保护层上，使得所述第一透明电极图案与所述第二透明电极图案绝缘；和桥接图案，其形成在所述绝缘部分上，使得与相邻第二透明电极图案接触，以电连接所述相邻第二透明电极图案。
[0033] 在根据本发明第五方面的薄膜触摸传感器中，所述光学补偿层形成在所述第一保护层上，其中，所述触摸感测层包括：桥接图案，其形成在所述光学补偿层上；绝缘部分，其以暴露所述桥接图案的一部分的方式形成在所述桥接图案上；第一透明电极图案，其形成在所述绝缘部分上，使得沿着第一方向彼此连接；和第二透明电极图案，其沿着与所述第一方向交叉的第二方向形成在所述桥接图案的暴露区域和所述光学补偿层上，其中，相邻第二透明电极图案以所述桥接图案作为媒介电连接。
[0034] 在根据本发明第六方面的薄膜触摸传感器中，所述光学补偿层形成在所述触摸感测层上，其中，所述触摸感测层包括：桥接图案，其形成在所述第一保护层上；绝缘部分，其以暴露所述桥接图案的一部分的方式形成在所述桥接图案上；第一透明电极图案，其形成在所述绝缘部分上，使得沿着第一方向彼此连接；第二透明电极图案，其沿着与所述第一方向交叉的第二方向形成在所述桥接图案的暴露区域和所述第一保护层上，其中，相邻第二透明电极图案以所述桥接图案作为媒介电连接。
[0035] 有益效果
[0036] 根据本发明，存在提供能够对构成触摸感测层的图案化区域与非图案化区域之间的透射率差异进行补偿以防止可区分地辨认出这些区域的现象的薄膜触摸传感器的效果。
[0038] 图1是示出根据本发明示例性实施例的薄膜触摸传感器的整体平面形状的示意图。
[0039] 图2是根据本发明第一示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。
[0040] 图3是根据本发明第二示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。
[0041] 图4是根据本发明第三示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。
[0042] 图5是根据本发明第四示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。
[0043] 图6是根据本发明第五示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。
[0044] 图7是根据本发明第六示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。
具体实施方式
[0045] 由于仅为了描述根据本发明的概念的实施例而例示本文公开的根据本发明的概念的实施例的具体结构或功能描述，因此根据本发明的概念的实施例可以通过各种形式得以实施，而不限于本文所述的实施例。
[0046] 虽然本发明实施例容易进行各种修改和替换形式，但在附图中以示例的方式示出并且将在本文中详细描述其特定实施例。然而，应理解，并不意图将本发明限于所公开的特定形式，而相反，本发明欲覆盖落入本发明的精神和范围内的所有修改、等同物和替代物。
[0047] 应理解，虽然本文可以使用术语“第一”、“第二”等以描述各种要素，但这些要素不应受这些术语的限制。这些术语仅用以将一个要素与另一要素区分。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，第一要素可以命名为第二要素，并且类似地，第二要素可以命名为第一要素。
[0048] 应理解，当要素称为“连接”或“耦合”到另一要素时，它可以直接连接或耦合到所述另一要素，也可以存在中间要素。相反，当要素称为“直接连接”或“直接耦合”到另一要素时，不存在中间要素。应以类似的方式解释用以描述要素之间关系的其他表述(即，“在......之间”针对“直接在......之间”，“相邻”针对“直接相邻”等)。
[0049] 本文使用的术语仅用于描述特定实施例的目的，并不意图限制本发明。如本文所使用的，单数形式“一”、“一个”和“该”也意图包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。将进一步理解，术语“包括”、“包含”、“含有”和/或“包括”当在本文中使用时指定所提及的特征、数字、步骤、操作、要素、构件和/或其组合的存在，但不排除存在或添加一个或多个其他特征、数字、步骤、操作、要素、构件和/或其组合。
[0050] 除非另外定义，否则本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。将进一步理解，例如在常用词典中定义的那些术语应解释为具有与其在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且将不解释为理想化或过于形式化的含义，除非本文明确定义如此。
[0051] 在下文中，将参照附图详细描述本发明优选示例性实施例。
[0052] 图1是示出根据本发明示例性实施例的薄膜触摸传感器的整体平面形状的示意图。
[0053] 参照图1，基于是否显示视觉信息，可以将根据本发明示例性实施例的薄膜触摸传感器划分为显示区域和非显示区域。在图1中，为了增强非显示区域中提供的元件的可辨认性，非显示区域示出为从实际大小放大。
[0055] 在位于显示区域外围的非显示区域中形成：电极焊盘，其电连接到感测图案；感测线路、其电连接到电极焊盘；和键合焊盘，其电连接到感测线路。将在显示区域中检测到的触摸信号传送到未示出的驱动单元的柔性印制电路(FPC)连接到键合焊盘。
[0056] 图2是根据本发明第一示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。也就是说，图2的(a)部分是根据本发明的第一示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图，图2的(b)部分是部分元件的平面图。
[0057] 参照图2，根据本发明第一示例性实施例的薄膜触摸传感器包括：分离层10、第一保护层20、光学补偿层31、触摸感测层41和第二保护层50。
[0058] 分离层10是用于在制造根据本发明第一示例性实施例的薄膜触摸传感器的工艺中从硬材料(例如玻璃等)的载体衬底剥离而形成的层。虽然稍后将对其进行描述，但分离层10还可以通过围绕在上侧形成的触摸感测层41来执行其包覆和绝缘的功能。
[0059] 当满足提供一定水平的剥离强度和透明度的要求时，分离层10的材料并非特别受限制。例如，分离层10可以由聚合物(例如聚酰亚胺、聚乙烯醇、聚酰胺酸、聚酰胺、聚乙烯、聚苯乙烯、聚降冰片烯、苯基马来酰亚胺共聚物、聚偶氮苯、聚苯撑邻苯二甲酰胺、聚酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚芳酯、肉桂酸酯、香豆素、邻苯二甲酰亚胺、查耳酮、芳香族乙炔等)制成，并且可以单独地或以至少两种的组合使用它们。
[0060] 虽然分离层10的剥离强度并非具体地受限制，但例如，它可以等于或大于0.011N/25mm并且等于或小于1N/25mm，但优选地，可以等于或大于0.01N/25mm，等于或小于0.1N/
25mm。当满足上述范围时，在触摸传感器的制造工艺期间可以容易地实现从载体衬底的剥离而没有残留物，且可减少由在剥离时发生的张力导致的卷曲以及裂纹。
25mm。当满足上述范围时，在触摸传感器的制造工艺期间可以容易地实现从载体衬底的剥离而没有残留物，且可减少由在剥离时发生的张力导致的卷曲以及裂纹。
[0061] 虽然分离层10的厚度并非特别受限，例如，它可以是10至1000nm，但优选地，可以是50至500nm。当满足上述范围时，剥离强度得以稳定，并且可以均匀地形成图案。
[0062] 第一保护层20形成在分离层10与触摸感测层41之间，并且是根据需要可以省略的可选元件。第一保护层20连同分离层10一起包覆并且保护触摸感测层41，并且执行防止分离层10在根据本发明第一示例性实施例的触摸传感器的制造工艺期间暴露于用于形成触摸感测层41的蚀刻剂的功能。
[0063] 至于第一保护层20的材料，可以使用本领域公知的聚合物而没有限制，例如，可以应用有机绝缘膜，并且尤其，它可以是由含有多元醇和三聚氰胺固化剂的固化组合物的材料形成的材料，但不限于这些。
[0064] 至于多元醇的具体类型，可以举例聚醚二醇衍生物、聚酯二醇衍生物、聚己内酯二醇衍生物等，但不限于这些示例。
[0065] 至于三聚氰胺固化剂的具体类型，可以举例甲氧基甲基三聚氰胺衍生物、甲基三聚氰胺衍生物、丁基三聚氰胺衍生物、异丁氧基三聚氰胺衍生物、丁氧基三聚氰胺衍生物等，但不限于这些示例。
[0066] 至于其他示例，可以通过有机-无机混合可固化组合物形成保护层20，并且优选同时使用有机化合物和无机化合物，因为可以减少在剥离时产生的裂缝。
[0068] 光学补偿层31形成在第一保护层20上，并且执行对形成有构成触摸感测层41的透明电极图案的图案化区域与未形成有透明电极图案的非图案化区域之间的透射率差异进行补偿的功能。
[0069] 将以下对此进行详细描述。
[0070] 参照示出根据本发明第一示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图的图2的(a)部分以及示出对应于截面图的触摸感测层41的元件的图2的(b)部分，根据沿着上下方向的堆叠结构，薄膜触摸传感器可以划分为图案化区域和非图案化区域。
[0071] 如果没有插入光学补偿层31，则非图案化区域具有堆叠有分离层10、第一保护层20和第二保护层50的结构，并且图案化区域具有不仅堆叠有分离层10、第一保护层20和第二保护层50而且还附加地堆叠有第一透明电极图案410或第二透明电极图案420或桥接图案470的结构。如图2的(b)部分中所公开的，非图案化区域是第一透明电极图案410与第二透明电极图案420之间的间隔区域，并且图案化区域是除了非图案化区域之外的区域。非图案化区域和图案化区域的堆叠结构差异导致透过这些区域的光的透射率差异，并且归因于这种光的透射率差异，产生可区分地辨认出图案化区域和非图案化区域的问题。
[0072] 相反，根据本发明的第一示例性实施例，当光学补偿层31插入在第一保护层20与触摸感测层41之间时，光学补偿层31对图案化区域与非图案化区域之间的透射率差异进行补偿，因此，图案化区域和非图案化区域无法被用户辨认至可区分的程度。
[0073] 例如，作为用于适当地对图案化区域与非图案化区域之间的透射率差异(更具体地说，因这些区域中的折射率之间的差异而导致的光学透射率差异)进行补偿的手段，考虑到位于传播光的路径中的介质的厚度会影响透射率，当图案化区域的厚度为 至时，图案化区域与光学补偿层31之间的厚度比(图案化区域的厚度/光学补偿层的厚度)可以设置为0.3至0.8，并且当图案化区域的厚度为 至 时，光学补偿层31与图案化区域之间的厚度比(光学补偿层31的厚度/图案化区域的厚度)可以设置为0.07至
0.7。
0.7。
[0074] 例如，光学补偿层31的折射率被配置为大于第一保护层20并且等于或小于构成触摸感测层41的透明电极图案的折射率，并且作为具体示例，光学补偿层31的折射率可以被配置为等于或大于1.6并且等于或小于2.1，并且更优选地，可以被配置为等于或大于1.6并且等于或小于1.8。当以此方式配置时，插入在第一保护层20与触摸感测层41之间的光学补偿层31具有第一保护层20的折射率与触摸感测层41的折射率之间的折射率，因此可以防止归因于第一保护层20与触摸感测层41之间的折射率的急剧差异导致的光学损耗。当折射率小于1.6时，非图案化区域的透射率增加，因此存在可辨认性增加的问题。当折射率超过2.1时，非图案化区域的透射率降低，因此存在可辨认性增加的问题。此外，光学补偿层31的厚度太薄，从而具有在薄膜形成工艺期间控制厚度均匀性方面产生难度的问题。
[0075] 以下表1至表4是根据光学补偿层的厚度和折射率对透明电极图案可辨认性进行的测试结果以及对形成有透明电极图案的图案化区域的透射率进行的测试结果。
[0076] 在该测试中，通过以下操作制备具有图案化区域的透明电极的测试样本：在700μm厚玻璃衬底上形成肉桂酸酯类分离层，在分离层上形成聚烯烃类保护层，在保护层上形成光学补偿层，并且在光学补偿层上用ITO形成电极图案。随后，形成聚烯烃树脂的第二保护层。
[0077] 除了用ITO形成电极图案层的工艺之外，以与具有图案化区域的透明电极的测试样本相同的方式制备具有非图案化区域的透明电极的测试样本。
[0078] 以这样的方式在具有图案化区域和非图案化区域的测试样本上形成光学补偿层：通过将10nm直径的ZrO2无机微粒添加到聚烯烃树脂中而仅在玻璃上形成光学补偿层，使得当由用于薄膜的厚度和折射率测量仪ST400-DLX(K-Mac Co.)测量时，光学补偿层的厚度和折射率具有表1中的厚度和折射率。
[0079] 以下表1示出当透明电极图案的厚度为 时根据光学补偿层的厚度和折射率对透明电极图案可辨认性进行的测试结果。在分别测量图案化区域与非图案化区域的透射率之后以它们之间的透射率差异值表示可辨认性测试结果。单位是百分比。测量装置是CM3700D(Konica-Minolta公司)，并且至于透射率，在标准光源D65下测量可见度透射率(Y_D65)。
[0080] [表1]
[0081]
[0082] 以下表2示出当透明电极图案的厚度为 时根据光学补偿层的厚度和折射率对形成有透明电极图案的图案化区域的透射率进行的测试结果。
[0083] [表2]
[0084]
[0085] 参照表1和2，在透明电极图案的厚度为 并且光学补偿层的折射率为1.6至2.1(更优选地，1.6至1.8)的条件下，当同时考虑透明电极图案的可辨认性和图案化区域的透射率二者时，光学补偿层优选具有 至 的厚度，并且在此情况下，图案化区域与光学补偿层之间的厚度比(图案化区域的厚度/光学补偿层的厚度)为0.3至0.8。
[0086] 以下表3示出当透明电极图案的厚度为 时根据光学补偿层的厚度和折射率对透明电极图案可辨认性进行的测试结果。
[0087] [表3]
[0088]
[0089] 以下表4示出当透明电极图案的厚度为 时根据光学补偿层的厚度和折射率对形成有透明电极图案的图案化区域的透射率进行的测试结果。
[0090] [表4]
[0091]
[0092] 参照表3和4，在透明电极图案的厚度为 并且光学补偿层的折射率为1.6至2.1(更优选地，1.6至1.8)的条件下，当同时考虑透明电极图案的可辨认性和图案化区域的透射率二者时，光学补偿层优选具有 至 的厚度，并且在此情况下，光学补偿层与图案化区域之间的厚度比(光学补偿层的厚度/图案化区域的厚度)为0.07至0.7。
[0093] 作为示例，光学补偿层31可以被配置为包括无机绝缘膜，并且作为具体示例，其可以被配置为包含选自包括Al2O3、MgO、NdF3、SiON，Y2O3、ZnO、TiO2、ZrO2和Nb2O5的群组中的至少一个。
[0094] 作为另一示例，光学补偿层31可以被配置为包括有机绝缘膜，并且作为具体示例，其可以被配置为包含含有无机微粒的有机材料。
[0095] 当光学补偿层31被配置为包含含有无机微粒的有机材料时，例如，无机微粒的含量可以被配置为相对于光学补偿层31的总重量等于或大于40wt％但等于或小于95wt％。如果无机微粒的含量小于40wt％，则存在这样的问题：膜的厚度必须更厚以实现相同折射率，并且归因于有机材料的量的增加，当弯曲时(即，当弯曲触摸传感器时)可能产生裂缝。如果无机微粒的含量大于95wt％，则存在这样的问题：能够粘合微粒的有机材料的量很小，因此与位于光学补偿层31的上侧和下侧的元件的粘附力下降。
[0096] 当光学补偿层31被配置为包含含有无机微粒的有机材料时，例如，有机材料可以包括选自包括丙烯酸树脂、氨基甲酸乙酯树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、硅氧烷聚合物、有机硅烷缩合物的群组中的至少一个，但不限于这些。
[0097] 当光学补偿层31被配置为包含含有无机微粒的有机材料时，无机微粒可以被配置为包含选自包括Al2O3、MgO、NdF3、SiON、Y2O3、ZnO、TiO2、ZrO2和Nb2O5的群组中的至少一个，但不限于这些。
[0098] 当光学补偿层31被配置为包含含有无机微粒的有机材料时，例如，它可以被配置为通过控制无机微粒的含量来调整光学补偿层31的折射率。例如，通过增加无机微粒的含量来增加光学补偿层31的折射率，反之，通过降低无机微粒的含量来降低光学补偿层31的折射率。
[0099] 当光学补偿层31被配置为包含含有无机微粒的有机材料时，例如，分布的无机微粒的平均直径可以被配置为等于或大于10nm但等于或小于200nm。
[0100] 触摸感测层41形成在光学补偿层31上，并且其为用于检测用户输入的触摸信号的元件。
[0101] 例如，可以根据所应用的电子装置的要求以适当的形状形成构成触摸感测层41的感测图案，例如，当其应用于触摸屏面板时，其可以由两种类型的图案形成，即，用于检测x坐标的图案和用于检测y坐标的图案，但不限于这些。
[0102] 例如，触摸感测层41可以包括第一透明电极图案410、第二透明电极图案420、绝缘部分450和桥接图案470。
[0103] 第一透明电极图案410沿着第一方向形成为彼此电连接；第二透明电极图案420沿着第二方向形成为彼此电气分离；并且第二方向与第一方向交叉。例如，如果第一方向是X方向，则第二方向可以是Y方向。
[0104] 绝缘部分450形成在第一透明电极图案410与第二透明电极图案420之间，并且电绝缘第一透明电极图案410和第二透明电极图案420。更具体地说，绝缘部分450形成在第一透明电极图案410、第二透明电极图案420和光学补偿层31的整个表面上，并且在绝缘部分450中形成有用于暴露第二感测电极图案的一部分的接触孔。
[0105] 桥接图案470形成在绝缘部分450中所形成的接触孔中以及在接触孔之间的绝缘部分450上，并且电连接相邻第二透明电极图案420。
[0106] 至于第一透明电极图案410、第二透明电极图案420和桥接图案470，可以使用任何透明导电材料而没有限制，例如，它可以通过选自以下的材料形成：选自包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟锌锡(IZTO)、氧化铝锌(AZO)、氧化镓锌(GZO)、氧化氟锡(FTO)、氧化铟锡-银-氧化铟锡(ITO-Ag-ITO)、氧化铟锌-银-氧化铟锌(IZO-Ag-IZO)、氧化铟锌锡-银-氧化铟锌锡(IZTO-Ag-IZTO)和氧化铝锌-银-氧化铝锌(AZO-Ag-AZO)的群组中的金属氧化物；选自包括金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、钼(Mo)和APC的群组中的金属；由选自包括金、银、铜和铅的群组中的金属制成的纳米引线；选自包括碳纳米管(CNT)和石墨烯的群组中的碳基材料；以及选自包括聚(3,4-亚乙基二氧噻吩)(PEDOT)和聚苯胺(PANI)的群组中的导电聚合物材料，可以单独地或以它们中两个以上的混合物使用它们，并且优选地，可以使用氧化铟锡。结晶和非结晶的氧化铟锡都是可使用的。
[0107] 触摸感测层41的厚度并非特别受限；然而，考虑触摸传感器的柔性，如果可能，则优选薄膜。
[0108] 例如，构成触摸感测层41的第一透明电极图案410和第二透明电极图案420可彼此独立地形成为多边形图案(例如三角形、矩形、五边形、六边形、七边形或具有多于七个的边等)。
[0109] 此外，例如，触摸感测层41可以包括规则图案。规则图案意味着图案的形状具有规则性。例如，感测图案可以彼此独立地包括类似网格的形状(例如矩形或正方形)或由六边形组成的图案。
[0110] 此外，例如，感测层41可以包括不规则图案。不规则图案意味着图案的形状包含不规则性。
[0111] 此外，例如，当构成触摸感测层41的感测图案由金属纳米引线、碳基材料、聚合物基材料等形成时，感测图案可以具有网状结构。当感测图案具有网状结构时，可以实现具有高灵敏度的图案，因为信号顺序地传送到相互接触并且相邻的图案。
[0112] 例如，构成触摸感测层41的感测图案可以由单个层或多个层形成。
[0113] 至于用于使得第一透明电极图案410和第二透明电极图案420绝缘的绝缘部分450的材料，可以使用本领域已知的任何绝缘材料而没有限制，例如，可以使用金属氧化物(例如硅基氧化物)、含有丙烯酸树脂的光敏树脂组合物或热塑性树脂组合物。或者，可以使用无机材料(例如氧化硅(SiOx))形成绝缘部分450，并且在此情况下，可以使用例如蒸镀、溅射等的方法形成它们。
[0114] 第二保护层50由绝缘材料形成，并且形成为覆盖构成触摸感测层41的第一透明电极图案410、第二透明电极图案420、绝缘部分450和桥接图案470，从而它执行将触摸感测层41与外部绝缘并且保护的功能。
[0115] 例如，可以通过使与触摸感测层41接触的表面的相对表面平面化的方式形成第二保护层50。
[0116] 此外，例如，第二保护层50可以由单个层或两层以上的多个层形成。
[0117] 此外，例如，至于第二绝缘层50的材料，可以使用本领域已知的任何绝缘材料而没有限制，例如，可以使用金属氧化物(例如硅基氧化物)、含有丙烯酸树脂的光敏树脂组合物或热塑性树脂组合物。
[0118] 图3是根据本发明第二示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。也就是说，图3的(a)部分是根据本发明第二示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图，图3的(b)部分是部分元件的平面图。
[0119] 参照图3，根据本发明第二示例性实施例的薄膜触摸传感器包括分离层10，第一保护层20、光学补偿层32、触摸感测层41和第二保护层50。在下文中，为了避免重复说明，将着重针对第二示例性实施例相比于第一示例性实施例的的差异描述第二示例性实施例。
[0120] 与先前详细描述的第一示例性实施例不同，根据第二示例性实施例，光学补偿层32形成在触摸感测层41上，并且触摸感测层41形成在第一保护层20上。
[0121] 图4是根据本发明第三示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。也就是说，图4的(a)部分是根据本发明第三示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图，图4的(b)部分是部分元件的平面图。
[0122] 参照图4，根据本发明第三示例性实施例的薄膜触摸传感器包括分离层10、第一保护层20、光学补偿层31、触摸感测层42和第二保护层50。在下文中，为了避免重复说明，将着重针对第三示例性实施例相比于第一示例性实施例的差异描述第三示例性实施例。
[0123] 第三示例性实施例在触摸感测层42的结构方面与第一示例性实施例不同。
[0124] 根据第三示例性实施例，绝缘部分460形成在第一透明电极图案410的整个表面上以及第一透明电极图案410与第二透明电极图案420之间暴露的光学补偿层31上。也就是说，根据第三示例性实施例，绝缘部分460仅形成在第一透明电极图案410和第二透明电极图案420交叉的区域附近，并且具有例如岛的形状。桥接图案470以与相邻第二透明电极图案420接触的方式形成在具有例如岛的形状的绝缘部分460上。
[0125] 图5是根据本发明第四示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。也就是说，图5的(a)部分是根据本发明第四示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图，图5的(b)部分是部分元件的平面图。
[0126] 参照图5，根据本发明第四示例性实施例的薄膜触摸传感器包括分离层10、第一保护层20、光学补偿层32、触摸感测层42和第二保护层50。在下文中，为了避免重复说明，将着重针对第四示例性实施例相比于第三示例性实施例的差异描述第四示例性实施例。
[0127] 与第三示例性实施例不同，根据第四示例性实施例，光学补偿层32形成在触摸感测层42上，并且触摸感测层42形成在第一保护层20上。
[0128] 图6是根据本发明第五示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。也就是说，图6的(a)部分是根据本发明的第五示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图，图6的(b)部分是部分元件的平面图。
[0129] 参照图6，根据本发明第五示例性实施例的薄膜触摸传感器包括分离层10、第一保护层20、光学补偿层31、触摸感测层43和第二保护层50。在下文中，为了避免重复说明，将着重针对第五示例性实施例相比于第一示例性实施例的差异描述第五示例性实施例。
[0130] 第五示例性实施例在触摸感测层43的结构方面与第一示例性实施例不同。也就是说，根据第一示例性实施例，其具有所谓的“顶部桥接”结构，其中，构成触摸感测层41的桥接图案470形成在绝缘部分450的上侧，然而，根据第五示例性实施例，其具有所谓的“底部桥接”结构，其中，构成触摸感测层43的桥接图案480形成在绝缘部分460的下侧。
[0131] 更具体地说，根据第五示例性实施例，构成触摸感测层43的桥接图案480形成在光学补偿层31上，并且相邻透明电极图案420以桥接图案480作为媒介电连接。
[0132] 绝缘部分460形成在桥接图案480上，使得桥接图案480的一部分(即两侧的边缘区域)暴露。
[0133] 第一透明电极图案410沿着第一方向形成在绝缘部分460上，使得彼此连接。
[0134] 第二透明电极图案420沿着与第一方向交叉的第二方向形成在桥接图案480的暴露区域和光学补偿层31上。
[0135] 图7是根据本发明第六示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图和部分元件的平面图。也就是说，图7的(a)部分是根据本发明的第六示例性实施例的薄膜触摸传感器的截面图，图7的(b)部分是部分元件的平面图。
[0136] 参照图7，根据本发明第六示例性实施例的薄膜触摸传感器包括分离层10、第一保护层20、光学补偿层32、触摸感测层43和第二保护层50。在下文中，为了避免重复说明，将着重针对第六示例性实施例相比于第五示例性实施例的差异描述第六示例性实施例。
[0137] 与第五示例性实施例不同，根据第六示例性实施例，光学补偿层32形成在触摸感测层43上，并且触摸感测层43形成在第一保护层20上。
[0138] 如以上详细描述的那样，根据本发明，存在这样的效果：提供能够对构成触摸感测层的图案化区域与非图案化区域之间的透射率差异进行补偿以防止可区分地辨认出图案化区域和非图案化区域的现象的薄膜触摸传感器。
[0139] 此外，存在这样的效果：提供能够使透过触摸感测层的图案化区域的光透射率增强以增强图像质量的薄膜触摸传感器。
[0140] [符号的描述)
[0141] 10：分离层
[0142] 20：第一保护层
[0143] 31、32：光学补偿层
[0144] 41、42、43：触摸感测层
[0145] 50：第二保护层
[0146] 410：第一透明电极图案
[0147] 420：第二透明电极图案
[0148] 450、460：绝缘部分
[0149] 470、480：桥接图案。
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