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一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法

阅读:54发布:2023-02-25

专利汇可以提供一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种Si改性的β‑(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法,属于高温防护涂层技术领域。通过采用电 镀 与 电弧 离子镀工艺相结合,在镍基高温 合金 基体上制备出Si改性的β‑(Ni,Pt)Al涂层。本发明的工艺流程是:先对 高温合金 基体进行预处理;通过 电镀 工艺制备一层微米级的纯Pt镀层;完成电镀后,在高温下 退火 ,使Pt层与基体发生互扩散;再在表面沉积一层AlSiY涂层;最后对涂层进行相关 热处理 ,使在基体表面生成Si改性的β‑(Ni,Pt)Al涂层。本发明有效解决了采用传统渗 铝 工艺制备铂铝涂层中含有夹杂物的问题,通过简单的热处理即可获得β‑(Ni,Pt)Al涂层。,下面是一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法专利的具体信息内容。

1.一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:该方法包括如下步骤:
(1)对基体依次进行前处理、电化学除油处理及活化处理后预Ni层,所述预镀Ni层过程为:将活化后的基体放入预镀镍镀液中进行电镀,基体作为阴极,纯镍板为阳极电流密度为4A/dm2,电镀时间1min;所述镀液组成为:氯化镍200~250g/L,盐酸180~250ml/L,其余为去离子
(2)电镀Pt层:将预镀Ni层的基体放入镀Pt液中电镀,工艺参数为:电镀温度70℃,电流密度2A/dm2,电镀时间10~30min;基体为阴极,铂网为阳极;电镀液配方为:二亚硝基二合铂6g/L,氨基磺酸20~65g/L,其余为去离子水;电镀液pH为1.5;Pt层厚度1~4μm;
(3)将步骤(2)电镀Pt层后的基体进行进行除氢及预扩散处理,具体过程为:先在260℃保温1h进行除氢处理,再在1050~1100℃下退火1~2h,使基体中元素与Pt发生互扩散;
(4)采用电弧离子镀工艺,在退火处理后试样上沉积AlSiY涂层,沉积时间为3~5h,AlSiY涂层厚度在10~20μm,所用AlSiY靶材的成分为:Al为94.1wt.%、Y为1.2wt.%、Si为
4.7wt.%;沉积工艺参数为:弧电压19-21V,弧电流53-65A,直流脉冲负偏压220-230V,占空比0.3,氩气分压(3.0~3.3)×10-1Pa;
(5)将经步骤(4)沉积AlSiY涂层的试样进行退火处理,退火温度为1000~1100℃,保温
2~5h,即获得所述Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层。
2.根据权利要求1所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:所述基体为镍基高温合金
3.根据权利要求1所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述前处理是指对基体进行打磨、喷砂或超声处理。
4.根据权利要求1所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述电化学除油具体操作为:将经前处理的基体放入5wt.%NaOH溶液中电镀除油,基体为阴极,纯镍板为阳极,电流密度为8A/dm2,电镀时间30s;电化学除油后用去离子水清洗,然后进行活化处理;所述活化处理是将基体放入王水中活化10s,以获得新鲜并具有一定粗糙度的基体表面。
5.根据权利要求1所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:将步骤(3)经退火处理后的试样进行超声清洗,以去除表面的杂质,然后进行步骤(4)。
6.根据权利要求1所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:步骤(3)和步骤(5)退火过程中,采用在真空条件及氩气保护气氛下进行退火,为防止涂层剥落,加热速率为4~6℃/min,随炉冷却。
7.根据权利要求1所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤(4)及步骤(5)中的电镀,均采用双阳极,阴极位于两个阳极面的中心,阳极面积/阴极面积=2:1。
8.根据权利要求4所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,其特征在于:所述活化处理时采用的王水,需现配现用,有效时间小于4h。
9.一种利用权利要求1所述方法制备的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层,其特征在于:该涂层中,Pt含量为3~6at.%,Al含量为30~45at.%,Si含量为0.5~2at.%。
10.根据权利要求9所述的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层,其特征在于:该涂层的主要相成分为β-(Ni,Pt)Al,还含有γ`-Ni3Al相和/或PtAl2相。

说明书全文

一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及高温合金基体上高温防护涂层的制备技术领域,具体地说是一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法。

背景技术

[0002] 随着航空航天技术的发展,人们对其发动机的要求也越来越高。为提高发动机的使用效率,需提高进口端温度,这要求发动机材料具有优异的高温性能,如抗化及抗高温腐蚀。但普通高温合金并不能满足这些性能,因此需在其表面涂覆高温防护涂层,利用涂层的抗氧化及抗热腐蚀能力,保护基体在高温下不发生氧化。常用的高温防护涂层可分为MCrAlY涂层及化物扩散涂层。
[0003] MCrAlY涂层由于具有良好的抗热腐蚀性能及高温塑性而受到人们广泛使用,其涂层内Al含量一般在8~14wt.%。但当使用温度高于1100℃及以上时,将在涂层表面生成较厚的氧化铝薄膜,导致涂层内起保护作用的Al元素被大量消耗,从而使涂层发生退化及失效。
[0004] 铝化物涂层一般通过包埋渗铝或化学气相渗铝方法,在基体表面生成一层铝化物涂层,一般为β-NiAl相。由于其Al元素含量较高,约30wt.%,因此具有良好的抗高温氧化能力。但普通铝化物涂层脆性较大,抗热腐蚀和抗疲劳蠕变性能较差,在腐蚀性环境中涂层退化较快。因此人们在传统铝化物涂层的基础上设计出改性铝化物涂层,如铂改性铝化物涂层,其具有更好的抗氧化性能和热腐蚀性能。传统铂铝涂层,首先在高温合金表面通过电磁控溅射等方法获得一层铂层,经过一定温度退火后,随后采用包埋渗铝或化学气相渗铝的方式获得铂铝涂层。
[0005] 但是,由于包埋渗铝方法是将高温合金与粉末直接接触,导致渗铝过程中引入夹杂,降低涂层的使用寿命。因此如何避免粉末杂质污染涂层是铂铝涂层研究的热点之一。此外,包埋渗铝方法制备的铂铝涂层,其表面一般会生成大量的PtAl2相,该相在高温使用温度范围内发生相变,导致涂层表面褶皱起伏,降低其循环寿命。化学气相渗铝技术是最近一二十年发展的一种渗铝技术,避免粉末与合金接触,可制备出性能优异的铂铝涂层,但该制备方法对渗铝设备要求较高,且采用气相渗铝制备的样品成分可控性较低。因此,研究新型铂铝涂层制备工艺是目前的研究热点。

发明内容

[0006] 本发明的目的是提供一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层及其制备方法,利用电镀电弧离子镀技术,制备出Si改性β-(Ni,Pt)Al涂层,有效解决了采用传统渗铝工艺制备铂铝涂层中含有夹杂物的问题。
[0007] 为实现上述目的,本发明所采用的技术方案如下:
[0008] 一种Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层的制备方法,该方法包括如下步骤:
[0009] (1)对基体(镍基高温合金)依次进行前处理、电化学除油处理及活化处理,为提高镀Pt层与基体的结合力,在电镀Pt前对基体预镀Ni层,所述预镀Ni层过程为:将活化后的基体放入预镀镍镀液中进行电镀,基体作为阴极阳极为镍板,电流密度为4A/dm2,电镀时间1min;所述镀液组成为:氯化镍200~250g/L,盐酸180~250ml/L,其余为去离子
[0010] (2)电镀Pt层:将预镀Ni层的基体放入镀Pt液中电镀,工艺参数为:电镀温度70℃,电流密度2A/dm2,电镀时间10~30min;基体为阴极,铂网为阳极;电镀液配方为:二亚硝基二合铂(以铂当量计算)6g/L,氨基磺酸20~65g/L,其余为去离子水;电镀液pH为1.5;Pt层厚度1~4μm;
[0011] (3)将步骤(2)电镀Pt层后的基体进行进行除氢及预扩散处理,具体过程为:先在260℃保温1h进行除氢处理,再在1050~1100℃下退火1~2h,使基体中元素与Pt发生互扩散;经退火处理后的试样进行超声清洗,以去除表面的杂质,然后进行步骤(4)。
[0012] (4)采用电弧离子镀(AIP)工艺,在退火处理后试样上沉积AlSiY涂层,沉积时间为3~5h,AlSiY涂层厚度在10~20μm,所用AlSiY靶材的成分为:Al为94.1wt.%、Y为
1.2wt.%、Si为4.7wt.%;沉积工艺参数为:弧电压19-21V,弧电流53-65A,直流脉冲负偏压
220-230V,占空比0.3,氩气分压(3.0~3.3)×10-1Pa;
[0013] (5)将经步骤(4)沉积AlSiY涂层的试样进行退火处理,退火温度为1000~1100℃,保温2~5h,即获得所述Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层。
[0014] 步骤(1)中,所述前处理是指对基体进行打磨、喷砂(用200目玻璃丸进行湿喷砂处理)或超声处理。
[0015] 步骤(1)中,所述电化学除油具体操作为:将经前处理的基体放入5wt.%NaOH溶液中电镀除油,基体为阴极,纯镍板为阳极,电流密度为8A/dm2,电镀时间30s;电化学除油后用去离子水清洗,然后进行活化处理;所述活化处理是将基体放入王水(37wt.%浓盐酸与65wt.%浓硝酸按照3:1体积配比混合)中活化10s,以获得新鲜并具有一定粗糙度的基体表面。活化处理时采用的王水,需现配现用,有效时间小于4h。
[0016] 步骤(3)和步骤(5)退火过程中,采用在真空条件及氩气保护气氛下进行退火,为防止涂层剥落,加热速率为4~6℃/min,随炉冷却。
[0017] 所述步骤(4)及步骤(5)中的电镀,均采用双阳极,阴极位于两个阳极面的中心,阳极面积/阴极面积=2:1。
[0018] 上述方法制备的Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层中,Pt含量为3~6at.%,Al含量为30~45at.%,Si含量为0.5~2at.%。该涂层的主要相成分为β-(Ni,Pt)Al,还含有γ`-Ni3Al相和/或PtAl2相。
[0019] 本发明具有如下优点:
[0020] 1、本发明首先在高温合金上电镀一层Pt层,然后进行高温退火,使Pt与基体元素发生互扩散,再采用电弧离子镀(AIP)方法沉积AlSiY涂层,经一定热处理可获得Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层。它利用电镀与电弧离子镀技术沉积涂层,然后结合相应的扩散退火工艺,制备出Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层。
[0021] 2、本发明所用基体为镍基高温合金,一般为单晶,具有较好的高温力学性能,且作为基体时其外形简单,无深孔或弯折等复杂结构。
[0022] 3、本发明通过调节镀Pt层厚度、AlSiY层厚度、成分及退火工艺参数,可达到精确控制涂层化学成分、厚度的目的,同时弥补了包埋渗铝方法中引入夹杂的不足。附图说明
[0023] 图1为电镀Pt层退火后的截面形貌。
[0024] 图2为退火后Si改性β-(Ni,Pt)Al涂层的截面形貌。
[0025] 图3为退火后涂层XRD图谱分析。
[0026] 图4为退火后涂层的截面主要元素分布情况。

具体实施方式

[0027] 下面结合实施例详述本发明,涂层的组织和成分表征手段,包括扫描电镜(SEM)和能谱分析(EDS)。
[0028] 实施例1
[0029] 本实施例是在镍基高温合金基体上制备Si改性的β-(Ni,Pt)Al涂层,所用镍基高温合金(DD5)成分为(wt.%):Co 7.5%,Cr 7.0%,Al 6.2%,Re 3.0%,Mo 1.5%,W 5.0%,Ta 6.5%,Hf 0.15%,C 0.05%,B 0.004%,Y 0.01%,余量为Ni。制备过程如下:
[0030] 首先,对高温合金基体进行前处理,前处理包括对基体进行打磨、喷砂、超声处理等;
[0031] 在电镀Pt层前,对基体进行电化学除油、活化、预镀Ni处理,以去除基体表面的油污、氧化皮,提高基体及镀Pt层之间的结合力。电化学除油具体工艺参数为:室温下将基体放入5wt.%NaOH水溶液中作为阴极,在8A/dm2电流密度下除油30s后取出,阳极为纯Ni板。活化工艺参数为:37wt.%浓盐酸和65wt.%浓硝酸按照体积比(3~4):1混合,将基体放入其中活化10s后取出。预镀Ni具体工艺参数为:氯化镍200g/L,盐酸200ml/L,其余为去离子水,混合均匀后,将基体放入镀液中作为阴极,在4A/dm2电流密度下预镀Ni一分钟,阳极为纯镍板;
[0032] 用去离子水清洗后,将高温合金基体作为阴极悬挂在镀液中,具体工艺参数如下:电镀温度70℃,电流密度2A/dm2,pH=1.5,铂钛网为阳极。电镀液配方为:二亚硝基二氨合铂(以铂当量计算)6g/L,氨基磺酸20~65g/L,其余为去离子水。电镀20min,厚度为2μm;
[0033] 电镀完成后,将试样封入真空管中退火处理,真空度为10-2Pa,充入0.2Pa氩气保护涂层,温度为1080℃,保温时间90min,加热速率为5℃/min,随炉冷却。退火之前,先在260℃下保温1h除氢;
[0034] 退火完成后,将试样进行超声清洗处理(丙→去离子水),冷吹干后,挂入电弧离子镀炉内,沉积AlSiY涂层,沉积3h,厚度为10~15μm,所用AlSiY靶材成分见表1,沉积参数见表2;
[0035] 由于电弧离子镀自身的特点,沉积层颗粒尺寸范围较大,由少量大颗粒及均匀分布的小颗粒组成(尺寸在几百纳米);
[0036] 表1 AlSiY靶材的成分(wt.%)
[0037]
[0038] 表2 电弧离子镀(AIP)沉积AlSiY涂层的工艺参数
[0039]
[0040] 将沉积态涂层封于真空硅管中,真空度为10-2Pa,充入0.2Pa氩气保护涂层,温度为1050℃,保温时间4h,加热速率为5℃/min,随炉冷却。
[0041] 退火态Pt层截面形貌如图1所示。退火后,Pt与基体元素发生互扩散,通过EDS能谱分析,表层Pt含量为50wt.%左右,Ni含量为35wt.%,同时含有少量Co、Cr等元素。
[0042] 本实例中,沉积AlSiY后对试样进行退火,涂层经退火后,成分发生再分布,表面有一层多孔的镍铝金属间化合物,对其进行喷砂处理以去除多孔层。最后在涂层之上获得Ni保护层。退火后截面形貌如图2所示,最外层为电镀Ni层,涂层外层主要为β-(Ni,Pt)Al相,同时含有少量PtAl2相、γ′-Ni3Al相,涂层厚度约20μm,内层为互扩散区,厚度约15μm。
[0043] 本实例中,用XRD检测涂层中的相组成。根据图3的XRD图谱分析,涂层主要由β-(Ni,Pt)Al组成,同时含有少量PtAl2相。
[0044] 本实例中,为进一步表征涂层中各主要元素分布,对涂层进行EDS打点分析,获得涂层界面主要元素的分布,沿如图4所示:
[0045] (1)涂层由外向内,Al、Pt、Si元素含量逐渐降低;
[0046] (2)在涂层外层,Al含量在30~38at.%之间,Pt含量在4.0~6.0at.%,Si含量约1~2at.%。
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