一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺
专利汇可以提供一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种透明塑胶制品的表面 真空 镀 膜 工艺，本发明选用 二 氧 化 硅 为靶材，通过 蒸发 式镀膜机的 电子 枪轰击 二氧化硅 ，在透明塑胶制品的表面镀上一层透明的二氧化硅增透膜，本发明工艺简单，对设备和工艺条件要求低，易于实施，成本较低，使透明塑胶制品具有类似 水 晶和光学玻璃的视觉效果，使透明塑胶制品具有更高的观赏价值，在成本提升不大的前提下大幅度提高产品的附加值。，下面是一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺专利的具体信息内容。
1.一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺，其特征在于：采用蒸发式镀膜机，设置蒸发式镀膜机的真空度为5 X IO-2Pa〜IOX IO-5Pa ；选用二氧化硅为靶材，通过蒸发式镀膜机的电子枪轰击二氧化硅，蒸发式镀膜机的电 子枪的电流为3〜18A;对蒸发式镀膜机内的透明塑胶制品进行真空镀膜，在透明塑胶制品的表面镀上一层透 明的二氧化硅增透膜。
2.根据权利要求1所述的一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺，其特征在于：在镀 膜过程中，使用膜厚仪测量沉积在透明塑胶制品表面的二氧化硅增透膜的厚度；在二氧化硅增透膜的厚度达到设定值后停机，控制沉积在透明塑胶制品表面的二氧化 硅增透膜的厚度而在透明塑胶制品的表面形成具有相对应的折射光效果的二氧化硅增透 膜。
3.根据权利要求2所述的一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺，其特征在于：二氧 化硅增透膜的厚度为膜厚为195-390nm。
4.根据权利要求2所述的一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺，其特征在于：二氧 化硅增透膜的厚度为292nm。
5.根据权利要求1至4之一所述的一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺，其特征在 于：蒸发式镀膜机的真空度为5X 10_2Pa〜3X 10_4Pa。
6.根据权利要求1至4之一所述的一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺，其特征在 于：蒸发式镀膜机的真空度为lX10-5Pa〜10X10-5Pa。
一种透明塑胶制品的表面真空镀膜工艺
技术领域
背景技术
发明内容
选用二氧化硅为靶材，通过蒸发式镀膜机的电子枪轰击二氧化硅，蒸发式镀膜机的电 子枪的电流为3〜18A;
对蒸发式镀膜机内的透明塑胶制品进行真空镀膜，在透明塑胶制品的表面镀上一层透 明的二氧化硅增透膜。
具体实施方式
对蒸发式镀膜机内的透明塑胶制品进行真空镀膜，在透明塑胶制品的表面镀上一层透 明的二氧化硅增透膜；
形成的二氧化硅增透膜的厚度为膜厚为195-390nm。
对蒸发式镀膜机内的透明塑胶制品进行真空镀膜，在透明塑胶制品的表面镀上一层透 明的二氧化硅增透膜；
在镀膜过程中，使用膜厚仪测量沉积在透明塑胶制品表面的二氧化硅增透膜的厚度； 在二氧化硅增透膜的厚度达到设定值后停机，控制沉积在透明塑胶制品表面的二氧化 硅增透膜的厚度而在透明塑胶制品的表面形成具有相对应的折射光效果的二氧化硅增透 膜；
形成的二氧化硅增透膜的厚度为膜厚为195-390nm。
在镀膜过程中，使用膜厚仪测量沉积在透明塑胶制品表面的二氧化硅增透膜的厚度； 在二氧化硅增透膜的厚度达到设定值后停机，控制沉积在透明塑胶制品表面的二氧化 硅增透膜的厚度而在透明塑胶制品的表面形成具有相对应的折射光效果的二氧化硅增透 膜；
形成的二氧化硅增透膜的厚度为膜厚为195-390nm。
对蒸发式镀膜机内的透明塑胶制品进行真空镀膜，在透明塑胶制品的表面镀上一层透 明的二氧化硅增透膜；
在镀膜过程中，使用膜厚仪测量沉积在透明塑胶制品表面的二氧化硅增透膜的厚度； 在二氧化硅增透膜的厚度达到设定值后停机，控制沉积在透明塑胶制品表面的二氧化 硅增透膜的厚度而在透明塑胶制品的表面形成具有相对应的折射光效果的二氧化硅增透 膜；
形成的二氧化硅增透膜的厚度为膜厚为195-390nm。
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