专利汇可以提供有机抗反射涂料聚合物,抗反射涂料组合物及其制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且右式1的有机抗反射 聚合物 、其制备方法、一种包括有机抗反射聚合物的抗反射涂料组合物和由其制得的抗反射涂层的制备方法。该包含聚合物的抗反射涂层消除了由晶片的下层光学性能和 光刻 胶 的厚度变化所引起的 驻波 ,防止了由于从下层衍射和反射的光引起的回射和CD变换。这些优点使得能够形成适用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM 半导体 器件的稳定的超微图案,改进生产产率和控制K值。还可以防止由于完成涂覆后 不平衡 酸度而导致的刻痕。,下面是有机抗反射涂料聚合物,抗反射涂料组合物及其制备方法专利的具体信息内容。
1.一种具有下式1结构的化合物:
式1 其中,R,R’和R”分别独立选自氢和甲基;
Ra至Rd,和R1至R18各自独立选自-H、-OH、-OCOCH3、-COOH、-CH2OH, 或者具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧烷基;
m和n各自代表选自1、2、3、4和5的一个整数;
x、y和z各自代表约0.01-约0.99的摩尔分数。
2.权利要求1的化合物,其为聚[丙烯酸9-蒽甲基亚胺乙基酯-(丙烯酸2- 羟乙基酯)-(甲基丙烯酸9-蒽甲基酯)],其中R和R’为氢,R”为甲基,Ra 至Rd为甲基,R1至R18各自独立为氢,m和n各自代表2,以及x、y和z分别为 0.1、0.5和0.4。
3.权利要求1的化合物,其为聚[甲基丙烯酸9-蒽甲基亚胺乙基酯-(甲 基丙烯酸2-羟乙基酯)-(丙烯酸9-蒽酯)],其中R和R’各自为甲基,R”为 氢,Ra至Rd为甲基,R1至R18各自独立为氢,m和n各自代表2,以及x、y和z 分别为0.1、0.5和0.4。
4.权利要求1的化合物,其为聚[丙烯酸9-蒽甲基亚胺丙基酯-(丙烯酸3- 羟丙基酯)-(甲基丙烯酸9-蒽甲基酯)],其中R和R’为氢,R”为甲基,Ra 至Rd为甲基,R1至R18各自独立为氢,m和n各自代表3,以及x、y和z分别为 0.1、0.5和0.4。
5.权利要求1化合物,其为聚[甲基丙烯酸9-蒽甲基亚胺丙基酯-(甲 基丙烯酸2-羟乙基酯)-(丙烯酸9-蒽酯)],其中R和R’各自为甲基,R”为 氢,Ra至Rd为甲基,R1至R18各自独立为氢,m为3,以及x、y和z分别为0.1、 0.5和0.4。
6.权利要求1的化合物,其为聚[甲基丙烯酸9-蒽甲基亚胺丙基酯-(丙 烯酸3-羟丙基酯)-(甲基丙烯酸9-蒽甲基酯)],其中R和R”各自独立为甲 基,R’为氢,Ra至Rd为甲基,R1至R18各自为氢,m和n各自为3,以及x、y 和z分别为0.1、0.5和0.4。
7.权利要求1的化合物,其为聚[甲基丙烯酸9-蒽甲基亚胺丙基酯-(丙 烯酸4-羟丁基酯)-(甲基丙烯酸9-蒽甲基酯)],其中R和R”各自为甲基,R’ 为氢,Ra至Rd为甲基,R1至R18各自为氢,m和n分别为3和4,以及x、y和z 分别为0.1、0.5和0.4。
8.一种制备权利要求1的化合物的方法,其包括:
使丙烯酸9-蒽甲基亚胺烷基酯单体,丙烯酸羟烷基酯单体和甲基丙烯 酸9-蒽烷基酯在溶剂中反应以生成一种产物;和
使该产物用一种聚合引发剂聚合。
9.权利要求8的方法,其中溶剂选自四氢呋喃、甲苯、苯、甲乙酮、 二噁烷及其混合物。
10.权利要求8的方法,其中聚合引发剂选自2,2’-偶氮二异丁腈,乙 酰过氧化物,过氧化月桂酰,叔丁基过氧化物及其混合物。
11.权利要求8的方法,其中聚合在约50-约90℃温度下进行。
12.一种抗反射涂料组合物,包括:
权利要求1的化合物和下式2的化合物:
式2 其中,R19和R20各自为具有1-10个碳原子的烷基或具有1-10个碳原子的烷氧 基;和
R21为氢或甲基。
13.权利要求12的组合物,进一步包括一种蒽衍生物添加剂,其选自 蒽、9-蒽甲醇、9-蒽腈、9-蒽羧酸、ditranol、1,2,10-蒽三醇、蒽黄酸、9-蒽 醛肟、9-蒽醛、2-氨基-7-甲基-5-氧代-5H-[1]苯并-吡喃[2,3-b]吡啶-3-腈、1- 氨基蒽醌、蒽醌-2-羧酸、1,5-二羟基蒽醌、蒽酮、9-蒽基三氟-甲基酮、9-烷 基蒽衍生物、9-羧基蒽衍生物、1-羧基蒽衍生物及其混合物。
14.一种制备抗反射涂层的方法,包括:
将权利要求1的化合物和式2的化合物溶于有机溶剂从而得到一种溶 液;
将溶液单独过滤或者与一种蒽衍生物添加剂混合过滤从而得到一种滤 液,该蒽衍生物添加剂选自蒽、9-蒽甲醇、9-蒽腈、9-蒽羧酸、ditranol、1,2,10- 蒽三醇、蒽黄酸、9-蒽醛肟、9-蒽醛、2-氨基-7-甲基-5-氧代-5H-[1]苯并-吡 喃[2,3-b]吡啶-3-腈、1-氨基蒽醌、蒽醌-2-羧酸、1,5-二羟基蒽醌、蒽酮、9- 蒽基三氟-甲基酮、9-烷基蒽衍生物、9-羧基蒽衍生物、1-羧基蒽衍生物及 其混合物;
将滤液涂覆在基质的下层从而在其上形成涂层;和
将该涂层烘硬。
15.权利要求14的方法,其中有机溶剂选自3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲 氧基丙酸甲酯、环己酮和丙二醇甲醚乙酸酯,并且以所用抗反射涂料树脂 总重量来计有机溶剂的用量为约200-5000wt%。
16.权利要求14的方法,其中烘硬步骤在约100-300℃温度下进行。
17.一种由权利要求12的抗反射涂料组合物制备的半导体器件。
18.一种由权利要求13的抗反射涂料组合物制备的半导体器件。
本发明公开了一种有机抗反射聚合物及其制备方法。在采用248nmKrF和193nmArF激光源制造超微图案的平板印刷加工方法中,该有机抗反射聚 合物能防止下部薄膜层的回射并且消除由于光刻胶厚度变化和光导致产生 的驻波。更具体说,该有机抗反射聚合物可用于制造64M、256M、1G和4G DRAM半导体器件的超微图案。还公开了一种含有此种有机抗反射聚合物 的组合物、一种由其制得的抗反射涂层和制备方法。
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