本发明涉及一种真空加工设备，其可在其中建立真空环境之后对基 板执行所需工艺。更具体而言，本发明涉及一种真空加工设备，其中真 空室分为室体和上盖，使得上盖可容易地从室体打开以及关闭至室体。

真空加工设备主要用在半导体制造设备和平板显示器（FPD)制造设 备中。半导体或FPD制造设备设计成将基板馈送到设备中并利用等离子 体等对基板执行所需工艺，如蚀刻工艺。在此，FPD的实例包括LCD、 PDP、 OLED等。参考图l，现有技术的真空加工设备通常包括三种真空 室，即负载锁定室R、馈送室T和工艺室P。
负载锁定室R用来从外部台站接收将在设备中进行加工的基板以便 于装载基板，或者用来排出在设备中经完全加工好的基板以便于卸载基 板。馈送室T设置有用于在各个室之间馈送基板的机器人，使得其可把 要加工的基板从负载锁定室传送到工艺室或者将经完全加工好的基板从工艺室传送到负载锁定室。工艺室P用来在真空环境下利用等离子体或 热能对基板执行所需工艺，如膜喷镀工艺或蚀刻工艺。为此，工艺室P 包含：支撑构件，用来支撑室中的基板；加工气体供给系统，用来将加 工气体供应到其中；以及排气系统，用来排空该室并且在室中形成真空。 工艺室用来利用各种加工气体或等离子体来重复执行大量工艺，因 此，工艺室内的设备易于受损或受到污染，从而需要定期更换或维修。
参考图2，参考标号1所表示的现有技术的工艺室分为室体10和上盖20， 使得上盖20可从室体10打开以便于对工艺室1内部进行维护和维修。 在用来打开和关闭上盖20的常规解决方案中，已将升降设备安装到其中 设置有工艺室l的无尘室的顶部，以便于利用该升降设备来提升上盖20 并将其从室体10打开。在另一个常规打开/关闭解决方案中，工艺室可单 独配备一个打开/关闭装置以打开和关闭上盖。
参考图3，其示出用于上盖20的常规打开/关闭装置的实例，参考标 号50所表示的上盖打开/关闭装置设置于工艺室1的外表面以打开和关闭 上盖20。打开/关闭装置50包括：竖直驱动单元，用来竖直提升上盖20; 水平驱动单元，用来水平移动上盖20;以及旋转单元，用来旋转上盖20。 另外，打开/关闭装置50设置有水平移动引导60，用来提供水平驱动单 元的移动路径。
以下将说明由具有上述配置的打开/关闭装置50所实施的上盖20的 打开/关闭过程。首先，利用包括在打开/关闭装置50中的竖直驱动单元 将上盖20竖直提升预定高度。继而沿水平移动引导60水平移动经提升 的上盖20。在完成这样的水平移动之后，利用旋转单元将上盖20旋转180。。这样，工艺室1的室体10和上盖20两者均被打开，从而可进行 对设置于工艺室1中的相应设备的更换和维修。
最近，要通过FPD制造设备加工的基板的尺寸已经有所增加。更具 体而言，包括在FPD制造设备中的真空室的尺寸正在迅速增加。例如， 考虑目前可用的真空室，室的上盖具有3米乘4米的大尺寸以及3至4 吨以上的大重量。因此，为了竖直提升真空室的大尺寸的重型上盖，有 必要为竖直驱动单元提供具有极高容量的空气筒。因此，笨重的室的上 盖在其被竖直提升时在稳定性上的不足增加，并因此对维护和维修真空 室内部的方面有不利影响。

因此，己经根据以上问题而作出本发明，并且本发明的一个目的是 提供一种能够确保上盖的简单方便的打开和关闭操作的大型真空加工设备。
根据本发明的第一方面，以上和其它目的可通过提供一种真空加工
设备来实现，该真空加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使基板 能够装载和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上而在其之间具有 一预定间隙，所述真空加工设备进一步包括：水平驱动装置，用来在面 对闸式阀设置方向的方向上水平移动上盖；内壁结构，其插入到上盖的 侧壁中并且适于竖直移动以便于关闭和打开室体和上盖之间的间隙；以 及内壁结构提升装置，其设置在上盖上方并且适于竖直移动所述内壁结 构。根据本发明的第二方面，以上和其它目的可通过提供一种真空加工 设备来实现，该真空加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使基板 能够装载和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上而在其之间具有 一预定间隙，所述真空加工设备进一步包括：水平驱动装置，其连接到 上盖的外表面并且适于在垂直于闸式阔设置方向的方向上水平移动上 盖；内壁结构，其插入到上盖的侧壁中并且适于竖直移动以便于关闭和 打开室体和上盖之间的间隙；以及内壁结构提升装置，其设置在上盖上 方并且连接到内壁结构以竖直移动所述内壁结构。
根据本发明的第三方面，以上和其它目的可通过提供一种真空加工 设备来实现，该真空加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使基板 能够装载和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上而在其之间具有 一预定间隙，所述真空加工设备进一步包括：水平驱动装置，其连接到 上盖的外表面并且适于在垂直于闸式阀设置方向的方向上水平移动上 盖；以及密封装置，用来选择性地密封室体和上盖两者的边缘区域，该
密封装置可从室体和上盖两者分离。
根据本发明的第四方面，以上和其它目的可通过提供一种加工设备
来实现，该加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使能基板的装载 和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上，所述加工设备进一步包 括：室体提升装置，其安装在室体的下表面并且适于竖直移动所述室体; 以及水平驱动装置，其安装在上盖的外表面，用来在面对闸式阀设置方 向的方向上水平移动上盖。
根据本发明的第五方面，以上和其它目的可通过提供一种加工设备来实现，该加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使基板能够装载 和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上，所述加工设备进一步包 括：室体提升装置，其安装在室体的下表面并且适于竖直移动所述室体; 以及水平驱动装置，其安装在上盖的外表面，用来在垂直于闸式阀设置 方向的方向上水平移动上盖。
根据本发明的第六方面，以上和其它目的可通过提供一种加工设备 来实现，该加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使基板能够装载 和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上，所述加工设备进一步包 括： 一个或多个水平驱动单元，用来支撑上盖以便于在面对闸式阀设置 方向的方向上水平移动上盖； 一对上盖移动框架，其以可竖直移动的方
式位于上盖的相对两侧并且适于提供所述水平驱动单元的水平移动路 径；以及多个竖直驱动单元，其连接到每个上盖移动框架的下表面，并 彼此间隔开预定距离，所述竖直驱动单元用来竖直移动上盖移动框架和上盖。
根据本发明的第七方面，以上和其它目的可通过提供一种加工设备
来实现，该加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使基板能够装载 和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上，所述加工设备进一步包 括：上盖提升装置，其可分离地设置在所述上盖上以竖直移动上盖；以 及水平驱动装置，其设置在上盖的相对侧并且适于在上盖由所述上盖提 升装置提升之后水平移动上盖。
根据本发明的第八方面，以上和其它目的可通过提供一种加工设备 来实现，该加工设备包括：室体，其具有闸式阀，用于使基板能够装载和卸载；以及上盖，其可分离地设置在室体上，所述加工设备进一步包 括：输送提升机夹具系统，并且该输送提升机夹具系统包括：具有适当 厚度的多边形柱状主体，该主体在中心处设置有连接环；以及多个设置 在所述主体下表面的各个拐角处而在对角线方向上向主体的中心移动的 连接环，所述连接环同时向内或向外移动而改变位置。
附图说明
根据以下结合附图给出的详述，本发明的以上和其它目的、特点和 其它优点将得到更为清楚的理解，在附图中：
图1是示出现有技术真空加工设备的各个室的布局的视图；
图2是说明所述现有技术真空加工设备的内部的示意性截面图；
图3是示出现有技术上盖打开/关闭装置的立体图；
图4是示出根据本发明第一实施例的真空加工设备的截面图；
图5是示出根据本发明第一实施例的内壁结构和内壁结构提升装置
图6是根据本发明第一实施例的真空加工设备的立体图； 图7是示出根据本发明第一实施例的支撑框架的侧视图；
图8A到8C是示出包括在根据本发明第一实施例的真空加工设备中
的上盖的打开过程的视图；
图9是示出根据本发明第二实施例的真空加工设备的截面图；
图io是示出根据本发明第二实施例的内壁结构和内壁结构提升装置图11是示出根据本发明第二实施例的上盖移动框架的立体图； 图12是示出根据本发明第二实施例的水平驱动装置的截面图； 图13是示出根据本发明第二实施例的支撑框架的侧视图；
图14A到14C是示出包括在根据本发明第二实施例的真空加工设备 中的上盖的打开过程的视图；
图15是示出根据本发明第三实施例的真空加工设备的截面图；
图16是示出根据本发明第三实施例的密封装置和密封装置驱动单元
图17是示出根据本发明第三实施例的密封装置驱动单元和水平驱动
装置的设置的平面图；
图18是示出根据本发明第三实施例的密封装置的截面图； 图19是示出根据本发明第三实施例的支撑框架的侧视图； 图20A到20C是示出包括在根据本发明第三实施例的真空加工设备
中的上盖的打开过程的视图；
图21是示出根据本发明第四实施例的真空加工设备的截面图；
图22是示出根据本发明第四实施例的室体提升装置的侧视图；
图23是根据本发明第四实施例的真空加工设备的立体图；
图24是示出根据本发明第四实施例的支撑框架的侧视图；
图25A到25C是示出包括在根据本发明第四实施例的真空加工设备
中的上盖的打开过程的视图；
图26是示出根据本发明第五实施例的真空加工设备的截面图；图27是示出根据本发明第五实施例的室体提升装置的侧视图； 图28是示出根据本发明第五实施例的上盖移动框架的立体图； 图29是示出根据本发明第五实施例的水平驱动装置的截面图； 图30是示出根据本发明第五实施例的支撑框架的侧视图；
图31A到31C是示出包括在根据本发明第五实施例的真空加工设备
中的上盖的打开过程的视图；
图32是示出根据本发明第六实施例的真空加工设备的截面图； 图33是根据本发明第六实施例的真空加工设备的立体图； 图34是示出根据本发明第六实施例的支撑框架的侧视图；
图35A到35C是示出包括在根据本发明第六实施例的真空加工设备 中的上盖的打开过程的视图；
图36是示出根据本发明第七实施例的真空加工设备的截面图； 图37是示出根据本发明第七实施例的上盖提升装置的平面图；
图38是示出根据本发明第七实施例的防振构件的截面图； 图39是示出根据本发明第七实施例的支撑框架的侧视图；
图40A到40C是示出包括在根据本发明第七实施例的真空加工设备 中的上盖的打开过程的视图；
图41是示出根据本发明第八实施例的输送提升机夹具系统的平面
图；
图42是图41的侧视截面图；并且
图43是沿图42中所示线A-A所取的截面图。具体实施方式
现在将参照附图来详细说明根据本发明的真空加工设备的优选实施
第一实施例
根据本实施例的真空加工设备包括：负载锁定室；馈送室；和一个 或多个工艺室，但为方便说明，以下描述仅针对一个工艺室。参考图4， 根据本实施例的真空加工设备100包括：室体110;上盖120;水平驱动 装置140;内壁结构150;和内壁结构提升装置160。
在根据本实施例的真空加工设备100中，室体110总体上具有矩形 盒形状，并且上盖120可分离地设置在室体110上，从而构成真空室。 真空室用来加工其中的具有矩形形状的大面积的平板显示器基板，并因 此总体上具有对应于所述矩形基板的矩形盒形状。真空室在其内部设置 有排气系统（未示出）以在室中形成真空。在根据排气系统的操作于室 中建立真空之后，对放置在室中的基板执行所需工艺。
室体110形成有基板入口，其用作从外部台站接收基板以便于装载 基板以及排出基板以便于卸载基板的通路。通常，基板在其以躺置状态 水平移动时进行装载和卸载，因此，基板入口穿通室体110的侧壁之一。 为打开和关闭基板入口，室体110设置有闸式阀。基板入口在装载和卸 载基板的过程中保持打开，但必须在完全装载基板之后关闭，从而在室 的关闭状态下进行所需的基板加工。因此，闸式阀竖直移动以打开和关 闭基板入口。内壁结构150插入在上盖120的侧壁中并且适于在其竖直移动时建 立和释放室中的真空。参考图5，本实施例的内壁结构150包括：密封构
件152;多个连接杆154;和辅助密封构件156。密封构件152插入到沿 上盖120侧壁的下表面凹陷的插入凹槽122中，并且适于密封上盖120 和室体110之间的间隙。具体而言，当把上盖120支撑为与室体110间 隔开一预定距离时，密封构件152插入到上盖120的侧壁中。密封构件 152用来在其竖直移动时建立和释放室中的真空。在本实施例中，密封构 件152总体上具有矩形圈形状，并且在其向上移动到上盖120的下端时 连接到上盖120。所述多个连接杆154竖直穿过上盖120的侧壁的某些位 置以将密封构件152连接到内壁结构提升装置160。连接杆154在其下端 连接于密封构件152的上表面的多个位置，并因此使密封构件152能够 稳定竖直移动。同时，本实施例的密封构件152具有阶梯形状，使得所 得到的阶梯形部分的一个表面与室体110的表面紧密接触，并且该阶梯 形部分的另一个表面与辅助密封构件156紧密接触，从而在室中建立真 空。
因此，辅助密封构件156是本实施例的基本部件。辅助密封构件156 在比室体110的上表面高的位置处与密封构件152接触，从而将室的内 部维持在气密状态。更具体而言，如图5中所示，密封构件152具有限 定了两个水平接触表面的阶梯形下部，即第一接触表面和第二接触表面。 第一接触表面与室体110的侧壁的上表面接触，而第二接触表面与辅助 密封构件156接触。
内壁结构提升装置160位于上盖120上方，并且连接到穿过上盖120侧壁的内壁结构150，以竖直提升内壁结构150。在本实施例中，如图5 中所示，内壁结构提升装置160优选地包括：导板162，其位于上盖120 上方并且连接到所述多个连接杆154的上端，该导板162用来引导连接 杆154的同时移动；以及驱动马达164，其固定地安装在导板162上以竖 直移动导板162。由于所述多个连接杆154必须同时移动，导板162用来 使所有连接杆154的提升运动同步。
水平驱动装置140用来在面对闸式阀设置方向的方向上水平移动上 盖120。就是说，水平驱动装置140连接到上盖120而以可水平移动的方 式支撑上盖120。当室体110根据室体提升装置（未示出）的操作向下移 动所需距离并因此与上盖120分离时，水平驱动装置140水平移动上盖 120，直到上盖120达到所需旋转半径。
在本实施例中，水平驱动装置140包括一对导轨142，所述导轨相互 平行设置以使上盖120位于其间。导轨142用来在水平方向上引导上盖 120，并因此提供上盖120的水平移动路径。参考图6，每个导轨142都 分为面对上盖120的第一部分142a和水平延伸到上盖120之外的第二部 分142b。优选地，第二部分142b可向着垂直于第一部分142a的上盖120 的侧壁折叠，使得它在不使用时可折叠，以使真空加工设备所占用的面 积最小。
根据本实施例的真空加工设备100可进一步包括支撑框架170，该支 撑框架设置在室体110旁并且适于在上盖120沿导轨142水平移动时接 收上盖120。提供单独的支撑框架170的优点在于，单个支撑框架可用于 包括在真空加工设备中的多个真空室。就是说，取代为多个真空室分别提供支撑框架的情况，单个可移动支撑框架可通用于所述多个真空室。
参考图7，在本实施例中，支撑框架170包括：矩形水平框架件172;
竖直框架件174;以及间隙填充件176。水平框架件172具有与导轨142 相同的高度并且在与导轨142相同的方向上延伸以引导上盖120的水平 移动。竖直框架件174用来将水平框架件172支撑于与导轨142相同的 高度。优选地，竖直框架件174适于调节水平框架件172的高度以消除 水平框架件172和导轨142之间的高度差。
间隙填充件176设置在面对室的水平框架件172的一端。当支撑框 架170接近导轨142时，间隙填充件176适于填充水平框架件172和导 轨142之间的间隙。如公知的，由于设置在室周围的各种元件以及支撑 框架本身的配置，水平框架件172难以与导轨142紧密接触，因此如图7 中所示，必须提供间隙填充件176来填充水平框架件172和导轨142之 间的间隙。在本实施例中，间隙填充件176以可枢转的方式铰接于水平 框架件172，使得它们在输送期间可折叠，但在使用中进行枢转而填充水 平框架件172和导轨142之间的间隙。
优选地，每个间隙填充件176可设置有竖直驱动单元以保证其竖直 移动。
根据本实施例的支撑框架170优选地进一步包括轮178，以便于其移 动。轮178分别安装在竖直框架件174的下端，并且适于减小竖直框架 件174和地板之间的摩擦力，以确保竖直框架件174易于水平移动。
根据本实施例的支撑框架170可进一步包括一对旋转构件177。旋转 构件177用来旋转上盖120。在本实施例中，所述一对旋转构件177安于水平框架件172，使得它们位于上盖120的相对两侧。具体而言，旋转
构件177连接到上盖120的相对侧壁的中心以便可旋转地支撑上盖120。 因此，在上盖120由水平驱动装置140移动而达到足够的旋转半径之后， 旋转构件177旋转上盖120，从而使上盖120向上打开而使得能够容易地 管理和维修其内部设备。
优选地，支撑框架170进一步包括一个或多个固定单元179，以将支 撑框架170固定到室体110。固定单元179用来防止支撑框架170在上盖 120的水平移动和旋转期间移离室体110。在本实施例中，每个固定单元 179都包括一对固定块179a和固定销179b。因此，如果所述一对固定块 179a彼此精确对准，则固定销179b插入通过固定块179a而将支撑框架 170维持在固定位置。
以下将说明根据本实施例的真空加工设备100的上盖120的打开/关 闭过程。
在根据本实施例的真空加工设备100中，将上盖120支撑为使其向 上与室体110间隔开lmm到10mm的距离，并因此，不需要提升上盖120。 简而言之，如图8A中所示，仅内壁结构150根据相关提升装置160的操 作而被提升。由于内壁结构150被提升，破坏了该室的气密状态，并因 此释放了室中的真空。之后，如图8B所示，上盖120根据水平驱动装置 140的操作而水平移动。在此情况下，当使用支撑框架170时，必须将支 撑框架170定位成与导轨142紧密接触。当仅使用导轨142时，打开导 轨142的第二部分142b以达到上盖120的稳定旋转半径。在水平移动上 盖120而确保其稳定旋转之后，如图8C所示，操作旋转构件177以将上盖120旋转180°。以这种方式，上盖120得以向上打开而使得能够维修 其中的设备。在完成设备维修之后，以相反的顺序执行以上所述的上盖
120的打开过程，从而关闭上盖120。 第二实施例
根据本实施例的真空加工设备包括：负载锁定室；馈送室；和一个 或多个工艺室，并且为方便说明，以下描述仅针对一个工艺室。参考图9，
根据本实施例的真空加工设备200包括：室体210;上盖220;水平驱动 装置240;内壁结构250;和内壁结构提升装置260。
在根据本实施例的真空加工设备200中，室体210总体上具有矩形 盒形状，并且上盖220可分离地设置在室体210上，从而构成真空室。 真空室用来加工其中的具有矩形形状的大面积的平板显示器基板，并因 此总体上具有对应于所述矩形基板的矩形盒形状。真空室在其内部设置 有排气系统（未示出）以在室中建立真空。在利用排气系统的操作于室 中建立真空之后，对放置在室中的基板执行所需加工。
室体210形成有基板入口 E，其用作从外部台站接收基板以便于装载 基板以及排出基板以便于卸载基板的通路。通常，基板在其以躺置状态 水平移动时进行装载和卸载，因此，基板入口 E穿通室体210的侧壁之 一。为打开和关闭基板入口 E，室体210设置有闸式阀G。基板入口 E 在装载和卸载基板的过程中持续打开，但必须在完全装载基板之后关闭， 从而在室的关闭状态下进行所需的基板加工。因此，闸式阀G竖直移动 而打开和关闭基板入口 E。内壁结构250插入在上盖220的侧壁中并且适于在其竖直移动时建 立和释放室中的真空。参考图10，本实施例的内壁结构250包括：密封 构件252;多个连接杆254;和辅助密封构件256。密封构件252插入到 沿上盖220侧壁的下表面凹陷的插入凹槽222中，并且适于密封上盖220 和室体210之间的间隙。具体而言，密封构件252插入到上盖220的侧 壁中，以将上盖220支撑为与室体210间隔开一预定距离。密封构件252 用来在竖直移动时建立和释放室中的真空。在本实施例中，密封构件252 总体上具有矩形圈形状，并且在其向上移动到上盖220的下端时连接到 上盖220。
所述多个连接杆254竖直穿过上盖220的侧壁的某些位置以将密封 构件252连接到内壁结构提升装置260。连接杆254在其下端连接于密封 构件252的上表面的多个位置，以实现密封构件252的稳定竖直移动。 本实施例的密封构件252具有阶梯形状，使得所得到的阶梯形部分的一 个表面与室体210的表面紧密接触，并且该阶梯形部分的另一个表面与 辅助密封构件256紧密接触，从而在室中建立真空。因此，辅助密封构 件256是本实施例的基本部件。辅助密封构件256在比室体210的上表 面高的位置处与密封构件252接触，并且适于将室的内部维持在气密状 态。更具体而言，如图10中所示，密封构件252具有限定了两个水平接 触表面的阶梯形下部，即第一接触表面和第二接触表面。第一接触表面 与室体210的侧壁的上表面接触，而第二接触表面与辅助密封构件256 接触。
内壁结构提升装置260位于上盖220上方，并且连接到穿过上盖220侧壁的内壁结构250，以竖直提升内壁结构250。在本实施例中，内壁结 构提升装置260优选地包括：导板262，其位于上盖220上方并且连接到 所述多个连接杆254的上端，该导板262用来引导连接杆254的同时移 动；以及驱动马达264，其固定地安装在导板262上以竖直移动导板262。 由于所述多个连接杆254必须同时移动，导板262用来使所有连接杆254 同步。
水平驱动装置240用来在垂直于闸式阀G设置方向的方向上水平移 动上盖220。为使真空加工设备200所占用的占地面积最小，本实施例提 出，在各个工艺室之间的未用空间中维修上盖220。为此，上盖220必须 在垂直于闸式阀G设置方向的方向上水平移动，并因此水平驱动装置240 位于与闸式阀G相同的平面中。在此情况下，为防止彼此位于同一平面 的闸式阀G和水平驱动装置240之间的干扰，如图9中所示，水平驱动 装置240放置得比闸式阀G高。
因此，在本实施例中，水平驱动装置240包括：上盖移动框架242; 和一对水平移动器244。在比闸式阀G的驱动高度高的位置，上盖移动 框架242部分地设置在上盖220的相对侧处。上盖移动框架242提供上 盖220的水平移动路径。
参考图ll，上盖移动框架242包括：第一水平框架件242a，每个在 其上表面支撑水平移动器244之一的第一端；以及第一竖直框架件242b， 其连接到第一水平框架件242a的下表面以将第一水平框架件242a支撑 在预定高度。在本实施例中，为使已完全组装的上盖移动框架242可安 装到真空室，将第一水平框架件242a设置在比上盖220的上端高的位置。而且，第一竖直框架件242b设置成使其中相邻的框架件彼此间隔开比真 空加工设备宽度宽的距离。
每个水平移动器244具有固定设置在上盖移动框架242上的第一端 和连接到上盖220的第二端。水平移动器244用来沿上盖移动框架242 水平移动上盖220。参考图12，本实施例的水平移动器244包括：辊244a， 其连接到上盖移动框架242以在其上执行旋转运动；竖直连接器244b， 其在不同的高度处连接到辊244a和上盖220中心；以及马达244c，用来 提供旋转辊244a所需的动力。以这种配置，即使当辊244a设置在与上 盖220中心不同的高度时，辊244a也可借助于竖直连接器244b稳定地 连接到上盖220，从而可实现上盖220的顺利的旋转和水平运动。
根据本实施例的真空加工设备200可进一步包括支撑框架270，其设 置在室体210旁并且适于在上盖220沿第一水平框架件242a水平移动时 接收上盖220。提供单独的支撑框架270的优点在于，单个支撑框架可用 于包括在真空加工设备中的多个真空室。就是说，取代为多个真空室分 别提供支撑框架，单个可移动支撑框架可共同用于所述多个真空室。
参考图13，在本实施例中，支撑框架270包括：第二水平框架件272; 第二竖直框架件274;以及间隙填充件276。第二水平框架件272具有与 第一水平框架件242a相同的高度并且在与第一水平框架件242a相同的 方向上延伸以引导上盖220的水平移动。第二竖直框架件274用来将第 二水平框架件272支撑于与第一水平框架件242a相同的高度。优选地， 第二竖直框架件274适于调节第二水平框架件272的高度，以消除第一 和第二水平框架件242a和272之间的高度差。间隙填充件276设置在面对室的第二水平框架件272的一端。当支 撑框架270接近第一水平框架件242a时，间隙填充件276适于填充第一 和第二水平框架件242a和272之间的间隙。如公知的，由于设置在室周 围的各种元件以及支撑框架本身的配置，第二水平框架件272难以与第 一水平框架件242a紧密接触。因此，如图13中所示，单独提供间隙填 充件276来填充第一和第二水平框架件242a和272之间的间隙。在本实 施例中，间隙填充件276以可枢转的方式铰接于第二水平框架件272，使 得它们在输送期间可折叠，但在使用中进行枢转而填充第一和第二水平 框架件242a和272之间的间隙。
优选地，每个间隙填充件276可设置有竖直驱动单元以保证其竖直 移动。
根据本实施例的支撑框架270优选地进一步包括轮278，以便于其移 动。轮278分别安装在第二竖直框架件274的下端，以便减小第二竖直 框架件274和地板之间的摩擦力，而确保第二竖直框架件274容易的水 平移动。
根据本实施例的支撑框架270可进一步包括一对旋转构件277。旋转 构件277用来旋转上盖220。在本实施例中，所述一对旋转构件277安装 于第二水平框架件272，并且它们位于上盖220的相对两侧。具体而言， 旋转构件277连接到上盖220的相对侧壁的中心，并且适于可旋转地支 撑上盖220。因此，在上盖220由水平驱动装置240移动而达到足够的旋 转半径时，旋转构件277旋转上盖220，从而使上盖220向上打开以使得 能够容易地管理和维修其内部设备。以下将说明根据本实施例的真空加工设备200的上盖220的打开/关
闭过程。
在根据本实施例的真空加工设备200中，将上盖220支撑为使其向 上与室体210间隔开lmm到10mm的距离，并因此，不需要提升上盖220。 简而言之，如图14A中所示，仅内壁结构250根据相关提升装置260的 操作而被提升。由于内壁结构250被提升，破坏了该室的气密状态，并 因此释放了室中的真空。之后，如图14B所示，上盖220根据水平驱动 装置240的操作而水平移动。在此情况下，如果使用支撑框架270，则必 须将支撑框架270设置成与第一水平框架件242a紧密接触。在水平移动 上盖220而确保其稳定旋转之后，如图14C所示，操作旋转构件277而 将上盖220旋转180°。以这种方式，上盖220得以向上打开以使得能够 维修其中的设备。在完成设备维修之后，以相反的顺序执行以上所述的 上盖220的打开过程，从而关闭上盖220。
第三实施例
根据本实施例的真空加工设备包括：负载锁定室；馈送室；和一个 或多个工艺室，但为方便说明，以下描述仅针对一个工艺室。参考图15， 根据本实施例的真空加工设备300包括：室体310;上盖320;水平驱动
装置340;和密封装置350。
在根据本实施例的真空加工设备300中，室体310总体上具有矩形 盒形状，并且上盖320可分离地设置在室体310上，从而构成真空室。 真空室用来加工其中的具有矩形形状的大面积的平板显示器基板，并因此总体上具有对应于所述矩形基板的矩形盒形状。真空室在内部设置有 排气系统（未示出）以在室中建立真空。在利用排气系统的操作在室中 建立真空之后，对放置在室中的基板执行所需工艺。
如图15所示，室体310形成有基板入口E，其用作从外部台站接收 基板以便于装载基板以及排出基板以便于卸载基板的通路。通常，基板
在其以躺置状态水平移动时进行装载和卸载，因此，基板入口 E穿通室 体310的侧壁之一。为打开和关闭基板入口，室体310设置有闸式阀G。 基板入口 E在装载和卸载基板的过程中持续打开，但必须在完全装载基 板之后关闭，从而在室的关闭状态下进行所需基板加工。因此，闸式阀G 竖直移动而打开和关闭基板入口 E。
密封装置350用来关闭室体310和上盖320之间的间隙并且密封室 体310和上盖320两者的边缘。在本实施例中，上盖320与室体310间 隔开一预定距离，并因此有必要密封其间的间隙以便于在真空室中建立 真空。本实施例的密封装置350允许上盖320可分离地连接于室体310。
具体而言，室体310沿其上端表面设置有向外延伸的下突起312，并 且上盖320沿其下端表面设置有向外延伸的上突起322。在此，室体310 的上端表面包括室体310侧壁的上表面，并且上盖320的下端表面包括 上盖320侧壁的下表面。
密封装置350具有用来与下突起312紧密接触的下接触表面352，以 及用来与上突起322紧密接触的上接触表面354。为实现下接触表面352 和下突起312之间以及上接触表面354和上突起322之间的充分接触和 接合，它们配置成具有完全协调一致的形状。顺便而言，由于室的侧壁由相对刚性的材料（如金属）制成，即使
所述上和下突起322和312以及上和下接触表面354和352得到精细地 加工，其间仍不可避免地存在细微间隙。这使得难以实现室中的完全气 密状态。为了解决这个问题，优选的是在下和上接触表面352和354形 成辅助密封O。在此情况下，辅助密封O由略具挠性的材料制成。因此， 当密封装置与下和上突起312和322两者紧密接触时，辅助密封0在插 入于下和上接触表面352和354与下和上突起312和322之间的同时被 轻微的压縮，从而防止在其之间产生间隙。在特定情况下，为实现增加 的密封效率，两个或多个辅助密封0可以一个在另一个之上的方式叠置。 更优选地，为防止辅助密封O从其准确位置偏移，优选下和上接触表面 352和354形成有用于定位和固定辅助密封0的固定凹槽。
或者，如图18中所示，密封装置350a可具有倾斜的下和上接触表 面352a和354a，并且对应的室的下和上突起312和322两者可具有倾斜 表面。与以上所述的水平接触表面相比，使用倾斜接触表面具有增加接 触面积的效果，从而使得密封效率的增加。而且，当为倾斜表面提供辅 助密封O时，接触面积可扩大更多，并且多个辅助密封可容易地设置在 该处。
在本实施例中，可进一步提供多个密封装置驱动单元360以能够在 对角线方向上自动移动密封装置350。所述多个密封装置驱动单元360连 接到密封装置350的下端的拐角。在此，对角线方向是相对于竖直方向 成45。角而由此相对于地板倾斜的方向。参考图16，本实施例的密封装 置驱动单元360中的每个都包括：辊362;和凸轮364。辊362以可旋转的方式位于密封装置350的下部拐角之一处。凸轮364配置成在与辊362 接触的同时旋转并且在对角线方向上移动密封装置350。因此，辊362在 凸轮364旋转同时与辊362接触时旋转，从而使密封装置350在对角线 方向上移动。
优选地，密封装置驱动单元360进一步包括凸轮旋转停止器366，以 限制凸轮364的旋转半径并因此限制密封装置350的对角线移动范围。 就工作效率而言，优选的是密封装置350具有足以建立和释放该室中的 真空的最小移动，并且因此使用凸轮旋转停止器366来实现密封装置350 的最小移动范围。
在本实施例中，如图17中所示，优选地，密封装置驱动单元360设 置在除了设置有水平驱动装置340的水平移动器344的室体310的相对 侧以外的室体310的相对两横向侧处。如果密封装置驱动单元360和水 平驱动装置340两者彼此设置在相同侧，则它们会在密封装置驱动单元 360和水平驱动装置340的操作中受到干扰并且安装困难。因此，密封装 置驱动单元360必须设置在除了设置有水平移动器344的侧壁以外的室 体310的侧壁处。
水平驱动装置340用来在垂直于闸式阀G设置方向的方向上水平移 动上盖320。为使真空加工设备300所占用的占地面积最小，本实施例提 出，在各个工艺室之间的未用空间中维修上盖320。为此，上盖320必须 在垂直于闸式阀G设置方向的方向上水平移动，因此，水平驱动装置340 设置在与闸式阀G相同的平面中。在此情况下，为防止设置在同一平面 的闸式阀G和水平驱动装置340彼此之间的干扰，水平驱动装置340放置得比闸式阀G高。
因此，在本实施例中，水平驱动装置340包括：上盖移动框架342;
和一对水平移动器344。在比闸式阔G的驱动高度高的位置，上盖移动 框架342部分地设置在上盖320的相对两侧。上盖移动框架342提供上 盖320的水平移动路径。
上盖移动框架342包括：第一水平框架件，每个在其上表面支撑水 平移动器344之一的第一端；以及第一竖直框架件，其连接到第一水平 框架件的下表面以将第一水平框架件支撑在预定高度。在本实施例中， 为使已完全组装的上盖移动框架342可安装到真空室，将第一水平框架 件设置在比上盖320的上端高的位置。而且，第一竖直框架件设置成使 其中相邻的框架件彼此间隔开比真空加工设备宽度宽的距离。
每个水平移动器344具有固定设置在上盖移动框架342上的第一端 和连接到上盖320的第二端。水平移动器344用来沿上盖移动框架342 水平移动上盖320。本实施例的水平移动器344包括：辊344a，其连接 到上盖移动框架342以在其上执行旋转运动；竖直连接器344b，其在不 同的高度处连接到辊344a和上盖320中心；以及马达344c，用来提供旋 转辊344a所需的动力。以这种配置，即使当辊344a设置在与上盖320 中心不同的高度时，辊344a也可借助于竖直连接器344b稳定地连接到 上盖320，从而可实现上盖320的顺利旋转和水平运动。
根据本实施例的真空加工设备300可进一步包括支撑框架370，其设 置在室体310旁并且适于在上盖320沿上盖移动框架342的第一水平框 架件水平移动时接收上盖320。提供单独的支撑框架370的优点在于，单个支撑框架可用于包括在真空加工设备中的多个真空室。就是说，取代 为多个真空室分别提供支撑框架的情况，单个可移动支撑框架可共同用 于所述多个真空室。
参考图19，在本实施例中，支撑框架370包括：第二水平框架件372;
第二竖直框架件374;以及间隙填充件376。第二水平框架件372具有与 上盖移动框架342的第一水平框架件相同的高度并且在与第一水平框架 件相同的方向上延伸以引导上盖320的水平移动。第二竖直框架件374 用来将水平框架件372支撑于与第一水平框架件相同的高度。优选地， 第二竖直框架件374适于调节第二水平框架件372的高度，以消除第一 和第二水平框架件之间的高度差。
间隙填充件376设置在面对室的第二水平框架件372的一端。当支 撑框架370接近第一水平框架件时，间隙填充件376适于填充第一和第 二水平框架件之间的间隙。如公知的，由于设置在室周围的各种元件以 及支撑框架本身的配置，第二水平框架件372难以与第一水平框架件紧 密接触。因此，如图19中所示，单独提供间隙填充件376来填充第一和 第二水平框架件之间的间隙。在本实施例中，间隙填充件376以可枢转 的方式铰接于第二水平框架件372，使得它们在输送期间可折叠，但在使 用中进行枢转以填充第一水平框架件和第二水平框架件372之间的间隙。
优选地，每个间隙填充件376可设置有竖直驱动单元，以保证其竖 直移动。
根据本实施例的支撑框架370优选地进一步包括轮378，以方便其移 动。轮378分别安装在第二竖直框架件374的下端，以便于减小第二竖直框架件374和地板之间的摩擦力，确保第二竖直框架件374容易水平移动。
根据本实施例的支撑框架370可进一步包括一对旋转构件377。旋转 构件377用来旋转上盖320。在本实施例中，所述一对旋转构件377安装 于第二水平框架件372，且它们位于上盖320的相对两侧。旋转构件377 连接到上盖320的相对侧壁的中心，并且适于可旋转地支撑上盖320。因 此，在上盖320由水平驱动装置340移动而达到足够的旋转半径时，旋 转构件377旋转上盖320，从而使上盖320向上打开以使得能够容易管理 和维修其内部设备。
优选地，支撑框架370进一步包括一个或多个固定单元379以将支 撑框架370固定到室体310。固定单元379用来防止支撑框架370在上盖 320的水平移动和旋转期间移离室体310。在本实施例中，每个固定单元 379都包括一对固定块379a和一固定销379b。因此，如果所述一对固定 块379a彼此精确对准，则固定销379b通过固定块379a插入以将支撑框 架370维持在固定位置。
以下将说明根据本实施例的真空加工设备300的上盖320的打开/关 闭过程。
在根据本实施例的真空加工设备300中，将上盖320支撑为使其向 上与室体310间隔开10mm到15mm的距离，并因此，不需要提升上盖 320。简而言之，如图20A中所示，驱动密封装置驱动单元360以在对角 线方向上移动密封装置350，由此使上盖320与室体310间隔开。由于上 盖320被移动，破坏了该室的气密状态，并因此释放了室中的真空。之后，如图20B所示，上盖320根据水平驱动装置340的操作而水平移动。 在此情况下，在使用支撑框架370时，必须将支撑框架370设置成与第 一水平框架件紧密接触。在水平移动上盖320而确保其稳定旋转之后， 如图20C所示，操作旋转构件377以将上盖320旋转180°。以这种方式， 上盖320得以向上打开以使得能够维修其中的设备。在完成设备维修之 后，以相反的顺序执行以上所述的上盖320的打开过程，从而关闭上盖 320。
第四实施例
根据本实施例的真空加工设备包括：负载锁定室；馈送室；和一个 或多个工艺室，但为方便说明，以下描述仅针对一个工艺室。参考图21， 根据本实施例的真空加工设备400包括：室体410;上盖420;水平驱动 装置440;和室体提升装置450。
在根据本实施例的真空加工设备400中，室体410总体上具有矩形 盒形状，并且上盖420可分离地设置在室体410上，从而构成真空室。 真空室用来加工其中的具有矩形形状的大面积的平板显示器基板，并因 此总体上具有对应于所述矩形基板的矩形盒形状。真空室在内部设置有 排气系统（未示出）以在室中建立真空。在利用排气系统的操作在室中 建立真空之后，对放置在室中的基板执行所需工艺。
室体410形成有基板入口，其用作从外部台站接收基板以便于装载 基板以及排出基板以便于卸载基板的通路。通常，基板在其以躺置状态 水平移动时进行装载和卸载，因此，基板入口穿通室体410的侧壁之一。为打开和关闭基板入口，室体410设置有闸式阀。基板入口在装载和卸 载基板的过程中持续打开，但必须在完全装载基板之后关闭，从而在室 的关闭状态下进行所需基板加工。因此，基板入口随着闸式阀竖直移动 而打开和关闭。
室体提升装置450用来竖直移动室体410。在本实施例中，室体提升 装置450包括：多个提升驱动构件452;和引导构件454。
提升驱动构件452插在室体410和将室体410支撑于距离地板一预 定高度的室基座框架460之间。提升驱动构件452适于竖直移动室体410。 竖直移动室体410具有如下作用，即在室体410与上盖420的下端接触 时防止其干扰上盖420的水平移动，并且亦防止上盖420和O形圈之间 的干扰。在上盖420固定于一预定高度的状态下，室体410降低成与上 盖420间隔开一预定距离。
本实施例采用多个提升驱动构件452，其每个都具有小容量。就价格 而言，与使用单个大容量提升驱动构件相比，使用多个小容量提升驱动 构件452是有利的。而且，多个提升驱动构件452可在多个位置处支撑 重的室体，并因此在维持室体的平衡上是有利的。每个提升驱动构件452 优选地采用波纹管筒的形式。在此情况下，如图22中所示，波纹管筒优 选地分别设置有偏心补偿器456。具体而言，每个半球形的偏心补偿器 456分别形成在波纹管筒452的上端。在此情况下，室体410在其对应于 相应波纹管筒452中心的下表面的位置处形成有偏心补偿器插入凹陷 412。以这种配置，当波纹管筒452与室体410的下表面接触而竖直移动 室体410时，偏心补偿器456在被提升的同时滑入所述插入凹陷412中，以顺利地寻找精确的接触位置。
引导构件454连接到室体410并且适于引导室体410的竖直移动。 参考图21，在本实施例中，引导构件454优选地采用引导块单元的形式， 且在其下表面处连接到室基座框架460的上表面并且在其上表面处插入 到形成于室体410下表面的引导凹槽中。在室体下表面提供用作引导构 件的引导块单元具有如下作用，即可引导室体的精确竖直移动方向而无 需用于引导构件的单独安装空间。
或者，引导构件可釆用引导柱的形式，其位于室体410旁并且连接 到室体410的侧壁以引导室体410的竖直移动方向。
水平驱动装置440用来在面对闸式阀设置方向的方向上水平移动上 盖420。就是说，水平驱动装置440连接到上盖420，以便以可水平移动 的方式支撑上盖420。当室体410根据室体提升装置450的操作向下移动 预定距离并因此与上盖420分离时，水平驱动装置440水平移动上盖420， 直到上盖420达到所需旋转半径。
在本实施例中，水平驱动装置440包括一对导轨442，其相互平行设 置而使上盖420位于其间。导轨442用来在水平方向上引导上盖420，并 因此提供上盖420的水平移动路径。参考图23，每个导轨442都分为面 对上盖420的第一部分442a和水平延伸到上盖420以外的第二部分442b。 优选地，第二部分442b可向垂直于第一部分442a的上盖420侧壁折叠， 使得它在不使用时折叠起来，以使真空加工设备所占用的面积最小。
根据本实施例的真空加工设备400可进一步包括支撑框架470，其设 置在室体410旁并且适于在上盖420沿导轨442水平移动时接收上盖420。提供单独的支撑框架470的优点在于，单个支撑框架可用于包括在真空 加工设备中的多个真空室。就是说，取代为多个真空室分别提供支撑框 架的情况，单个可移动支撑框架可共同用于所述多个真空室。
参考图24，在本实施例中，支撑框架470包括：水平框架件472; 竖直框架件474;以及间隙填充件476。水平框架件472具有与导轨442 相同的高度并且在与导轨442相同的方向上延伸以引导上盖420的水平 移动。竖直框架件474用来将水平框架件472支撑于与导轨442相同的 高度。优选地，竖直框架件474适于调节水平框架件472的高度以消除 水平框架件472和导轨442之间的高度差。
间隙填充件476设置在面对室的水平框架件472的一端。当支撑框 架470接近导轨442时，间隙填充件476适于填充水平框架件472和导 轨442之间的间隙。如公知的，由于设置在室周围的各种元件以及支撑 框架本身的配置，水平框架件472难以与导轨442紧密接触。因此，如 图24中所示，单独提供间隙填充件476来填充水平框架件472和导轨442 之间的间隙。在本实施例中，间隙填充件476以可枢转的方式铰接于水 平框架件472，使得它们在输送期间折叠起来，但在使用中进行枢转以填 充水平框架件472和导轨442之间的间隙。
优选地，每个间隙填充件476可设置有竖直驱动单元以保证其竖直 移动。尽管未示出，竖直驱动单元优选地采用滚珠螺杆的形式以实现间 隙填充件476的精确竖直移动。
根据本实施例的支撑框架470优选地进一步包括轮478，以方便其移 动。轮478分别安装在竖直框架件474的下端，从而减小竖直框架件474和地板之间的摩擦力，以确保竖直框架件474容易水平移动。
根据本实施例的支撑框架470可进一步包括一对旋转构件477。旋转 构件477用来旋转上盖420。在本实施例中，所述一对旋转构件477安装 于水平框架件472，使得它们位于上盖420的相对侧。旋转构件477连接 到上盖420的相对侧壁的中心，并且适于可旋转地支撑上盖420。因此， 在上盖420由水平驱动装置440移动而达到足够的旋转半径时，旋转构 件477旋转上盖420，从而使上盖420向上打开，以便能够容易管理和维 修其内部设备。
优选地，支撑框架470进一步包括一个或多个固定单元479，以将支 撑框架470固定到室体410。固定单元479用来防止支撑框架470在上盖 420的水平移动和旋转期间移离室体410。在本实施例中，每个固定单元 479都包括一对固定块479a和一固定销479b。因此，如果所述一对固定 块479a彼此精确对准，则固定销47%通过固定块479a插入而将支撑框 架470维持在固定位置。
以下将说明根据本实施例的真空加工设备400的上盖420的打开/关 闭过程。
首先，如图25A所示，利用室体提升装置450将室体410降低10mm 到15mm的距离以防止上盖420和室体410之间的干扰。然后，如图25B 所示，上盖420根据水平驱动装置440的操作而水平移动。在此情况下， 当使用支撑框架470时，必须将支撑框架470设置成与导轨442紧密接 触。而且，当仅使用导轨442时，打开导轨442的第二部分442b以达到 上盖420的稳定旋转半径。在水平移动上盖420而确保其稳定旋转之后，如图25C所示，操作旋转构件477以将上盖420旋转180°。以这种方式， 上盖420得以向上打开而使得能够维修其中的设备。在完成设备维修之 后，以相反的顺序执行以上所述的上盖420的打开过程，从而关闭上盖 420。
第五实施例
根据本实施例的真空加工设备包括：负载锁定室；馈送室；和一个 或多个工艺室，但为方便说明，以下描述仅针对一个工艺室。参考图26， 根据本实施例的真空加工设备500包括：室体510;上盖520;水平驱动 装置540;基板入口E;闸式阀G;和室体提升装置550。
在根据本实施例的真空加工设备500中，室体510总体上具有矩形 盒形状，并且上盖520可分离地设置在室体510上，从而构成真空室。 真空室用来加工其中的具有矩形形状的大面积的平板显示器基板，并因 此总体上具有对应于所述矩形基板的矩形盒形状。真空室在其内部设置 有排气系统（未示出）以在室中建立真空。在利用排气系统的操作而在 室中建立真空之后，对放置在室中的基板执行所需工艺。
室体510形成有基板入口 E，其用作从外部台站接收基板以便于装载 基板以及排出基板以便于卸载基板的通路。通常，基板在其以躺置状态 水平移动时进行装载和卸载，因此，基板入口E穿通室体510的侧壁之 一。为打开和关闭基板入口 E，室体510设置有闸式阀G。基板入口 E 在装载和卸载基板的过程中持续打开，但必须在完全装载基板之后关闭， 从而在室的关闭状态下进行所需基板加工。因此，闸式阀G竖直移动以打开和关闭基板入口E。
水平驱动装置540用来在垂直于闸式阀G设置方向的方向上水平移
动上盖520。为使真空加工设备500所占用的占地面积最小，本实施例提 出，在各个工艺室之间的未用空间中维修上盖520。为此，上盖520必须 在垂直于闸式阔G设置方向的方向上水平移动，并因此水平驱动装置540 位于与闸式阀G相同的平面中。在此情况下，为防止位于同一平面的闸 式阀G和水平驱动装置540彼此之间的干扰，水平驱动装置540放置得 比闸式阀G高。
参考图29，本实施例的水平驱动装置540包括：上盖移动框架542; 和一对水平移动器544。在比闸式阀G的驱动高度高的位置，上盖移动 框架542部分地设置在上盖520的相对侧。上盖移动框架542提供上盖 520的水平移动路径。
参考图28，上盖移动框架542包括：第一水平框架件542a，每个在 其上表面处支撑水平移动器544之一的第一端；以及第一竖直框架件 542b，其连接到第一水平框架件542a的下表面以将第一水平框架件542a 支撑在预定高度。在本实施例中，为使已完全组装的上盖移动框架542 可安装到真空室，将第一水平框架件542a设置在比上盖520的上端高的 高度。而且，第一竖直框架件542b设置成使相邻的框架件彼此间隔开比 真空加工设备宽度宽的距离。优选地，在每个第一水平框架件542a的上 表面形成水平的齿轮，使得所述齿轮与辊544a接合以引导上盖520的精 确水平移动。
每个水平移动器544具有固定设置在上盖移动框架542上的第一端和连接到上盖520的第二端。水平移动器544用来沿上盖移动框架542 水平移动上盖520。本实施例的水平移动器544包括：辊544a，其连接 到上盖移动框架542以在其上执行旋转运动；竖直连接器544b，其在不 同的高度处连接到辊544a和上盖520中心；以及马达544c，用来提供旋 转辊544a所需的动力。以这种配置，即使当辊544a设置在与上盖520 中心不同的高度时，辊544a也可借助于竖直连接器544b稳定地连接到 上盖520，从而可实现上盖520的顺利旋转和水平运动。而且，辊544d 插在每个第一水平框架件542a和相关连接器544b之间以减小上盖移动 期间的负载和摩擦力。
根据本实施例的真空加工设备500可进一步包括支撑框架570，其设 置在室体510旁并且适于在上盖520沿第一水平框架件542a水平移动时 接收上盖520。提供单独的支撑框架570的优点在于，单个支撑框架可用 于包括在真空加工设备中的多个真空室。就是说，取代为多个真空室分 别提供支撑框架的情况，单个可移动支撑框架可共同用于所述多个真空 室。
参考图30，在本实施例中，支撑框架570包括：第二水平框架件572; 第二竖直框架件574;以及间隙填充件576。第二水平框架件572具有与 第一水平框架件542a相同的高度并且在与第一水平框架件542a相同的 方向上延伸以引导上盖520的水平移动。第二竖直框架件574用来将第 二水平框架件572支撑于与第一水平框架件542a相同的高度。优选地， 竖直框架件574适于调节第二水平框架件572的高度以消除第一和第二 水平框架件542a和572之间的高度差。尽管未示出，可提供具有滚珠螺杆形状的竖直驱动单元来实现对第二水平框架件572的高度的精确调节。
间隙填充件576设置在面对室的第二水平框架件572的一端。当支 撑框架570接近第一水平框架件542a时，间隙填充件576适于填充第一 和第二水平框架件542a和572之间的间隙。如公知的，由于设置在室周 围的各种元件以及支撑框架本身的配置，第二水平框架件572难以与第 一水平框架件542a紧密接触。因此如图30中所示，单独提供间隙填充 件576来填充第一和第二水平框架件542a和572之间的间隙。在本实施 例中，间隙填充件576以可枢转的方式铰接于第二水平框架件572，使得 它们在输送期间折叠起来，但在使用中进行枢转而填充第一和第二水平 框架件542a和572之间的间隙。
优选地，每个间隙填充件576可设置有竖直驱动单元以保证其竖直 移动。
根据本实施例的支撑框架570优选地进一步包括轮578，以方便其移 动。轮578分别安装在第二竖直框架件574的下端，以便于减小第二竖 直框架件574和地板之间的摩擦力，确保第二竖直框架件574容易水平 移动。
根据本实施例的支撑框架570可进一步包括一对旋转构件577。旋转 构件577用来旋转上盖520。在本实施例中，所述一对旋转构件577安装 于第二水平框架件572，并使得它们位于放置在其间的上盖520的相对侧 处。旋转构件577连接到上盖520的相对侧壁的中心，并且适于可旋转 地支撑上盖520。因此，在上盖520由水平驱动装置540移动而达到足够 的旋转半径时，旋转构件577旋转上盖520，从而使上盖520向上打开以便能够容易管理和维修其内部设备。
优选地，支撑框架570进一步包括一个或多个固定单元579，以将支 撑框架570固定到室体510。固定单元579用来防止支撑框架570在上盖 520的水平移动和旋转期间移离室体510。在本实施例中，每个固定单元 579都包括一对固定块579a和一固定销579b。因此，如果所述一对固定 块579a彼此精确对准，则固定销579b通过固定块579a插入而将支撑框 架570维持在固定位置。
室体提升装置550用来竖直移动室体510。在本实施例中，室体提升 装置550包括：多个提升驱动构件552;和引导构件554。
提升驱动构件552插在室体510和将室体510支撑于距离地板一预 定高度处的室基座框架560之间。提升驱动构件552适于竖直移动室体 510。竖直移动室体510具有如下作用，即在室体510与上盖520的下端 接触时防止其干扰上盖520的水平移动，并且亦防止上盖520和O形圈 之间的干扰。在上盖520固定于一预定高度的状态下，室体510被降低 成与上盖520间隔开一预定距离。
本实施例采用多个提升驱动构件552，且每个提升驱动构件都具有小 容量。就价格而言，与使用单个大容量提升驱动构件相比，使用多个小 容量提升驱动构件552是有利的。而且，多个提升驱动构件552可在多 个位置处支撑重的室体，并因此在维持室体的平衡上是有利的。每个提 升驱动构件552优选地采用波纹管筒的形式。在此情况下，如图27中所 示，波纹管筒优选地分别设置有偏心补偿器556。具体而言，各半球形的 偏心补偿器556形成在波纹管筒552的上端。室体510在其下表面上对应于相应波纹管筒552中心的位置处形成有偏心补偿器插入凹陷512。以 这种配置，当波纹管筒552与室体510的下表面接触而竖直提升室体510 时，偏心补偿器556在被提升的同时滑入所述插入凹陷512中，以顺利 地寻找精确的接触位置。
引导构件554连接到室体510并且适于引导室体510的竖直移动。 参考图26，在本实施例中，引导构件554优选地采用引导块单元的形式， 该引导块单元在其下表面处连接到室基座框架560的上表面并且在其上 表面处插入到形成于室体510下表面的引导凹陷中。在室体下表面提供 引导块单元具有如下作用，即可引导室体的精确竖直移动方向而无需用 于引导构件的单独安装空间。
或者，引导构件可采用引导柱的形式，其位于室体510旁并且连接 到室体510的侧壁以引导室体510的竖直移动方向。
以下将说明根据本实施例的真空加工设备500的上盖520的打开/关 闭过程。
首先，如图31A所示，利用室体提升装置550将室体510降低10mm 到15mm的距离以防止上盖520和室体510之间的干扰。然后，如图31B 所示，上盖520根据水平驱动装置540的操作而水平移动。在此情况下， 当使用支撑框架570时，必须将支撑框架570设置成与第一水平框架件 将542a紧密接触。在水平移动上盖520而确保其稳定旋转之后，如图31C 所示，操作旋转构件577以将上盖520旋转180°。以这种方式，上盖520 得以向上打开以便能够维修其中的设备。在完成设备维修之后，以相反 的顺序执行以上所述的上盖520的打开过程，从而关闭上盖520。第六实施例
根据本实施例的真空加工设备包括：负载锁定室；馈送室；和一个 或多个工艺室，但为方便说明，以下描述仅针对一个工艺室。参考图32， 根据本实施例的真空加工设备600包括：室体610;上盖620; —个或多
个水平驱动单元630; —对上盖移动框架640;和多个竖直移动单元650。 在根据本实施例的真空加工设备600中，室体610总体上具有矩形 盒形状，并且上盖620可分离地设置在室体610上，从而构成真空室。 真空室用来加工其中的具有矩形形状的大面积的平板显示器基板，并因 此总体上具有对应于所述矩形基板的矩形盒形状。真空室在其内部设置 有排气系统（未示出）以在室中建立真空。在利用排气系统的操作而在 室中建立真空之后，对放置在室中的基板执行所需工艺。
室体610形成有基板入口，其用作从外部台站接收基板以便于装载 基板以及排出基板以便于卸载基板的通路。通常，基板在其以躺置状态 水平移动时进行装载和卸载，因此，基板入口穿通室体610的侧壁之一。 为打开和关闭基板入口，室体610设置有闸式阀。基板入口在装载和卸 载基板的过程中持续打开，但必须在完全装载基板之后关闭，从而在室 的关闭状态下进行所需的基板加工。因此，闸式阀竖直移动以打开和关 闭基板入口。
水平驱动单元630用来在面对闸式阀设置方向的方向上水平移动上 盖620。如图32中所示，在本实施例中，可提供多个水平驱动单元630。 在此情况下，多个水平驱动单元630共同分担重的上盖620的负载，从而实现稳定性的增加。此外，上盖620能够被支撑于多个位置处，因此 没有上盖620振动的危险。这增加了加工操作的稳定性。
所述一对上盖移动框架640以可竖直移动的方式位于上盖620的相 对侧。上盖移动框架640用来提供水平驱动单元630的水平移动路径， 使得上盖620水平移动以达到打开所需的足够旋转半径。
所述多个竖直驱动单元650连接到每个上盖移动框架640的下表面， 使得它们彼此间隔开预定距离。竖直驱动单元650用来竖直移动上盖移 动框架640和上盖620。在本实施例中，不是直接提升上盖620，而是提 升上盖620支撑于其上的上盖移动框架640。而且，多个小容量筒而不是 单个大容量管筒用作竖直驱动单元650，从而改进了加工稳定性。因此， 在本实施例中，所述多个竖直驱动单元650沿每个上盖移动框架640设 置。下框架652设置在每个上盖移动框架640之下且彼此平行，使得所 述多个竖直驱动单元650以预定距离设置在下框架652上。优选地，所 述多个竖直驱动单元650于下框架652上被同时驱动以竖直移动上盖移 动框架640，从而使上盖移动框架640可平行于地板而移动。
参考图33，每个上盖移动框架640都分为面对上盖620的第一部分 640a和水平延伸到上盖620之外的第二部分640b。优选地，第二部分640b 可垂直于第一部分640a向着上盖620的侧壁折叠，使得其在不使用时折 叠起来，以使真空加工设备所占用的面积最小。
根据本实施例的真空加工设备600可进一步包括支撑框架670，其设 置在室体610旁并且适于在上盖620沿上盖移动框架640水平移动时接 收上盖620。提供单独的支撑框架670的优点在于，单个支撑框架可用于包括在真空加工设备中的多个真空室。就是说，取代为多个真空室分别 提供支撑框架的情况，单个可移动支撑框架可共同用于所述多个真空室。
参考图34，在本实施例中，支撑框架670包括：水平框架件672; 竖直框架件674;以及间隙填充件676。水平框架件672具有与上盖移动 框架640相同的高度并且在与上盖移动框架640相同的方向上延伸以引 导上盖620的水平移动。竖直框架件674用来将水平框架件672支撑于 与上盖移动框架640相同的高度。优选地，竖直框架件674适于调节水 平框架件672的高度以消除水平框架件672和上盖移动框架640之间的
间隙填充件676设置在面对室的水平框架件672的一端。当支撑框 架670接近上盖移动框架640时，间隙填充件676适于填充水平框架件 672和上盖移动框架640之间的间隙。如公知的，由于设置在室周围的各 种元件以及支撑框架本身的配置，水平框架件672难以与上盖移动框架 640紧密接触。因此，如图34中所示，单独提供间隙填充件676来填充 水平框架件672和上盖移动框架640之间的间隙。在本实施例中，间隙 填充件676以可枢转的方式铰接于水平框架件672，使得它们在输送期间 折叠起来，但在使用中进行枢转而填充水平框架件672和上盖移动框架 640之间的间隙。
优选地，每个间隙填充件676可设置有竖直驱动单元以保证其竖直 移动。
根据本实施例的支撑框架670优选地进一步包括轮678，以方便其移 动。轮678分别安装在竖直框架件674的下端，以便于减小竖直框架件674和地板之间的摩擦力，确保竖直框架件674容易水平移动。
根据本实施例的支撑框架670可进一步包括一对旋转构件677。旋转 构件677用来旋转上盖620。在本实施例中，所述一对旋转构件677安装 于水平框架件672，使得它们位于放置在其间的上盖620的相对侧。旋转 构件677连接到上盖620的相对侧壁的中心，并且适于可旋转地支撑上 盖620。因此，在上盖620由水平驱动单元630移动而达到足够的旋转半 径时，旋转构件677旋转上盖620，从而使上盖620向上打开以便能够容 易地管理和维修其内部设备。
优选地，支撑框架670进一步包括一个或多个固定单元679，以将支 撑框架670固定到室体610。固定单元679用来防止支撑框架670在上盖 620的水平移动和旋转期间移离室体610。在本实施例中，每个固定单元 679都包括一对固定块679a和一固定销679b。因此，如果所述一对固定 块679a彼此精确对准，则固定销679b通过固定块679a插入而将支撑框 架670维持在固定位置。
以下将说明根据本实施例的真空加工设备600的上盖620的打开/关 闭过程。
首先，如图35A所示，在同时驱动多个竖直驱动单元650时将上盖 移动框架640提升lmm到10mm的距离。由此使支撑在上盖移动框架640 上的水平驱动单元630、旋转构件677和上盖620得到提升。因此如果该 室中的真空被释放，如图35B所示，上盖620根据水平驱动单元630的 操作而水平移动。在此情况下，当使用支撑框架670时，必须将支撑框 架670设置成与上盖移动框架640紧密接触。在水平移动上盖620而达到足够的旋转半径之后，如图35C所示，操作旋转构件677以将上盖620 旋转180°。以这种方式，上盖620得以向上打开而使得能够维修其中的 设备。在完成设备维修之后，以相反的顺序执行以上所述的上盖620的 打开过程，从而关闭上盖620。
第七实施例
根据本实施例的真空加工设备包括：负载锁定室；馈送室；和一个 或多个工艺室，但为方便说明，以下描述仅针对一个工艺室。参考图36， 根据本实施例的真空加工设备700包括：室体710;上盖720;上盖提升
装置730;和水平驱动装置740。
在根据本实施例的真空加工设备700中，室体710总体上具有矩形 盒形状，并且上盖720可分离地设置在室体710上，从而构成真空室。 真空室用来加工其中的具有矩形形状的大面积的平板显示器基板，并因 此总体上具有对应于所述矩形基板的矩形盒形状。真空室在内部设置有 排气系统（未示出）以在室中建立真空。在利用排气系统的操作而在室 中建立真空之后，对放置在室中的基板执行所需工艺。
室体710形成有基板入口，其用作从外部台站接收基板以便于装载 基板以及排出基板以便于卸载基板的通路。通常，基板在其以躺置状态 水平移动时进行装载和卸载，因此，基板入口穿通室体710的侧壁之一。 为打开和关闭基板入口，室体710设置有闸式阀。基板入口在装载和卸 载基板的过程中持续打开，但必须在完全装载基板之后关闭，从而在室 的关闭状态下进行所需基板加工。因此，基板入口在闸式阀竖直移动时打开和关闭。
参考图36，上盖提升装置730可分离地设置在上盖720上以竖直移 动上盖720。在本实施例中，在为其打开操作而水平移动之前，上盖720 利用上盖提升装置730而提升预定距离。
本实施例的上盖提升装置730包括：多个提升机起重装置732;以及 起重装置支撑框架734。提升机起重装置732连接到支撑框架734以向下 延伸，从而使其连接到上盖720的上表面以提升上盖720。所述多个提升 机起重装置732分别连接到上盖720的多个位置，以共同分担重的上盖 720的负载。利用多个连接于其的提升机起重装置732来提升上盖720具 有分散负载集中度的效果。而且，由于在多个位置处支撑上盖720，可使 上盖720竖直移动期间的上盖720振动最小。
起重装置支撑框架734在上盖720上方放置成与上盖720的上表面 平行地间隔开，并且具有对应于上盖720的边缘的形状。所述多个提升 机起重装置732连接到起重装置支撑框架734的适当位置以由起重装置 支撑框架734来支撑。参考图37，起重装置支撑框架734总体上具有对 应于上盖720的边缘的矩形圈形状，但具有比上盖720大的宽度。为使 所述多个提升机起重装置732可设置在各个位置，如图37中所示，辅助 框架733设置在起重装置支撑框架734处。辅助框架733在起重装置支 撑框架734内设置成跨起重装置支撑框架734而延伸。如图37中所示， 提升机起重装置732位于辅助框架733的相交处。
根据本实施例的上盖提升装置730可由主起重装置（未示出）从一 个地方移动到另一个地方，所述主起重装置安装于其中真空加工设备所安装处于的无尘室的顶部。具体而言，上盖提升装置730由主起重装置 提升，使得其从一个真空加工设备移动到另一个真空加工设备以便打开
设备的上盖。因此，优选的是起重装置支撑框架734在其上表面设置有 连接器（未示出）以与主起重装置连接。使用可移动的上盖提升装置730 消除了为真空加工设备的所有工艺室分别提供上盖提升装置的需要，从 而可实现制造成本的减少和设备结构的简化。
优选地，根据本实施例的上盖提升装置730设置有防振构件736。防 振构件736插在起重装置支撑框架734和上盖720之间，并且适于在上 盖720提升或降低时防止上盖720的振动。在本实施例中，如图36中所 示，防振构件736可包括多个弹性弹簧。在此情况下，优选的是弹性弹 簧736连接到上盖720的上表面的拐角或边缘，以便于实现上盖720的 防振效能的增加。当防振构件736由弹性弹簧形成时，它可吸收上盖720 的振动，并且弹性地挤压上盖720，从而实现防振动效能的增加。
参考图38，或者，防振构件736可包括防振夹具736a，其具有对应 于上盖720边缘的形状。防振夹具736a配置成与形成在上盖720上表面 处的振动停止器722连接。在此情况下，为有效地防止上盖720的振动， 振动停止器722和防振夹具736a必须配置成相互紧密接触。在本实施例 中，如图38中所示，优选的是振动停止器722和防振夹具736a两者的 接触表面都向外倾斜，以确保在提升上盖720时振动停止器722的接触 表面可与防振夹具736a的接触表面顺利地接触，以便在其上滑动。
优选地，防振夹具736a设置有上盖高度传感器738以精确地测量上 盖720的高度。上盖高度传感器738插在防振夹具736a和振动停止器722之间以感测提升的上盖720的高度。精确测量上盖720的高度是重要的， 这是因为在上盖720完全提升之后如果继续将动力施加到提升机起重装 置732，则可能会损坏上盖720或起重装置。而且，当上盖720得到不充 分的提升时，在上盖720的水平移动期间可导致损坏O形圈。因此，在 本实施例中，作为接触型传感器的上盖高度传感器738设置在防振夹具 736a的接触表面处，使得当提升的上盖720触及传感器738时提升机起 重装置732的操作停止。
水平驱动装置740配置成位于上盖720的相对侧，使得上盖720位 于其间。水平驱动装置740用来在上盖720由上盖提升装置730提升之 后水平移动上盖720。参考图36，水平驱动装置740支撑起重装置支撑 框架734的相对侧以水平移动起重装置支撑框架734，并因此水平移动连 接到起重装置支撑框架734的提升的上盖720。因此，在本实施例中，水 平驱动装置740包括一对导轨742和驱动马达（未示出）。如图36中所 示，导轨742与起重装置支撑框架734的相对侧接触以水平引导起重装 置支撑框架734。驱动马达提供水平移动起重装置支撑框架734所需的动 力。因此，驱动马达连接到起重装置支撑框架734和导轨742以水平移 动起重装置支撑框架734。
根据本实施例的真空加工设备700可进一步包括支撑框架770，其设 置在室体710旁并且适于在上盖720由水平驱动装置740水平移动时接 收上盖720。提供单独的支撑框架770的优点在于，单个支撑框架可用于 包括在真空加工设备中的多个真空室。就是说，取代为多个真空室分别 提供支撑框架的情况，单个可移动支撑框架可共同用于所述多个真空室。参考图39，在本实施例中，支撑框架770包括：水平框架件772; 竖直框架件774;间隙填充件776;以及旋转构件777。水平框架件772 具有与导轨742相同的高度并且在与导轨742相同的方向上延伸以引导 上盖720的水平移动。竖直框架件774用来将水平框架件772支撑于与 导轨742相同的高度。优选地，竖直框架件774适于调节水平框架件772 的高度以消除水平框架件672和导轨742之间的高度差。
间隙填充件776设置在面对室的水平框架件772的一端。当支撑框 架770接近导轨742时，间隙填充件776适于填充水平框架件772和导 轨742之间的间隙。如公知的，由于设置在室周围的各种元件以及支撑 框架本身的配置，水平框架件772难以与导轨742紧密接触。因此，如 图39中所示，单独提供间隙填充件776来填充水平框架件772和导轨742 之间的间隙。在本实施例中，间隙填充件776以可枢转的方式铰接于水 平框架件772，使得它们在输送期间折叠起来，但在使用中进行枢转以填 充水平框架件772和导轨742之间的间隙。
优选地，每个间隙填充件776可设置有竖直驱动单元以保证其竖直 移动。尽管未示出，竖直驱动单元优选地采用滚珠螺杆的形式以实现间 隙填充件776的精确竖直移动。
旋转构件777用来在上盖720移动到支撑框架770之后旋转上盖720 。 在本实施例中，所述一对旋转构件777位于水平框架件772的中心，使 得它们可分离地连接到上盖720。就是说，旋转构件777位于上盖720的 相对侧，并且可水平移动以与设置在上盖720相对侧壁的连接器724连 接。因此，当上盖720到达旋转位置时，旋转构件777与连接器724连接以将上盖720旋转180°。
优选地，每个间隙填充件776可设置有竖直驱动单元以保证其竖直 移动。
根据本实施例的支撑框架770优选地进一步包括轮778，以方便其移 动。轮778分别安装在竖直框架件774的下端，以便于减小竖直框架件 774和地板之间的摩擦力，确保竖直框架件774容易水平移动。
优选地，支撑框架770进一步包括一个或多个固定单元779以将支 撑框架770固定到室体710。固定单元779用来防止支撑框架770在上盖 720的水平移动和旋转期间移离室体710。在本实施例中，每个固定单元 779都包括一对固定块779a和一固定销779b。因此，如果所述一对固定 块779a彼此精确对准，则固定销77%通过固定块779a插入而将支撑框 架770维持在固定位置。
以下将说明根据本实施例的真空加工设备700的上盖720的打开/关 闭过程。
首先，如图40A所示，在同时驱动多个提升机起重装置732时将上 盖720提升lmm到10mm的距离。在上盖720被提升时，室中的真空得 到释放。然后，如图40B所示，上盖720和起重装置支撑框架734根据 水平驱动装置740的操作而水平移动。在此情况下，当使用支撑框架770 时，必须将支撑框架770设置成与导轨742紧密接触。在水平移动上盖 720而确保其稳定旋转之后，如图40C所示，操作旋转构件777而将上 盖720旋转180。。以这种方式，上盖720得以向上打开以便能维修其中 的设备。在完成设备维修之后，以相反的顺序执行以上所述的上盖720的打开过程，从而关闭上盖720。 第八实施例
参考图41和42，根据本发明优选实施例的输送提升机夹具系统包括:
主体810;第一到第三连接环816、 818和826;螺杆820;移动器822; 动力源830;下板834;轴承836;和固定板838。
主体810为具有适当厚度的正方形形状。主体810具有：四个引导 槽812，其沿对角线从中心点到主体810的四个拐角延伸一预定距离；以 及十字形延伸814，其从主体810的中心点向上延伸一预定距离。
引导槽812彼此等间距间隔开90°，并且各具有向下渐縮的横截面。
在本实施例中，为降低材料成本，主体810部分地凹陷。该凹陷结 构亦具有加强主体810的总体强度的功能。第二连接环818分别安装在 主体810上表面的四个拐角处，以便于在需要传递某个重物时，起重装 置C的线连接于第二连接环818。利用连接环818将起重装置C的线连 接到主体810的拐角具有实现均匀负载分布的作用。
第一连接环816安装到设置在主体810中心的延伸814的上表面， 以连接到设置在无尘室顶部的起重装置C。
螺杆820分别容纳在引导槽812中，同时各在与其前端和后端间隔 开预定距离的位置处放入轴承。螺杆820由左、右螺杆组成。左、右螺 杆820两者具有彼此相同的旋转方向，左、右螺杆820使分别紧固于螺 杆820的移动器822同时向内或向外移动，从而使移动器822的位置同 时均匀地变化。每个移动器822具有对应于引导槽822横截面的向下渐縮块形状。 移动器822被水平地穿得一孔，使得一对螺母824安装在该孔的相对侧。 螺杆820可旋转地紧固于螺母824。第三连接环826安装于移动器822下 表面的中心。
动力源830具有中空的竖直筒形状，并且为台阶形，使得其上端比 其下端窄。U形把手832沿着动力源830的上端沿圆周设置。动力源830 位于竖直穿通主体810中心的通孔的上端区域中。
动力源830在其下表面形成有螺旋螺纹，并且该螺旋螺纹与形成在 每个螺杆820前端的螺纹接合。以这种配置，如果动力源830在一方向 上旋转，则多个螺杆820通过接合的动力源830的螺旋螺纹和螺杆820 的螺纹而同时旋转。由于左、右螺杆820彼此相对放置，同时地，紧固 于螺杆820的移动器822向内或向外移动，而均匀地改变位置。
下板834插入到穿通主体810中心的通孔的下端区域中。为此，下 板834为台阶形，使得其上端比其下端窄。轴承836配合于下板834的 台阶形部分。轴承836用来竖直支撑下板834并且放置成与每个螺杆820 的前端的下表面接触。
具体而言，如果动力源830旋转，则与动力源830接触的螺杆820 旋转。在此情况下，轴承836与每个螺杆820的下表面接触，用来方便 螺杆820的旋转。
固定板838具有盘形形状，并且借助于多个螺栓紧固到主体810的 下表面的中心。固定板838用来将固定有轴承的下板834定位在主体810 的中心通孔中，以便允许轴承836的上表面与每个螺杆820前端的下表面接触。
如以上所述，容纳在主体810的引导槽812中的每个移动器822具 有颠倒的梯形形状并因此具有相对的倾斜表面。因此，即使移动器822 未利用单独的固定装置固定于引导部分812，移动器822的移动亦经由其 相对的倾斜表面而引导（见图43)。
利用以上所述的配置，如图41到43所示，本发明的具有预定尺寸 的输送提升机夹具系统能够在连接环826向内或向外移动至对应于上盖 尺寸的适当位置时传递室（未示出）的上盖（未示出）。
在此，为改变连接环826的位置，首先，在一方向上手动旋转沿着 动力源830的上端沿圆周设置的把手832以旋转动力源830。如果动力源 830旋转，则动力源830的下表面的螺旋螺纹旋转，从而使与动力源830 的螺纹接合的四个螺杆820同时旋转。由于左螺杆820的螺纹与右螺杆 820的螺纹相反而形成，紧固于左、右螺杆820的移动器822同时向内或 向外移动，从而改变位置。这样，安装在移动器822下表面的连接环826 亦改变位置。以这种方式，当需要传送大面积的上盖或其它各种板时， 移动器822向外移动而使得能够容易地连接上盖。相反，当需要传递小 面积的上盖或其它各种板时，移动器822向内移动而使得能够容易地连 接上盖。
动力源830的操作由驱动马达（未示出）来进行。 如从以上描述显而易见的，本发明提供了一种适合于加工大面积基 板的大型真空加工设备，其具有如下效果。
首先，根据本发明，上盖仅需要简化了的旋转及水平驱动装置，并且室体能够以此简化了的结构来竖直移动，由此可容易地实现对上盖的 打开/关闭操作。
第二，根据本发明，上盖在其水平移动到工艺室之间的未用空间之 后打开。这具有真空加工设备占地面积的显著减小的效果。
尽管已经为了说明的目的而公开了本发明的优选实施例，本领域的 技术人员将理解，在所附权利要求中所公开的本发明的精神和范围内， 各种修改、添加和替换是可能的。