曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法专利检索-电磁铸造成型和铸造专利检索查询-专利查询网

曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法

阅读：134发布：2021-11-24

专利汇可以提供曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明的基板载台装置(PST)，于重量抵消装置(50)所具有的臂部(54)前端固定有与X梁置(50)产生磁吸力的X可动子(56)。重量抵消装置(50)，通过该磁吸力将本身重量及重量抵消装置(50)所支承的微动载台(30)等重量的一部分通过基架(14)传至地面(11)上。从而减轻加于防振装置(34)的偏载重。(25)所具有的X固定子 (82)对向、对重量抵消装，下面是曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种扫描型的曝光装置，是在曝光处理时相对曝光用能量束使曝光对象物体在与水平面平行的第1方向以既定第1行程移动，其具备：
移动体，能于所述第1方向至少以所述既定第1行程移动、且能在所述水平面内于与所述第1方向正交的第2方向以第2行程移动；
物体保持构件，能保持所述物体、与所述移动体一起至少在与所述水平面平行的方向移动；
重量抵消装置，从下方支承所述物体保持构件以抵消所述物体保持构件的重量；
支承构件，延伸于所述第1方向，从下方支承所述重量抵消装置并能在从下方支承所述重量抵消装置的状态下，于所述第2方向以所述第2行程移动；
支承架台，支承所述支承构件；以及
载重减轻装置，支承所述移动体，通过将作用于所述重量抵消装置的力的一部分释放至所述支承架台外部，来减轻作用于所述支承架台的重力方向的载重负荷。
2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述载重减轻装置是利用作用在所述移动体的一部分与所述重量抵消装置的一部分之间的力，来减轻所述载重负荷。
3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其中，所述移动体包含能于所述第1方向至少以所述既定第1行程移动的第1移动构件，与引导所述第1移动构件往所述第1方向的移动且能在所述水平面内于所述第2方向与所述第1移动构件一起以所述第2行程移动的第2移动构件。
4.如权利要求3所述的曝光装置，其中，所述第1移动构件是被包含设于所述第2移动构件的磁石、与设于所述第1移动构件的线圈的线性马达，以所述第1行程驱动于所述第1方向；
所述载重减轻装置是利用作用在所述磁石与所述重量抵消装置的一部分或所述支承构件的一部分之间的力，来减轻作用于所述支承构件的重力方向的载重负荷。
5.如权利要求4所述的曝光装置，其中，于所述重量抵消装置设有有芯线圈；
所述重量抵消装置是被所述磁石与所述有芯线圈之间的电磁相互作用而产生的电磁力，于所述支承构件上驱动于所述第1方向；
所述载重减轻装置利用作用在所述磁石与所述有芯线圈之间的磁力，来减轻所述载重负荷。
6.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述载重减轻装置是利用作用在所述移动体的一部分与所述支承构件的一部分之间的力，来减轻所述载重负荷。
7.如权利要求6所述的曝光装置，其中，所述载重减轻装置是通过将作用于所述支承构件的力的一部分释放至所述支承架台外部，来减轻所述载重负荷。
8.如权利要求6或7所述的曝光装置，其中，所述移动体包含能于所述第1方向至少以所述既定第1行程移动的第1移动构件、与引导所述第1移动构件往所述第1方向的移动且能在所述水平面内于所述第2方向与所述第1移动构件一起以所述第2行程移动的第2移动构件。
9.如权利要求8所述的曝光装置，其中，所述载重减轻装置是利用作用在所述第2移动构件与所述支承构件之间的力，来减轻所述载重负荷。
10.如权利要求8所述的曝光装置，其进一步具备支承所述第2移动构件、与所述支承架台在振动上分离的支承架；
所述第2移动构件是被包含设于所述支承架的磁石、与设于所述第2移动构件的有芯线圈的线性马达，以所述第2行程驱动于所述第2方向；
所述载重减轻装置利用作用在所述磁石与所述有芯线圈之间的磁力，进一步减轻所述载重负荷。
11.如权利要求4、5、9、10任一项所述的曝光装置，其中，所述支承构件是以连接装置机械性的连结于所述第2移动构件，在所述第2移动构件移动时通过所述连接装置被所述第2移动构件牵引，据以移动于所述第2方向。
12.如权利要求11所述的曝光装置，其中，所述连接装置中，与所述第2方向的刚性相较，其另一方向的刚性较低。
13.如权利要求11所述的曝光装置，其中，所述连接装置是在通过所述支承构件的重心位置、与所述第2方向平行的轴线上，连接于所述支承构件。
14.如权利要求1所述的曝光装置，其进一步具备导件，所述导件包含以机械方式引导所述支承构件往所述第2方向的移动的单轴导引装置的要素；
所述导件相对所述移动体在振动上分离。
15.如权利要求14所述的曝光装置，其中，所述单轴导引装置于所述第1方向以既定间隔设有多个。
16.如权利要求14或15所述的曝光装置，其中，所述导件沿所述第2方向彼此分离配置有多个；
所述支承构件是搭载在所述多个导件上。
17.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述支承构件是由中实的石材或中空的铸造物构成。
18.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述重量抵消装置是以非接触状态搭载在所述支承构件上。
19.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述物体保持构件能相对所述移动体至少于所述第1方向、所述第2方向、及绕与所述水平面正交的轴线方向微动。
20.如权利要求19所述的曝光装置，其中，所述物体保持构件进一步能相对所述移动体在与所述水平面正交的方向、及绕与所述水平面平行的轴线方向微动。
21.如权利要求1所述的曝光装置，其进一步具备将所述物体保持构件支承为能绕与所述水平面平行的轴线摆动的摆动支承装置。
22.如权利要求21所述的曝光装置，其中，所述摆动支承装置以非接触方式支承所述物体保持构件。
23.如权利要求21所述的曝光装置，其中，所述摆动支承装置被所述所述重量抵消装置从下方支承；
所述重量抵消装置是以非接触状态搭载在所述支承构件上。
24.如权利要求21或22所述的曝光装置，其中，所述重量抵消装置具备产生铅直方向向上的力的力产生装置；
所述摆动支承装置是配置成能在与所述水平面正交的方向移动，将所述力产生装置产生的所述力传递至所述物体保持构件。
25.一种扫描型曝光装置，是在曝光处理时相对曝光用能量束使曝光对象的物体在与水平面平行的第1方向以既定第1行程移动，其具备：
第1移动构件，能于所述第1方向至少以所述既定第1行程移动；
第2移动构件，引导所述第1移动构件往所述第1方向的移动、且能在所述水平面内与所述第1方向正交的第2方向与所述第1移动构件一起以第2行程移动；
物体保持构件，保持所述物体、能与所述第1移动构件一起至少在与所述水平面平行的方向移动；
重量抵消装置，从下方支承所述物体保持构件以抵消所述物体保持构件的重量；
支承架台，包含从下方支承所述重量抵消装置的平台；
线性马达，包含设于所述第2移动构件的磁石与设于所述第1移动构件的线圈，将所述第1移动构件以所述第1行程驱动于所述第1方向；以及
载重减轻装置，支承所述第2移动构件，利用作用于所述磁石与所述重量抵消装置的一部分之间的力，来减轻作用于所述支承架台的重力方向的载重负荷。
26.如权利要求1或25所述的曝光装置，其中，所述物体用于平面显示器制造的基板。
27.一种平面显示器的制造方法，包含：
使用权利要求26所述的曝光装置使所述基板曝光的动作；以及
使曝光后的所述基板显影的动作。
28.一种元件制造方法，包含：
使用权利要求1至25中任一项所述的曝光装置使物体曝光的动作；以及使曝光后的所述物体显影的动作。

说明书全文

曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法

技术领域

[0001] 本发明是关于曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法，详言之，是关于制造半导体元件、液晶显示元件等的光刻工艺中所使用的曝光装置、使用前述曝光装置的平面显示器的制造方法、及使用前述曝光装置的元件制造方法。

背景技术

[0002] 一直以来，于制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微元件)的光刻工艺中，是采用一边使掩膜或标线片(以下，统称为“掩膜”)与玻璃板或晶圆(以下，统称为“基板”)沿既定扫描方向(scan方向)同步移动、一边将形成于掩膜的图案使用能量束转印至基板上的步进扫描(step & scan)方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称扫描机))等。

[0003] 作为此种曝光装置，有一种具有在能于扫描方向以长行程移动的X粗动载台上，搭载能于扫描交叉(cross scan)方向(与扫描方向正交的方向)移动的Y粗动载台的重叠型(龙门(gantry)型)载台装置，作为此种载台装置，以例如在由石材形成的平台(surface plate)上沿水平面移动的构成者广为人知(例如，参照专利文献1)。

[0004] 上述专利文献1的曝光装置，由于重量抵消装置是在对应步进扫描的大范围移动，因此必须于大范围将平台上面(重量抵消装置的移动导引面)的平面度作的高。此外，近年来曝光装置的曝光对象的基板有越来越大型化的倾向，随此，平台亦日渐大型化，因此除成本增加外，曝光装置的搬送性、安装时的作业性恶化等皆受到关心。为此，皆期待有一种能使平台变小的新技术的出现。

[0005] 先行技术文献

[0006] 专利文献

[0007] 专利文献1：美国专利申请公开第2010/0018950号说明书

发明内容

[0008] 用以解决课题的手段

[0009] 为缩小平台，本案发明人已提出一种具备支承重量抵消装置的平台移动于扫描交叉方向的被称为步进平台的平台的曝光装置(美国专利申请第13/221568号)。具备此步进平台的曝光装置，用以引导从下方支承保持曝光对象基板的基板保持构件的重量抵消装置往扫描方向的移动的步进平台，是在能移动于扫描交叉方向的状态下被支承于防振装置的架台上。具备步进平台的曝光装置，由于本身重量亦大的步进平台是在支承有基板保持构件及重量抵消装置等的状态下被驱动于扫描交叉方向，因此在驱动前后，曝光装置整体的重心移动大。因此，最近发现，使用步进平台的曝光装置，会于防振装置施加极大的偏载重，尤其是保持大型基板的基板保持构件变重，因此通过支承基板保持构件的重量抵消装置作用于步进平台、以及进一步通过步进平台作用于架台的偏载重增大，使得曝光动作时因施加至被防振装置支承的架台的偏载重导致曝光装置整体些微的倾斜，而有招致曝光精度降低之虞。

[0010] 本发明第1态样，提供一种第1扫描型的曝光装置，是在曝光处理时相对曝光用能量束使曝光对象物体在与水平面平行的第1方向以既定第1行程移动，其具备：移动体，能于该第1方向至少以该既定第1行程移动、且能在该水平面内于与该第1方向正交的第2方向以第2行程移动；物体保持构件，能保持该物体、与该移动体一起至少在与该水平面平行的方向移动；重量抵消装置，从下方支承该物体保持构件以抵消该物体保持构件的重量；支承构件，延伸于该第1方向，从下方支承该重量抵消装置并能在从下方支承该重量抵消装置的状态下，于该第2方向以该第2行程移动；支承架台，支承该支承构件；以及载重减轻装置，用以减轻作用于该支承架台的重力方向的载重负荷。

[0011] 根据此发明，在对物体的曝光处理时，因物体保持构件、重量抵消装置及支承构件本身重量而产生的重力方向(铅直方向向下)的载重负荷虽会作用于支承架台，但会因载重减轻装置而减轻。从而能降低包含物体保持构件、重量抵消装置及支承构件、以及支承架台之系的重心移动而作用于支承架台的偏载重，据此，即能维持充分高的曝光精度。

[0012] 本发明第2态样，提供一种第2扫描型曝光装置，是在曝光处理时相对曝光用能量束使曝光对象的物体在与水平面平行的第1方向以既定第1行程移动，其具备：第1移动构件，能于该第1方向至少以该既定第1行程移动；第2移动构件，引导该第1移动构件往该第1方向的移动、且能在该水平面内与该第1方向正交的第2方向与该第1移动构件一起以第2行程移动；物体保持构件，保持该物体、能与该第1移动构件一起至少在与该水平面平行的方向移动；重量抵消装置，从下方支承该物体保持构件以抵消该物体保持构件的重量；支承架台，包含从下方支承该重量抵消装置的平台；线性马达，包含设于该第2移动构件的磁石与设于该第1移动构件的线圈，将该第1移动构件以该第1行程驱动于该第1方向；以及载重减轻装置，利用作用于该磁石与该重量抵消装置的一部分之间的力，来减轻作用于该支承架台的重力方向的载重负荷。

[0013] 根据此发明，在对物体的曝光处理时，能与保持物体的物体保持构件一起往与水平面平行的方向移动的第1移动构件，是被线性马达驱动于第1方向。此时，因物体保持构件及重量抵消装置本身重量而产生的重力方向的载重负荷虽会作用于支承架台，但该载重负荷，可通过载重减轻装置，利用作用在与重量抵消装置的一部分之间的力来加以减轻。因此，从而能降低包含物体保持构件、重量抵消装置及支承架台之系的重心移动而作用于支承架台的偏载重，据此，即能维持充分高的曝光精度。

[0014] 本发明第3态样提供一种平面显示器的制造方法，包含：使用上述第1及第2曝光装置中的任一种使基板曝光的动作；以及使曝光后的前述基板显影的动作。

[0015] 本发明第4态样提供一种元件制造方法，包含：使用上述第1及第2曝光装置中的任一种使物体曝光的动作；以及使曝光后的前述物体显影的动作。附图说明

[0016] 图1为概略显示第1实施形态的曝光装置的构成的图。

[0017] 图2为将图1的曝光装置所具有的基板载台从微动载台去除后加以显示的俯视图。

[0018] 图3为从+X方向观察图1的曝光装置所具有的基板载台的图。

[0019] 图4为以示意方式显示因基板载台装置本身重量产生的力的流向的图。

[0020] 图5为用以说明作用于重量抵消装置的磁吸力的图。

[0021] 图6中A部分为以示意方式显示未设置会作用于重量抵消装置的磁吸力的产生装置的基板载台装置的重心移动的图，图6中B部分为以示意方式显示对重量抵消装置作用铅直方向向上的磁吸力的基板载台装置的重心移动的图。

[0022] 图7为从+X方向观察第2实施形态的基板载台装置的图。

[0023] 图8为第3实施形态的基板载台装置的俯视图。

[0024] 图9为从+X方向观察第3实施形态的基板载台装置的部分剖面的图。

[0025] 图10为从+X方向观察第4实施形态的基板载台装置的部分剖面的图。

[0026] 图11为第4实施形态的基板载台装置的俯视图。

[0027] 图12中A部分为显示将产生磁吸力的永久磁石与磁性体加以组合的一例的图，图12中B部分为将产生磁吸力的永久磁石与永久磁石加以组合的一例的图。

[0028] 图13为从+X方向观察第4实施形态的第1变形例的基板载台装置的部分剖面的图。

[0029] 图14为从+X方向观察第4实施形态的第2变形例的基板载台装置的部分剖面的图。

[0030] 图15为从－Y方向观察第5实施形态的曝光装置所具备的基板载台装置的部分剖面的图。

[0031] 图16为显示从+X方向观察图15的基板载台装置的部分剖面的图。

[0032] 图17为显示从－Y方向观察第5实施形态的变形例的基板载台装置的图。

具体实施方式

[0033] 《第1实施形态》

[0034] 以下，根据图1～图6中B部分，说明第1实施形态。

[0035] 图1中概略显示了第1实施形态的曝光装置10的构成。曝光装置10、以用于液晶显示装置(平面显示器)的矩形(方形)玻璃基板P(以下，仅称基板P)为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置(亦称扫描机)。

[0036] 曝光装置10、具有照明系IOP、保持掩膜M的掩膜载台MST、投影光学系PL、一对基板载台架台33、包含保持基板P的基板保持具31的基板载台装置PST、及此等的控制系等。以下，将曝光时掩膜M与基板P相对投影光学系16分别被扫描的方向设为X轴方向、水平面内与X轴正交的方向为Y轴方向、与X轴及Y轴正交的方向为Z轴方向，并以绕X轴、Y轴及Z轴旋转的方向分别为θx、θy及θz方向来进行说明。此外，将于X轴、Y轴及Z轴方向的位置分别设为X位置、Y位置及Z位置来进行说明。又，于基板P表面(+Z侧的面)涂有光阻剂(感应剂)。

[0037] 照明系IOP，是与例如美国专利第6,552,775号说明书等所揭示的照明系同样的构成。亦即，照明系IOP具有分别照明掩膜M上被配置成锯齿状的多个、例如5个照明区域的多个、例如5个照明系，各照明系将从未图示的光源(例如水银灯)射出的光，经由未图示的反射镜、分光镜(dichroic mirror)、遮帘、波长选择滤波器、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL照射于掩膜M。照明光IL，是使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或上述i线、g线、h线的合成光)。又，照明光IL的波长可通过波长选择滤波器，例如视所要求的解析度适当的加以切换。

[0038] 于掩膜载台MST，例如以真空吸附着方式固定有其图案面(图1的下面)形成有电路图案等的掩膜M。掩膜载台MST是以非接触状态搭载在未图示的导件上，通过例如包含线性马达的掩膜载台驱动系(未图示)以既定行程驱动，并被适当的微驱动于Y轴方向及θz方向。掩膜载台MST于XY平面内的位置信息(含θz方向的旋转信息)，是通过包含对固定(或形成)于掩膜M的反射面照射激光束(测长光束)的激光干涉仪为图示的掩膜干涉仪系统加以测量。此测量结果被供应至未图示的主控制装置。主控制装置根据掩膜干涉仪系统测量的上述测量结果，通过掩膜载台驱动系(未图示)驱动(位置控制)掩膜载台MST。又，亦可取代掩膜干涉仪系统、或与掩膜干涉仪系统一起使用编码器(或由多个编码器构成的编码器系统)。

[0039] 投影光学系PL配置在掩膜载台MST的图1中的下方。投影光学系PL具有与例如美国专利第6,552,775号说明书所揭示的投影光学系相同的构成。亦即，投影光学系PL对应前述多个照明区域，包含掩膜M的图案像的投影区域配置成交错状的多个、例如五个投影光学系(多透镜投影光学系)，与具有以Y轴方向为长边方向的长方形单一像场的投影光学系具有相等的机能。本实施形态中，多个投影光学系的各个是使用例如两侧远心的等倍系、形成正立正像者。

[0040] 因此，当以来自照明系IOP的照明光IL照明掩膜M上的照明区域时，即通过被配置成投影光学系PL的第1面(物体面)与图案面大致一致的掩膜M的照明光IL，通过投影光学系PL将该照明区域内的掩膜M的电路图案的投影像(部分正立像)，形成于与被配置在投影光学系PL的第2面(像面)侧、基板P上的照明区域共轭的照明光IL的照射部位(曝光区域)。并通过掩膜载台MST与构成基板载台装置PST的一部分的后述微动载台30的同步驱动，相对照明区域(照明光IL)使掩膜M移动于扫描方向(X轴方向)且相对曝光区域(照明光IL)使基板P移动于扫描方向(X轴方向)，据以进行基板P上一个照射区域(区划区域)的扫描曝光，于该照射区域转印掩膜M的图案(掩膜图案)。亦即，本实施形态中，是以照明系IOP及投影光学系PL在基板P上生成掩膜M的图案，通过使用照明光IL的基板P上感应层(光阻层)的曝光以在基板P上形成该图案。

[0041] 一对基板载台架台33分别由延伸于Y轴方向的构件构成(参照图3，其长边方向两端部被设在地面11上的防振装置34从下方支承。一对基板载台架台33于X轴方向以既定间隔平行配置。于一对基板载台架台33各个的上面，如图2所示，于X轴方向分离彼此平行的固定有延伸于Y轴方向的机械性Y线性导引装置(单轴导引装置)的要素的多个(例如针对各基板载台架台33为3个)Y线性导件35a。

[0042] 一对基板载台架台33构成曝光装置10的装置本体(机体)，投影光学系PL及掩膜载台MST等则搭载于装置本体。

[0043] 基板载台装置PST，如图1所示，具备一对基架(base frame)14、辅助基架15、粗动载台23、微动载台30、重量抵消装置50、及从下方支承重量抵消装置50的Y步进平台90等。

[0044] 一对基架14中的一方，如图1及图2所示，配置在+X侧的基板载台架台33的+X侧，另一方则配置在－X侧的基板载台架台33的－X侧。由于一对基架14具有相同构造，因此，以下仅针对+X侧的基架14加以说明。基架14，如图1所示，包含由具有与YZ平面平行的一面与另一面延伸于Y轴方向的板状构件构成的本体部14a、与从下方支承本体部14a的多个脚部14b。脚部14b于Y軸方向以既定間隔、例如設有3个。于各脚部14b的下端部设有多个调整器
14c，能调整本体部14a的Z位置。

[0045] 于本体部14a的X轴方向两侧面(亦即，上述的一面与另一面)分别固定有线性马达的要素的Y固定子73。Y固定子73具有磁石单元，此磁石单元包含于Y轴方向以既定间隔排列的多个永久磁石。又，于本体部14a的上面，固定有延伸于Y轴方向的机械性Y线性导引装置(单轴导引装置)的要素的Y线性导件16a。

[0046] 辅助基架15配置载一对基板载台架台33之间。辅助基架15，其大小虽不同，但除基架14的本体部14a外的部分则是同样构成。亦即，辅助基架15，包含由延伸于Y轴方向的板状构件构成的本体部15a、与从下方支承本体部15a而能调整本体部14a的Z位置的调整器15b。于辅助基架15的本体部15a上面，与基架14同样的固定有延伸于Y轴方向的Y线性导件16a。
辅助基架15上端的Z位置被设定为较一对基板载台架台33的上面略低(或大致相同)。

[0047] 粗动载台23，包含Y粗动载台23y与搭载在Y粗动载台23y上的X粗动载台23x。

[0048] Y粗动载台23y搭载在一对基架14及辅助基架15上。Y粗动载台23y，如图2所示，具有一对X梁25。一对X梁25分别由延伸于X轴方向的构件构成，于Y轴方向以既定间隔彼此平行配置。一对X梁25的各个，如图3所示，YZ剖面的形状为上边较底边长的倒立的大致等腰梯形。此梯形，除上下2边外，具有在YZ平面内相对Z轴以角θ(θ较45度小，例如为10度)倾斜的一边、与在YZ平面内相对Z轴以角－θ倾斜的另一边。

[0049] 于一对X梁25各个的长边方向两端部近旁下面，如图2所示，固定有被称为Y托架(carriage)75的构件。亦即，于Y粗动载台23y下面，安装有例如合计4个Y托架75。配置在+X侧的2个Y托架75，是通过固定在各个的上面的板片76彼此连结。同样的，配置在－X侧的2个Y托架75亦通过板片76彼此连结。由于例如合计4个Y托架75的各个具有相同构造，以下，仅针对对应+X侧基架14的1个Y托架75加以说明。

[0050] Y托架75，如图1所示，由XZ剖面倒U字形的构件成，在一对对向面间插入基架14的本体部14a。于Y托架75的一对对向面的各个，分别固定有通过既定间隙(clearance/gap)与一对Y固定子73的各个对向的一对Y可动子72。各Y可动子72，包含未图示的线圈单元，与对向的Y固定子73一起构成将Y粗动载台23y于Y轴方向以既定行程驱动的电磁力(洛伦兹力)驱动方式的动圈型Y线性马达。又，Y粗动载台23y的Y位置信息是以未图示的线性编码器系统加以求出。

[0051] 于Y托架75的顶面，相对各个Y托架75固定有多个(例如2个(参照图2))包含滚动体(例如多个球等)、以能滑动的方式卡合于Y线性导件16a的滑件16b。Y粗动载台23y，被包含Y线性导件16a与滑件16b的多个Y线性导引装置，直进引导于Y轴方向。

[0052] 又，于一对X梁25的长边方向中央部下面，通过支承构件77固定有多个(例如2个)辅助托架78。辅助托架78由长方体状的构件成，于其下面，与Y托架75同样的，固定有以可滑动的方式卡合于Y线性导件16a的滑件16b。据此，Y粗动载台23y即相对基板载台架台33在振动上分离。此外，于图1中虽是于纸面深度方向重叠而隐藏，针对1个辅助托架78，滑件16b是于纸面深度方向(Y轴方向)以既定间隔、例如安装有2个。如此，Y粗动载台23y，其长边方向中央部通过辅助托架78被辅助基架15从下方支承，而使本身重量引起的挠曲受到抑制。

[0053] 于一对X梁25各个的上面，如图2及图3所示，于Y轴方向以既定间隔彼此平行的固定又多条(本实施形态中，针对1个X梁25例如为2条)延伸于X轴方向的机械性单轴导引装置的要素的X线性导件17a。又，于一对X梁25的YZ剖面中的2个斜边(斜面)，如图1及图2所示，固定有从X梁25的－X侧端部近旁到+X侧端部近旁延设的X固定子82。X固定子82具有磁石单元，此磁石单元包含于X轴方向以既定间隔排列的多个永久磁石。

[0054] X粗动载台23x，如图2所示的包含连结一对X托架40与一对X托架40的一对连结板41。又，由于一对X托架40具有相同构造，因此，以下仅针对Y侧的X托架40加以说明。

[0055] X托架40，如图2及图3所示，具有以X轴方向为长边方向的俯视长方形的平板构件61、与在平板构件61的长边方向一端部与另一端部的Y轴方向两端面分别以上端面与平板构件61的上面大致同面高的状态固定的各一对、合计4个侧壁构件62。X托架40，从+X方向观察，如图3所示，具有倒U字状的形状，于彼此成对的+Y侧与－Y侧的侧壁构件62彼此间插入X梁25。平板构件61的X轴方向两端，相对+X侧及－X侧的侧壁构件62的各个，向X轴方向的外侧略突出(参照图2)。彼此成对的+Y侧与－Y侧的侧壁构件62，分别具有与从上端(+Z侧端)至中央部近旁的XZ平面平行的第1部分、与从中央部近旁至下端(－Z侧端)向－Y侧或+Y侧倾斜而与上述X梁25的2个斜面对向的第2部分。于X托架40的长边方向(X轴方向)中央部近旁，设有在X托架40的X轴方向长度的1/3略短的范围不存在侧壁构件62的部分(以下，称缺口部)42(参照图2)。

[0056] 于X托架40的平板构件61各个的下面(－Z侧的面)，如图3所示，相对各个X线性导件17a固定有多个(例如4个(参照图2))包含滚动体、以能滑动的方式卡合于Y线性导件17a的滑件17b。本实施形态中，于X粗动载台23x的下面固定有例如合计16个的滑件17b。X粗动载台23x，被包含Y线性导件17a与滑件17b的多个X线性导引装置，直进引导于X轴方向。

[0057] 于X托架40所具有的4个侧壁构件62各个的第2部分的内面，固定有与一对X固定子82的各个通过既定间隙(clearance/gap)对向的X可动子81。各X可动子81，包含未图示的线圈单元，与对向的X固定子82一起构成将X粗动载台23x于X轴方向以既定行程驱动的电磁力(洛伦兹力)驱动方式的动圈型X线性马达。又，各X可动子81包含未图示的铁心，在与对向的X固定子82之间产生磁吸力。亦即，各可动子81构成有芯线圈单元。再者，X粗动载台23x的X位置信息是以未图示的线性编码器系统加以求出。

[0058] 一对连结板41的各个，如图2所示，由延设于Y轴方向的平板构件构成。一方的连结板41，是固定在从配置于+Y侧的X托架40的Y轴方向中央略靠－Y侧起、至配置于－Y侧的X托架40的Y轴方向中央略靠+Y侧，将一对X托架40的+X端部彼此连结。另一方的连结板41，则固定在从配置于+Y侧的X托架40的Y轴方向中央略靠－Y侧起、至配置于－Y侧的X托架40的Y轴方向中央略靠+Y侧，将一对X托架40的－X端部彼此连结。亦即，具有一对X托架40与一对连结板41的X粗动载台23x，具有俯视呈中央具开口部的略矩形形状。

[0059] 此外，虽未图示，但于X粗动载台23x，安装有以机械方式限制后述微动载台30相对X粗动载台23x的可移动量的挡止构件、或于X轴、及Y轴方向用以测量微动载台30相对X粗动载台23x的移动量的间隙感测器等。

[0060] 微动载台30，由图1及图3可知，由俯视大致正方形的板状构件(或箱形(中空长方体)的构件)构成，于其上面通过基板保持具31以例如真空吸附(或静电吸附)方式吸附保持基板P。

[0061] 微动载台30，是被包含分别含固定于X粗动载台23x的固定子与固定于微动载台30的可动子构成的多个音圈马达(或线性马达)的微动载台驱动系，于X粗动载台23x上微驱动于XY平面内的3 自由度方向(X轴、Y轴及θz的各方向)。多个音圈马达，如图1所示，将微动载台30微驱动于X轴方向的X音圈马达18x于Y轴方向分离设置有一对(纸面内深处的X音圈马达18x未图示)，如图3所示，将微动载台30微驱动于Y轴方向的Y音圈马达18y则于X轴方向分离间设置有一对(纸面内深处的Y音圈马达18y未图示)。微动载台30，使用上述X音圈马达18x及/或Y音圈马达18y与X粗动载台23x同步驱动(与X粗动载台23x同方向、同速度驱动)，而与X粗动载台23x一起以既定行程移动于X轴方向及/或Y轴方向。因此，微动载台30可相对投影光学系PL(参照图1)于XY2轴方向以长行程移动(粗动)可能，且能于X，Y、θz方向的3自由度方向微幅移动(微动)。

[0062] 又，微动载台驱动具有用以将微动载台30微幅驱动于θx、θy及Z轴方向的3自由度方向的未图示的多个Z音圈马达。关于包含多个音圈马达的微动载台驱动系的构成，已揭示于例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书。

[0063] 于微动载台30的－X侧的侧面，如图1所示，通过镜座21固定了具有与X轴正交的反射面的X移动镜(棒状反射镜)22x。又，于微动载台30的－Y侧的侧面，如图3所示，通过镜座28固定了具有与Y轴正交的反射面的Y移动镜22y。微动载台30的XY平面内的位置信息，是通过包含对X移动镜22x及Y移动镜22y分别照射测长光束(干涉仪光束)的多个激光干涉仪的激光干涉仪系统(以下，称基板干涉仪系统)，随时加以检测。又，实际上，基板干涉仪系统具备多个分别对应X移动镜22x的X激光干涉仪、及对应Y移动镜22y的Y激光干涉仪，但图1中仅代表性的显示来自X激光干涉仪的测长光束。多个激光干涉儀分別固定于装置本体。又，微动载台30于θx、θy及Z轴方向的位置信息，是通过固定在微动载台30下面的感测器26(参照图3)，使用例如后述固定于重量抵消装置50的标的物27加以求出。关于上述微动载台30的位置测量系的构成，已揭示于例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书。

[0064] 重量抵消装置50，如图3所示，由延设于Z轴方向的柱状构件构成，亦称为心柱。重量抵消装置50插入X粗动载台23x的开口部内，搭载在后述Y步进平台90上。重量抵消装置50通过后述调平装置70从下方支承微动载台30。

[0065] 重量抵消装置50具有筐体51、空气弹簧52及Z滑件53、一对臂部54等。

[0066] 筐体51由俯视矩形的构件构成，于中央部形成有+Z侧的面开口的圆形开口部(参照图2)。于筐体51的下面安装有轴承面朝向－Z侧的多个空气轴承(以下，称基垫)55。

[0067] 空气弹簧52收容在筐体51的开口部内。于空气弹簧52从外部供应加压气体。

[0068] Z滑件53由延伸于Z轴方向的筒状构件构成，插入筐体51的开口部内，搭载在空气弹簧52上。

[0069] 一对臂部54的各个，由延伸于Y轴方向的棒状构件构成。一对臂部54中配置在+Y侧的臂部54，其一端固定在筐体51的+Y侧侧面、另一端则插入X托架40所具有的缺口部42内。同样的，配置在－Y侧的臂部54，其一端固定在筐体51的－Y侧侧面、另一端则插入X托架40所具有的缺口部42内。一对臂部54各个的另一端，具有与一对X梁25分别具有的斜面中、形成于Y轴方向内侧的斜面平行对向的斜面。又，于一对臂部54各个的另一端的斜面，、固定有与一对X梁25分别具有的一对X固定子82中、配置在Y轴方向内侧的X固定子82通过既定间隙(clearance/gap)对向的X可动子56。各X可动子56，包含未图示的线圈单元，与对向的X固定子82一起构成将重量抵消装置50于X轴方向以既定行程驱动的X线性马达。又，各X可动子
56，包含未图示的铁心，在与对向的X固定子82之间产生磁吸力。

[0070] 于重量抵消装置50的上方搭载调平(leveling)装置70。调平装置70，被安装在Z滑件53的+Z侧端部、轴承面朝向+Z侧的空气轴承(以下，称密封垫)57从下方以非接触方式支承。调平装置70是将微动载台30支承为倾动(tilt)自如(相对XY平面于θx及θy方向摆动自如)的装置。重量抵消装置50，通过空气弹簧52产生的铅直方向向上的力，通过Z滑件53及调平装置70抵消包含微动载台30之系的重量(重力方向的力)，具以降低上述多个Z音圈马达的负荷。

[0071] 重量抵消装置50，如图2所示，是通过多条(例如4条)被称为挠曲装置条连结装置45(以下，适当地称挠曲装置45)机械性的连接于X粗动载台23x(X托架40)。挠曲装置45，包含例如与XY平面平行配置的薄厚度的带状钢板(或钢索、合成树脂制绳、炼等)、与设在该钢板两端部的铰接装置(例如球接头、或铰练装置)，上述钢板通过铰接装置架设在重量抵消装置50与X托架40之间。多个挠曲装置45的Z位置，与重量抵消装置50于Z轴方向的重心位置大致一致。挠曲装置45，其一端固定于筐体51的角部(俯视下，筐体51的顶点)，另一端则固定于X托架40的侧壁构件62。亦即，重量抵消装置50，通过多个挠曲装置45的任一者被X粗动载台23x牵引，而与该X粗动载台23x一体的移动于X轴方向、或Y轴方向。此时，于重量抵消装置50，在包含其于Z轴方向重心位置的与XY平面平行的平面内会有牵引力的作用，因此绕与移动方向正交的轴线的力矩具(俯仰力矩)不会作用。此外，包含调平装置70、挠曲装置45，关于本实施形态的重量抵消装置50的详细构成，以揭示于例如美国专利申请公开第2010/
0018950号说明书。

[0072] Y步进平台90，综合图1至图3可知，由延伸于X轴方向的YZ剖面矩形的构件构成，于俯视下，以和一对X梁25的各个相距既定距离的状态(非接触状态)配置在一对X梁25之间。Y步进平台90的长边方向尺寸，被设定为较微动载台30于X轴方向的移动行程略长若干。又，Y步进平台90的宽度方向(Y轴方向)尺寸，设定可支承重量抵消装置50所具有的基垫55的宽度。Y步进平台90的材质为铸铁或致密的石材(辉长岩)、陶瓷、CFRP材等，其上面的平坦度被加工为非常高。

[0073] 于Y步进平台90的下面，相对各个Y线性导件35a固定有多个(例如2个(参照图2))包含滚动体(例如，多个球等)、以能滑动的方式卡合于多个Y线性导件35a的滑件35b。Y步进平台90，被包含Y线性导件35a与Y滑件35b的多个Y线性导引装置35，于一对基板载台架台33上以既定行程直进引导于Y轴方向。

[0074] Y步进平台90，如图2所示，通过连接在固定于+X侧及－X侧端面的固定构件46各个之一对挠曲装置43，机械性的连结于各一对Y托架75。挠曲装置43与上述挠曲装置45具有大致相同构成。如此，Y步进平台90，当在Y轴方向的一侧或另一侧的Y托架75被驱动于Y轴方向时，即被该Y托架75牵引而一体的往Y轴方向移动。挠曲装置43，其长边方向(此处是Y轴方向)的刚性较其他5自由度方向(此处是X，Z，θx、θy、θz方向)的刚性低，于上述5自由度方向，Y步进平台90与Y粗动载台23y在振动上分离。

[0075] 以上述方式构成的曝光装置10，在未图示的主控制装置的管理下，以未图示的掩膜搬送装置(掩膜装载器)进行掩膜M往掩膜载台MST上的装载、并通过未图示的基板搬入装置进行基板P往基板载台装置PST上的搬入(装载)。之后，由主控制装置使用未图示的对准检测系实施对准测量，在该对准测量结束后，进行步进扫描(step &scan)方式的曝光动作。由于此曝光动作与现有的步进扫描方式的曝光动作相同，因此省略其详细说明。

[0076] 此处，上述步进扫描方式的曝光动作，是对设定在基板P的多个照射区域依序进行曝光处理。基板P，在扫描动作时是于X轴方向以既定行程被等速驱动(以下，称X扫描动作)，于步进动作时(照射区域间移动时)则是适当的被驱动于X轴方向及/或Y轴方向(以下，分别称X步进动作、Y步进动作)。

[0077] 上述X扫描动作中、及X步进动作中使基板P移动于X轴方向时，于基板载台装置PST，是根据编码器系统的测量值在Y粗动载台23y上将X粗动载台23x驱动于X轴方向，并根据基板干涉仪系统的测量值以多个X音圈马达18x将微动载台30与X粗动载台23x同步驱动。又，当X粗动载台23x往X轴方向移动时，因被此X粗动载台23x牵引，重量抵消装置50即与X粗动载台23x一起往X轴方向移动。此时、重量抵消装置50，是由主控制装置通过由X可动子56与X固定子82构成的线性马达，与X粗动载台23x同步被驱动于X轴方向。此时，重量抵消装置
50是在Y步进平台90上移动。又，上述X扫描动作及X步进动作时，微动载台30虽有相对X粗动载台23x被微幅驱动于Y轴方向、及/或θz方向的情形，但由于重量抵消装置50的Y位置不会变化，因此重量抵消装置50恒仅在Y步进平台90上移动。

[0078] 相对于此，上述Y步进动作时，于基板载台装置PST，Y粗动载台23y在一对基架14上被以既定行程驱动于Y轴方向，与此Y粗动载台23y一体的，X粗动载台23x以既定行程移动于Y轴方向。又，重量抵消装置50与X粗动载台23x一体的以既定行程移动于Y轴方向。此时，从下方支承重量抵消装置50的Y步进平台90，被与Y粗动载台23y同步驱动。因此，重量抵消装置50恒被Y步进平台90从下方支承。

[0079] 其次，说明基板载台装置PST的组装顺序。本第1实施形态中，基板载台装置PST，首先在无尘室的地面11上，以图2所示的配置分别设置一对基板载台架台33、一对基架14、及辅助基架15。之后，分别通过Y线性导引装置16将Y托架75搭载于一对基架14、将辅助托架78搭载于辅助基架15，并于一对基板载台架台33上通过多个Y线性导引装置35搭载Y步进平台90。又，亦可事先于其他场所将Y托架75组装于一对基架14、将辅助托架78组装于辅助基架
15。

[0080] 接着，于Y步进平台90上搭载重量抵消装置50，此外，于Y托架75及辅助托架78上搭载一对X梁25。之后，以X固定子82与固定于重量抵消装置50所具有的臂部54的X可动子56对向的方式搭载X托架40。又，亦可事先于其他场所于一对X梁分别安装X托架40。之后，调整一对X梁25的位置(Y轴方向间隔)以使X固定子82与固定于重量抵消装置50所具有的臂部54的X可动子56相距既定间隔对向，亦可通过一对连结板76及77固定位置。

[0081] 之后，将微动载台30(含调平装置70)装载于重量抵消装置50上，并将多个音圈马达的固定子与可动子加以组合。接着，对重量抵消装置50的空气弹簧52、基垫55及密封垫57、以及调平装置70所具有的未图示的空气轴承供应加压气体，微动载台30即被重量抵消装置50以非接触方式支承。

[0082] 其次，说明施加于基板载台装置PST的力的流向。又，以下说明的施加于基板载台装置PST的力，无论微动载台30的静止中或动作中，皆会产生。

[0083] 当基板载台装置PST被组装完成时，基板P、基板保持具31及微动载台30(含调平装置70)等(以下，称微动载台30等)因本身重量的Z轴方向向下的力，即如图4所示，以下述流向传至地面11上。又，虽然图4中的基板载台装置PST是以示意方式显示而与图1～3中所示形状略有不同，但对于与图1～图3中所示构成部分对应的构成部分，是使用予相同符号。

[0084] 如图4所示，微动载台30等的本身重量是通过重量抵消装置50被Y步进平台90支承。此处，如图5所示，于重量抵消装置50所具有的一对臂部54中、安装在+Y侧的臂部54，会作用在包含固定于臂部54另一端的铁心的X可动子56与安装在X梁25的斜面的X固定子82之间于YZ平面相对Y轴倾斜θ方向的磁吸力F。同样的，于安装在－Y侧的臂部54，会作用于YZ平面相对Y轴倾斜－θ方向的磁吸力F。各个磁吸力F，分解为铅直方向(Z轴方向)的分力F1、与水平方向(Y轴方向)的分力F2。此处，由于水平方向的分力F2会往彼此抵消的方向作用，因此于重量抵消装置50仅会作用加上铅直方向分力F1的力(亦即2F1)。因此，如图4所示，微动载台30等的本身重量，其一部分被铅直方向的分力F1(2F1)抵消，剩余的力传至Y步进平台90。传至Y步进平台90的力，介由基板载台架台33及防振装置34传至地面11。另一方面，于X梁25则会施加铅直方向的分力F1的反力，本身重量与铅直方向分力F1的反力介由基架14及辅助基架15(参照图1)传至地面11。

[0085] 如以上的说明，根据本实施形态的曝光装置10，如图6中A部分、图6中B部分所示，与重量抵消装置50与X梁25之间不会产生磁吸力的基板载台装置PSTa(图6中A部分)相较，本实施形态的基板载台装置PST(图6中B部分)，由于磁吸力的作用而可将微动载台30及重量抵消装置50视为例如中空构件等轻量之物，因此能缩短基板载台装置PST被驱动于扫描交叉方向时的重心移动距离L。亦即，基板载台装置PST，由于能减小被驱动于扫描交叉方向时防振装置34所承受的载重变化，因此能减少曝光装置10的变形，提升曝光精度。

[0086] 又，由于将因微动载台30等及重量抵消装置50本身重量产生的铅直方向向下的力的一部分传至X梁25，因此Y步进平台90能减小作用于本身的铅直方向向下的力。从而，支承重量抵消装置50的基垫55，可使用负荷容量小的小型基垫。亦即，Y步进平台90可缩小支承基垫55的引导面(Y轴方向尺寸)。

[0087] 又，Y步进平台90，由于能减少本身的负荷，因此能降低Y步进平台90的刚性。从而，Y步进平台90可减少厚度等而进一步小型化。

[0088] 此外，基板载台装置PST，由于Y步进平台90可小型化，因此能减小使Y步进平台90于Y轴方向步进移动的驱动力。

[0089] 其次，说明曝光装置的其他实施形态。以下的第2实施形态以后的各实施形态中，由于基板载台装置以外的部分与前述第1实施形态的曝光装置10相同，因此，以下仅针对基板载台装置加以说明。

[0090] 《第2实施形态》

[0091] 接着，根据图7说明第2实施形态。此处，与前述第1实施形态相同或同等的构成部分，是使用相同或类似符号并简化或省略其说明。

[0092] 本第2实施形态的基板载台装置PST1，其整体构成虽与前述基板载台装置PST相同，但取代X梁25而设置X梁125的点、以及X托架140的形状与X托架40的形状一部分不同等，部分构成与基板载台装置PST相异。以下，以两者的相异点为中心进行说明。

[0093] 如图7所示，基板载台装置PST1具备的一对X梁125，分别具有于YZ剖面将矩形(含菱形及正方形)的4个顶点分别切除(去角)的形状，亦即具有八角形状。一方(+Y侧)的X梁125，以在θx方向相对Y轴倾斜角φ(例如45度)的状态通过安装构件124固定在一方的Y托架
75上面。另一方(－Y侧)的X梁125，与一方的X梁125左右对称的，亦即以在θx方向相对Y轴倾斜角－φ的状态通过安装构件124固定在另一方的Y托架75上面。一对X梁125分别具有4个斜面(相对XY平面倾斜的面)。

[0094] 于一方的X梁125的4个斜面中、未固定在安装构件124的彼此对向的一对斜面，亦即于+Y侧且+Z侧的第1斜面与－Y侧且－Z侧的第2斜面，于长边方向(X轴方向)的大致全长延设有一对X固定子82的各个。又，于一方的X梁125的与固定于安装构件124的第3斜面相反侧的第4斜面(亦即－Y侧且+Z侧的斜面)，在与该斜面平行的方向以既定间隔、彼此平行的固定有多条(例如2条)延伸于X轴方向的X线性导件17a。

[0095] 于另一方的X梁125，以和上述一方的X梁为左右对称的配置，设有一对X固定子82、多条X线性导件17a。

[0096] 一对X托架140，分别由具有顶部与分别设在顶部长边方向两端部的2对侧壁部的YZ剖面倒U字状的构件构成。一方(+Y侧)的X托架140，是以侧视(从+X方向观察)于θx方向相对Y轴倾斜φ的状态与X梁125的第1、第2及第4斜面对向配置。又，此一方的X托架140，于该侧壁部(与X梁125的第1及第2斜面分别对向的部分)的X轴方向中央部近旁，与前述X托架40同样的形成有缺口部42(参照图2)，于该一方的缺口部42内插入臂部54。

[0097] 于一方的X托架140的一对侧壁部内面，分别固定有通过既定间隙(clearance/gap)与固定在前述X梁125的第1、第2斜面各个的一对X固定子82对向的一对X可动子81。又，于X托架140的顶部内面，相对各个X线性导件17a固定有多个(例如4个)包含滚动体、以能滑动的方式卡合于Y线性导件17a的滑件17b。

[0098] 另一方(－Y侧)的X托架140，与一方的X托架140为左右对称，具相同构成，亦同样设有一对X可动子81及多个滑件17b。

[0099] 彼此对向的X固定子82与X可动子81，分别构成电磁力(洛伦兹力)驱动方式的动圈型X线性马达。X粗动载台123x虽被此等X线性马达驱动于X轴方向，于此时，被包含X线性导件17a与滑件17b的多个X线性导引装置直进引导于X轴方向。

[0100] 本实施形态中，无论在X粗动载台123x的驱动中或停止中，在一方(+Y侧)的X梁125即与此卡合的X托架140之间，会在固定于X梁125的第1斜面的X固定子82即与此对向的X可动子81之间产生磁吸力Fb，在固定于X梁125的第2斜面的X固定子82即与此对向的X可动子81之间亦会产生磁吸力Fb。2个磁吸力Fb，其大小相等而方向正对。当然，2个磁吸力Fb，其各个的铅直分力F3及水平分力F4亦相等。因此，在一方(+Y侧)的X梁125与X托架140之间，就整体而言，相对X梁125不会产生X托架140被驱动于Z轴及Y轴方向的力。同样的，在另一方(－Y侧)的X梁125与X托架140之间，就整体而言，亦不会产生X托架140相对X梁125被驱动于Z轴及Y轴方向的力。亦即，可保持安装在重量抵消装置50的一对臂部54前端的朝向斜上方的X可动子56(有芯线圈单元(参照图5))与X固定子82(磁石单元)间的既定间隙(clearance/gap)。

[0101] 如以上的说明，根据本第2实施形态的基板载台装置PST1，能获得与第1实施形态的基板载台装置PST同等的效果。除此之外，根据基板载台装置PST1，由于作用在一对X梁125与一对X托架140之间的磁吸力Fb会被抵消，因此可防止对一对X托架140(X滑件17b)施加铅直向上的力。因此，通过将一对X梁125的倾角φ(－φ)与和X梁125对向的臂部54的倾角φ任意的设定为既定角度，即能在防止了一对X托架140的浮起的状态下，任意的设定作用于基垫55及Y步进平台90的铅直方向向下的力。如此，即能使基垫55进一步小型化、及Y步进平台90的进一步小型化。

[0102] 《第3实施形态》

[0103] 其次，针对第3实施形态，根据图8及图9加以。此处，与前述第2实施形态相同或同等的构成部分，是使用相同或类似符号并简化或省略其说明。

[0104] 本第3实施形态的基板载台装置PST2，整体的构成虽与前述第2实施形态的基板载台装置PST1相同，但在取代X托架140及重量抵消装置50设置X托架240及重量抵消装置250的点等、部分构成与基板载台装置PST1相异。以下，以相异点为中心进行说明。

[0105] 一对X托架240的各个，如图8所示，具有延设于X轴方向的平板状顶部63与设在顶部63的长边方向中间部的一对侧壁部64，侧视(从+X方向观察)倒U字状的形状(参照图9)。又，图8中，一對X托架240被简化显示。此外，如图9所示，一方(+Y侧)的X托架240，是以侧视(从+X方向观察)于θx方向相对Y轴倾斜φ的状态与X梁125的第1、第2及第4斜面对向配置。
一方的X托架240，由比较图2与图8可知，与前述X托架40、140相较，X轴方向的尺寸小，于X轴方向中央部近旁未形成缺口。

[0106] 如图9所示，于一方的X托架240的一对侧壁部64内面，分别固定有通过既定间隙(clearance/gap)与固定在前述X梁125的第1、第2斜面各个的一对X固定子82对向的一对X可动子81。又，于X托架240的顶部63内面，相对各个X线性导件17a固定有多个(例如4个)包含滚动体、以能滑动的方式卡合于Y线性导件17a的滑件17b。

[0107] 另一方(－Y侧)的X托架240与一方的X托架240为左右对称，具有同样构成，亦同样设有一对X可动子81及多个滑件17b。

[0108] 彼此对向的X固定子82与X可动子81，分别构成电磁力(洛伦兹力)驱动方式的动圈型X线性马达。X粗动载台223x虽被此等X线性马达驱动于X轴方向，于此时，被包含X线性导件17a与滑件17b的多个X线性导引装置直进引导于X轴方向。

[0109] 回到图8，重量抵消装置250，于筐体51的Y轴方向两侧面固定有一对X臂部254。一对X臂部254，分别由延设于X轴方向的棒状构件构成，其X轴方向长度较X托架240所具有的剖面倒U字状部的X轴方向长度略长若干。一对X臂部254的各个，于Y轴方向外侧面的X轴方向中央位置，通过挠曲装置45连接于X托架240的侧壁部64。挠曲装置45的高度与重量抵消装置250的Z轴方向重心位置大致一致。一对X臂部254的各个，其长边方向两端部连结于一对Y臂部255。一对Y臂部255的各个，由延设于Y轴方向的棒状构件构成，Y轴方向长度与一对X托架240彼此间的间隔大致同长。此外，一对Y臂部255的各个，于X轴方向外侧面的Y轴方向中央位置，通过挠曲装置45连接于连结板41。于一对Y臂部255的长边方向两端面，固定有通过既定间隙(clearance/gap)与一对X梁125分别具有的一对X固定子82中、配置在Y轴方向内侧的X固定子82对向的X可动子56。各X可动子56，包含未图示的有芯线圈单元，与对向的X固定子82(磁石单元)一起构成将重量抵消装置250驱动于X轴方向的动圈型线性马达。

[0110] 如以上的说明，根据本第3实施形态的基板载台装置PST2，能获得与第2实施形态的基板载台装置PST1同等的效果。除此之外，根据基板载台装置PST2，由于在一对Y臂部255两端会作用磁吸力，因此能加大作用于重量抵消装置250的铅直方向向上的力。又，重量抵消装置250，由于是在磁吸力作用的Y臂部255的长边方向中央近旁的2处，被X臂部254支承(固定)，因此能防止磁吸力作用于Y臂部255两端时的Y臂部255的挠曲，恒使重量抵消装置250产生一定的磁吸力。

[0111] 《第4实施形态》

[0112] 其次，针对第4实施形态，根据图10～图12加以说明。此处，与前述第1实施形态相同或同等的构成部分，是使用相同或类似符号并简化或省略其说明。

[0113] 本第4实施形态的基板载台装置PST3，其整体构成虽与前述基板载台装置PST相同，但在X梁325、X托架340及重量抵消装置350的形状与前述X梁25、X托架40及重量抵消装置50部分不同的点等，与基板载台装置PST相异。以下，以相异点为中心进行说明。

[0114] 如图10及图11所示，一对X梁325由延设于X轴方向的棒状构件构成。一对X梁325的各个，其YZ剖面形状与X梁25不同。亦即，一对X梁325的各个，是YZ剖面的外形为矩形，具有被设在Y轴方向中央的延伸于X轴方向、与XZ平面平行的肋部区分为2部分的中空部的中空构件。一对X梁325的各个，于Y轴方向两侧面固定有延伸于X轴方向的X固定子82，于上面固定有多条(例如2条)于Y轴方向以既定间隔延伸于X轴方向的X线性导件17a。

[0115] 一对X托架340的各个，如图11所示，具有延设于X轴方向的平板构件65、与在平板构件65条长边方向中间部的Y轴方向两侧面以各个的上端面与平板构件65的上面大致同面高的状态固定的与一对Z轴平行的侧壁构件66。亦即，一对X托架340，分别具有X轴方向中央部于YZ剖面为剖面倒U字形的形状，配置成跨在一对X梁325的各个(参照图10)。

[0116] 一方(+Y侧)的X托架340，如图10所示，于平板构件65的下面(顶面)相对各X线性导件17a固定有多个(例如4个)以可滑动的方式卡合于X线性导件17a的滑件17b，此外，于一对侧壁构件66各个的内面，分别固定有通过既定间隙(clearance/gap)与一对X固定子82的各个对向的X可动子81。另一方(－Y侧)的X托架340，是与一方的X托架340同样构成。

[0117] 一对X托架340，如图11所示，通过将分别具有的一对侧壁构件66中、配置在Y轴方向内侧的侧壁构件66彼此连结的连结板341连结。连结板341，由俯视下中央形成有圆形开口部342的平板构件构成，于X轴方向具有既定长度(例如，与侧壁构件66大致相同长度)。连结板341的下面，于开口部342周围的多处(例如90度间隔的4处)固定有永久磁石343(参照图10)。永久磁石343，其材料無特別限定，是使用例如铁磁体磁石(Ferrite magnet)、钕磁石(Neodymium magnet)及铝镍钴磁石等形成。

[0118] 回到图10，重量抵消装置350是从下方插入开口部342内、通过基垫55被支承在Y步进平台90上。重量抵消装置350，在筐体351的形状及挠曲装置45的连接位置等，与前述重量抵消装置50不同。

[0119] 筐体351由上面开口的有底圆筒状构件构成。筐体351，于底面周围具有圆环状锷部352。锷部352，于外周缘部的上面以和固定于连结板341的永久磁石343对向的方式，磁性体353以既定间隔(既定角度间隔)配置。重量抵消装置350，在通过基垫55以非接触状态搭载于Y步进平台90上时，配置成永久磁石343与磁性体353通过既定间隙(clearance/gap)对向。磁性体353由具有一定厚度的块状构件构成，材料虽无特别限定，使用例如氧化铁、氧化铬、钴或铁氧体等形成。

[0120] 挠曲装置45，其一端以既定间隔(既定角度间隔)在筐体351的外周面固定多个(例如4个)，另一端则固定在形成于连结板341的开口部内周面(参照图11)。

[0121] 作为固定在连结板341下面多处的永久磁石343，可分别使用单一的永久磁石，但不限于此，亦可组合多个磁石加以使用。

[0122] 举一例而言，可如图12中A部分所示，在埋于连结板341下面的磁轭344的下面，将极性相异的一对永久磁石343a、343b相距既定间隔加以固定，据以构成一个永久磁石343。图12中A部分的例中，配置在－Y侧的永久磁石343a，其+Z侧面为S极、－Z侧面为N极，另一方面，配置在+Y侧的永久磁石343b，其+Z侧面为N极、－Z侧面为S极。在一对永久磁石343a、
343b与磁性体353之间，产生磁吸力Fc。又，如图12中B部分所示，亦可取代磁性体353将永久磁石345配置成与永久磁石343对向。此时，永久磁石345配置成其与永久磁石343a对向的一侧为S极、与永久磁石343b对向的另一侧为N极。

[0123] 如以上的说明，根据本第4实施形态的基板载台装置PST3，能获得与第1实施形态的基板载台装置PST同等的效果。除此之外，根据基板载台装置PST3，由于不会产生使X托架340浮起的力，因此能防止X托架340的浮起。据此，于基板载台装置PST3，即能将永久磁石
343与磁性体353之间产生的磁吸力Fc调整为任意大小，其结果，能自如地减轻施加至Y步进平台90及防振装置34的载重。

[0124] 《第4实施形态的第1变形例》

[0125] 其次，针对第4实施形态的第1变形例，根据图13加以说明。此处，与前述第4实施形态相同或同等的构成部分，使用相同或类似符号并简化或省略其说明。

[0126] 此变形例的基板载台装置PST3a，在将基板载台装置PST3中重量抵消装置350所具有的锷部352与连结板341的位置加以互换的点、随此以挠曲装置45将锷部352与X托架340加以连结的点、以及将作用于Y步进平台90的微动载台30等的重量的一部分以永久磁石343与永久磁石346间的磁反作用力Fd加以减轻的点，与前述基板载台装置PST3相异。

[0127] 如图13所示，此变形例的重量抵消装置350a，于筐体351a的Z轴方向中间的位置，具体而言，在与重量抵消装置350a的重心位置大致一致的高度位置设有锷部352。于鍔部352下面的外周缘部固定有永久磁石343。此外，于锷部352的外周面，以既定间隔(既定角度间隔)连接有多个(例如4个)挠曲装置45的一端。挠曲装置45的另一端，连接在X托架340的侧壁构件66中、配置在Y轴方向内侧的侧壁构件66。

[0128] 连结一对X托架340的连结板341，固定在一对X托架340各个的侧壁构件66中、配置在Y轴方向内侧的侧壁构件66的下端部。又，于连结板341上面的开口部周围，在与各永久磁石343对向的位置，分别固定有对永久磁石343产生反作用磁力的永久磁石346。

[0129] 如以上的说明，根据本第1变形例的基板载台装置PST3a，除能获得与第4实施形态的基板载台装置PST3同等的效果外，由于将固定有永久磁石343的锷部352固定在重量抵消装置350a的Z轴方向中间位置近旁，将固定有永久磁石346的连结板341固定在X托架340的下端部，因此X梁325的Z位置是配置在较重量抵消装置350a的Z位置若干下方处。据此，基板载台装置PST3a，可提升往扫描方向及扫描交叉方向的可动时的安定性。

[0130] 《第4实施形态的第2变形例》

[0131] 其次，针对第4实施形态的第2变形例，根据图14加以说明。此处，与前述第4实施形态相同或同等的构成部分，使用相同或类似符号并简化或省略其说明。

[0132] 此变形例的基板载台装置PST3b中，X梁325b的形状及X托架340b的形状，与前述基板载台装置PST3的X梁325的形状及X托架340的形状不同。

[0133] 一对X梁325b，分别由延伸于X轴方向的棒状构件构成，YZ剖面的形状细上边较底边常若干的倒立的大致等腰梯形。亦即，一对X梁，分别具有与XY平面平行的上面及下面、与相对XZ平面于θx方向以既定角θ、－θ倾斜的一对斜面(Y轴方向两侧面)。X线性导件17a及X固定子82，与X梁325同样的，分别固定在X梁325b的上面及一对斜面(Y轴方向两侧面)。

[0134] 一对X托架340b，各自所具有的一对侧壁构件68的形状与X托架340所具有的一对侧壁构件66相异。亦即，彼此成对的+Y侧与－Y侧的侧壁构件68，分别具有从上端(+Z侧端)至中央部附近与XZ平面平行的第1部分，与从中央部附近至下端(－Z侧端)倾斜于－Y侧或+Y侧而与上述X梁325b的2个斜面对向的第2部分。于一对X托架340b的顶面(平板构件65的下面)，固定有以可滑动的方式卡合于X线性导件17a的滑件17b，此外，于侧壁构件68内壁面的第2部分，固定有通过既定间隙(clearance/gap)与X固定子82对向、产生磁吸力Fe的X可动子81。在一方的X梁325b与X托架340b之间作用的磁吸力Fe，水平方向的分力被抵消，同样的，另一方的X梁325b与X托架340b之间作用的磁吸力Fe，水平方向的分力亦被抵消。亦即，作用于X托架340b的磁吸力Fe，仅对X托架340b施加铅直方向向上的分力。

[0135] 如以上的说明，根据本变形例的基板载台装置PST3b，除能获得与第4实施形态的基板载台装置PST3同等的效果外，由于施加至X托架340b的铅直方向向下的力获得减轻，因此在基板载台装置PST3b被驱动于X轴方向时，可减轻在X滑件17b与X线性导件17a之间产生的驱动抵抗。此外，由于在产生用以减轻作用于上述X托架340b的铅直方向向下的力的磁吸力Fe的X可动子81、X固定子82之外，另设置了产生用以减轻作用于基板载台架台33的重量抵消装置350等重量的一部分的磁吸力Fc的永久磁石343、磁性体353，因此可分别设定为产生既定磁吸力。

[0136] 《第5实施形态》

[0137] 其次，针对第5实施形态，根据图15及图16加以说明。此处，与前述第1实施形态相同或同等的构成部分，使用相同或类似符号并简化或省略其说明。

[0138] 本第5实施形态的基板载台装置PST4，其整体构成虽与基板载台装置PST相同，但X梁325的形状、X托架440的形状与前述X梁25的形状、X托架40的形状相异，且减轻防振装置34承受的负荷的方法等、部分构成与基板载台装置PST相异。以下，以相异点为中心进行说明。

[0139] 如图15及图16所示，本实施形态的一对X梁325，由与上述第4实施形态所使用的一对X梁325相同形状的构件构成，同样的，多个X线性导件17a、一对X固定子82固定在上面及一对侧面。

[0140] 一对X托架440，如图15及图16所示，具有以X轴方向为长边方向的俯视矩形的平板构件59、与各自的上端面与平板构件59的上面大致同面高的状态固定在平板构件59的长边方向一端部与另一端部的Y轴方向两端面的一对、合计4个与Z轴平行的侧壁构件58。X托架440，从+X方向观察，如图16所示，具有倒U字形状，于彼此成对的+Y侧与－Y侧的侧壁构件58彼此间插入X梁325。于X托架440的长边方向(X轴方向)中央部近旁设有缺口部42(参照图
15)。

[0141] 一对X托架440，分别于顶面(平板构件59的下面)相对各X线性导件17a固定有多个(例如4个)以能滑动的方式卡合于X线性导件17a的滑件17b，此外，于侧壁构件58的内壁面分别固定有通过既定间隙(clearance/gap)与一对X固定子82的各个对向的X可动子81。

[0142] 前述第1实施形态，是于固定在重量抵消装置50的一对臂部54的前端分别固定X可动子56，来减轻作用于防振装置34的重力方向的载重负荷的一部分，但如图16所示，于本实施形态的重量抵消装置450并未设置臂部54及X可动子56。亦即，重量抵消装置450由筐体51、空气弹簧52、Z滑件53及基垫55等构成。重量抵消装置450通过连接在筐体51的多条(例如4条)挠曲装置45连接于一对X托架440。各挠曲装置45被制成与重量抵消装置450的重心位置大致相同高度。

[0143] 回到图15，一对基架414，分别由延伸于Y轴方向的棒状构件构成。一对基架414，分别包含与XY平面平行的上面及下面、由具有相对YZ平面于θx方向略倾斜的一面(斜面)与和此一面于相反方向(－θx方向)同角度倾斜的另一面(斜面)的中空构件构成的本体部414a、以及从下方支承本体部414a的多个脚部14b。于各脚部14b的下端部设有多个调整器14c，而能调整本体部414a的Z位置。

[0144] 于本体部414a的X轴方向两侧面(对向的一对斜面)，分别固定有作为线性马达的要素的延设于Y轴方向的Y固定子73。又，于本体部414a的上面，彼此平行的固定有多条(例如2条)延伸于Y轴方向的机械性Y线性导引装置(单轴导引装置)的要素的延设于Y轴方向的Y线性导件16a。

[0145] 本体部414a配置(插入)在由XZ剖面倒U字状的构件构成的Y托架475的一对对向面间(侧壁构件间)。Y托架475，相对1个基架414于Y轴方向分离间配置有多个(例如2个)，各Y托架475通过固定在上面的板片76而彼此连结。Y托架475的一对对向面，具有从各个的上端(+Z侧端)至中央部近旁与YZ平面平行的第1部分、与从中央部近旁至下端(－Z侧端)倾斜于－X侧或+X侧而与上述基架414的本体部414a的2个斜面对向的第2部分。Y托架475，设定为在被搭载于基架414的状态下，本体部414a的2个倾斜面与和此对向的Y托架475所具有的一对对向面的第2部分平行。于Y托架475的一对对向面的第2部分的各个，分别固定有通过既定间隙(clearance/gap)与一对Y固定子73的各个对向的一对Y可动子472。各Y可动子472，包含未图示的有芯线圈单元，与对向的Y固定子73一起构成将X梁325于Y轴方向以既定行程加以驱动的Y线性马达。又，在各Y可动子472与对向的Y固定子73之间会产生磁吸力Ff。
此外，于Y托架475的顶面，相对各Y托架475固定有多个(例如2个)以可滑动的方式卡合于Y线性导件16a的滑件16b。

[0146] Y步进平台490，由延伸于X轴方向的棒状构件构成，搭载在基板载台架台33上。于Y步进平台490的长边方向两端，通过固定构件446固定有通过既定间隙(clearance/gap)与Y固定子73对向的Y可动子94。各Y可动子94，包含未图示的有芯线圈单元，与对向的Y固定子73一起构成将Y步进平台490于X轴方向以既定行程加以驱动的X线性马达。又，在各Y可动子
94与对向的Y固定子73之间会产生磁吸力Fg。

[0147] 在固定于Y步进平台490的+X侧固定构件446的Y可动子94与和此对向的Y固定子73之间，于+X方向且+Z方向作用磁吸力Fg，在固定于Y步进平台490的－X侧固定构件446的Y可动子94与和此对向的Y固定子73之间，于－X方向且+Z方向作用磁吸力Fg。此场合，由于该2个磁吸力Fg的水平方向分力彼此大小相等而方向相反(正对)，因此彼此抵消。亦即，上述2个磁吸力Fg，对Y步进平台490施加铅直方向向上的力，其反力则通过基架414传至地面11。

[0148] 如以上的说明，本第5实施形态的基板载台装置PST4，能获得与第1实施形态的基板载台装置PST同等的效果。此外，于基板载台装置PST4，由于防振装置34承受的负荷受到减轻，因此能降低基板载台装置PST4驱动时作用于防振装置34的偏载重。

[0149] 《第5实施形态的变形例》

[0150] 其次，针对第5实施形态的变形例，根据图17加以说明。此处，与前述第5实施形态相同或同等的构成部分，使用相同或类似符号并简化或省略其说明。

[0151] 此变形例的基板载台装置PST4a，在设于Y步进平台490a的长边方向两端部的固定构件446未设置Y可动子94的点、以及固定构件446的上面固定有磁性体96，于磁性体96的上方通过既定间隙(clearance/gap)于X托架475a设有永久磁石97的点，与基板载台装置PST4不同。

[0152] 永久磁石97，实际上是固定在固定构件478下面。于Y步进平台490a的+X侧，固定构件478是以将于Y轴方向以既定间隔配置的多个(例如2个)Y托架475a彼此连结的方式，固定在各个Y托架475a－X侧侧面的上端部。永久磁石97以通过既定间隙和磁性体96对向的方式固定在固定构件478的下面。亦即，于本变形例的Y步进平台490a，会被施加与固定在基架414的本体部414a的Y固定子73与固定在Y托架475a的Y可动子472之间产生的磁吸力Ff不同的独立的在磁性体96与永久磁石97之间产生的磁吸力Fh形成的铅直方向向上的力。又，Y托架475a的其他部分，具有与上述Y托架475相同的构成。

[0153] 如以上的说明，本第5实施形态的变形例的基板载台装置PST4a，可获得与第5实施形态同等的效果。除此之外，根据基板载台装置PST4a，由于作用于Y步进平台490a的铅直向上的磁吸力Fh、与作用于Y托架475a的磁吸力Ff是由独立的磁气产生装置产生，因此可将作用于Y步进平台490a的磁吸力Fh与作用于Y托架475a的磁吸力Ff，分别设定为既定的力。亦即，可将作用于防振装置34的载重负荷(偏载重)、以及包含Y线性导件16a与滑件16b的多个Y线性导引装置所承受的驱动抵抗减至既定值。

[0154] 又，上述第1～第5各实施形态及各变形例(以下，称各实施形态等)所说明的装置构成仅为一例，当然可有各种变形。例如，上述各实施形态等中，虽是针对利用磁吸力或磁性斥力以减轻作用于Y步进平台90、490、490a及支承此的基板载台架台33及防振装置34的重力方向的载重负荷的情形做了说明，但不限于此，在具有铅直方向分力的方向的电磁力，是由X粗动载台驱动用的线性马达、或Y粗动载台驱动用的线性马达产生的情形时，可将利用该电磁力的铅直分力，以减轻作用于Y步进平台90、490、490a及支承此的基板载台架台33及防振装置34的重力方向载重负荷的负荷减轻装置，装备于基板载台装置PST、PST1、PST2、PST3、PST3a、PST3b、PST4、PST4a。

[0155] 又，亦可取代上述各实施形态等中的固定子(磁石单元)与可动子(有芯线圈单元)的组合，而通过固定子(磁石单元)与磁性体构件的组合来构成上述负荷减轻装置。或者，亦可取代构成负荷减轻装置的至少一部分的永久磁石而使用电磁石。

[0156] 又，上述各实施形态，虽是针对具备在Y步进平台90、490、490a上移动的重量抵消装置50、250、350、350a，450的基板载台装置PST、PST1、PST2、PST3、PST3a、PST3b、PST4、PST4a做了说明，但不限于此，亦可例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书等所揭示，在具备装有重量抵消装置的基板载台装置的扫描型曝光装置中，设置包含设于Y粗动载台的固定子(磁石)与设于X粗动载台的可动子(线圈)以将X粗动载台于X轴方向(扫描方向)以既定行程驱动的X线性马达、与利用作用在构成上述可动子的线圈与重量抵消装置的一部分之间的力以抵消作用于包含从下方支承重量抵消装置的平台的支承架台的重力方向载重负荷的载重减轻装置。此场合，于基板(物体)的曝光处理时，可与保持基板的基板保持具(物体保持构件)一起往与水平面平行的方向移动的X粗动载台，是被线性马达驱动于X轴方向。此时，于支承架台虽会作用基板保持具及重量抵消装置本身重量形成的重力方向载重负荷，但该载重负荷可通过载重减轻装置利用作用在与重量抵消装置一部分之间的力，从重量抵消装置将一部分的力移至X粗动载台来加以减轻。因此，能减轻包含基板保持具、重量抵消装置及支承架台之系的重心移动而形成的作用于支承架台的偏载重，据以维持充分的曝光精度。

[0157] 又，亦可将上述第1～第4实施形态的变形例与上述第5实施形态及其变形例加以组合使用。亦即，可并用对重量抵消装置50、250、350、350a、450产生铅直方向向上的力的装置、与对Y步进平台90、490、490a产生铅直方向向上的力的装置。

[0158] 又，上述各实施形态中，一对X托架40、140、240、340、340b、440虽是以连结板41、341加以连结，但亦可取代连结板41、341而将一对X托架以主控制装置同步驱动于X轴方向。
同样的，1个基架14、414上搭载的多个Y托架75、475、475a虽是以板片76分别加以连结，但亦可取代板片76而将多个Y托架75、475、475a以主控制装置同步驱动于Y轴方向。

[0159] 又，上述各实施形态中，Y步进平台90、490、490a是中实构件，但不限定于此，亦可以是中空构件、或具有在中空构件内部设置肋部的形状。例如，可以铸造等方式制造由中空构件构成的Y步进平台。

[0160] 又，第1实施形态中，连接重量抵消装置50与X托架40的挠曲装置45，可以是配置成仅能将重量抵消装置50牵引于Y轴方向。此外，若是通过挠曲装置45将重量抵消装置50与X托架40一起驱动于X轴方向及Y轴方向的话，亦可取代固定在重量抵消装置50的臂部54前端的X可动子56，而固定磁性体。

[0161] 又，第4实施形态及第4实施形态的变形例中，虽将一对X托架340、340b以形成有开口部的连结板341加以连结，但不限于此，亦可将一对X托架340、340b以在X轴方向分离配置的多个连结板加以连结。此外，固定在重量抵消装置350、350a的锷部352，无须设置在重量抵消装置350、350a的全周，可以是朝向外周方向伸出的棒状构件。

[0162] 又，第5实施形态的变形例中，虽是于Y步进平台490a的长边方向两端部配置了磁性体96，但不限于此，由于只要是能在Y步进平台490a作用铅直方向向上的力即可，因此，可例如于Y步进平台490a的长边方向中间部分通过固定构件配置磁性体96，并以在其对向面配置永久磁石97的方式于X梁325的下面固定永久磁石97。

[0163] 又，照明光可以是ArF准分子激光(波长193nm)、KrF准分子激光(波长248nm)等的紫外光、或F2激光(波长157nm)等的真空紫外光。此外，作为照明光，亦可使用例如将从DFB半导体激光或光纤激光发出的红外线带或可见光带的单一波长激光以例如掺杂有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器加以增幅，使用非线性光学结晶加以波长转换为紫外光的谐波。再者，亦可使用固体激光(波长：355nm、266nm)等。

[0164] 又，于上述各实施形态等中，虽是针对投影光学系PL为具备多只投影光学单元的多透镜方式投影光学系的情形做了说明，但投影光学单元的数量不限于此，只要是1只以上即可。此外，亦不限于多透镜方式的投影光学系，亦可以是使用例如欧夫那(Ofner)型大型反射镜的投影光学系等。再者，上述实施形态中虽是针对作为投影光学系PL使用投影倍率为等倍者的情形作了说明，但不限于此，投影光学系可以是缩小系及扩大系的任一种。

[0165] 又，上述各实施形态等中，虽是使用在光透射性掩膜基板上形成有既定遮光图案(或相位图案、减光图案)的光透射型掩膜，但亦可使用例如美国专利第6,778,257号公报所揭示的，根据待曝光图案的电子资料形成透射图案或反射图案、或形成发光图案的电子掩膜(可变成形掩膜)，例如可采用使用非发光型影像显示元件(亦称为空间光调变器)的一种的DMD(Digital Micro-mirror Device)的可变成形掩膜。

[0166] 又，作为曝光装置，尤其是适用于对尺寸(包含外径、对角线长度、一边中的至少1种)为500mm以上的基板、例如使液晶显示元件等平面显示器用的大型基板曝光的曝光装置时，特别有效。

[0167] 又，作为曝光装置，亦能适用于步进重复(step & repeat)方式的曝光装置、步进接合(step & stitch)方式的曝光装置。此外，被保持于移动体装置的移动体的物体不限于曝光对象物体基板等，亦可以是掩膜等的图案保持体(原板)。

[0168] 又，曝光装置的用途，并不限于将液晶显示元件图案转印至方形玻璃板的液晶用曝光装置，亦可广泛适用于例如半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及DNA晶片等的曝光装置。此外，不仅是半导体元件等的微元件，本发明亦能适用于为制造用于光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子线曝光装置等的掩膜或标线片，而将电路图案转印至玻基板或硅晶圆等的曝光装置。又，具备保持物体的物体保持装置的装置，并不限于曝光装置，亦可以是其他的基板处理装置、例如玻璃基板(或晶圆)检查装置等。又，曝光对象的物体不限于玻璃板，亦可以是例如晶圆、陶瓷基板、薄膜构件或掩膜基板(mask blank)等其他物体。又，曝光对象物是平板显示器用基板的情形时，该基板的厚度并无特别限定，例如亦包含薄膜状(具可挠性的片状构件)者。

[0169] 液晶显示元件(或半导体元件)等的电子元件，是经由进行元件的功能性能设计的步骤、依据此设计步骤制作掩膜(或标线片)的步骤、制作玻璃基板(或晶圆)的步骤、以上述各实施形态的曝光装置及其曝光方法将掩膜(标线片)图案转印至玻璃基板的光刻步骤、使经曝光的玻璃基板显影的显影步骤、将残存抗蚀剂的部分以外部分的露出构件以蚀刻加以去除的蚀刻步骤、去除完成蚀刻而无需的抗蚀剂的抗蚀剂去除步骤、元件组装步骤、检査步骤等加以制造。此场合，由于在光刻步骤是使用上述实施形态的曝光装置实施前述曝光方法，于玻璃基板上形成元件图案，因此能以良好生产性制造高集成度的元件。

[0170] 此外，援用上述说明所引用的关于曝光装置的所有公报、国际公开公报、美国专利申请公开说明书及美国专利说明书的揭示作为本说明书记载的一部分。

[0171] 产业上的可利用性

[0172] 如以上的说明，本发明的曝光装置适于使板上的物体曝光。又，本发明的平面显示器的制造方法非常适于使曝光后的物体显影。此外，本发明的元件制造方法非常适于制造微元件。

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