专利汇可以提供一种旋转铌靶材及其制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供一种旋转铌靶材及其制备方法,所述旋转铌靶材为铌材料 喷涂 二次,所述旋转铌靶材的 密度 为7.6‑8.2g/cm³,所述旋转铌靶材的 氧 含量为3000‑6000ppm,所述旋转铌靶材的氮含量为2000‑12000ppm。通过 等离子喷涂 方法对铌靶材进行制备,提高制备效率,并且减少制备成本,尽量缩小晶粒尺寸,并且便于对使用后的残靶材进行修补,并且通过对铌靶材的氧氮含量进行控制,提升铌靶材的制造 质量 。,下面是一种旋转铌靶材及其制备方法专利的具体信息内容。
1.一种旋转铌靶材的制备方法,其特征在于:所述旋转铌靶材的密度为7.6-8.2g/cm3,所述旋转铌靶材的氧含量为3000-6000ppm,所述旋转铌靶材的氮含量为2000-12000ppm,所述旋转铌靶材的晶粒尺寸≤15μm,所述制备方法步骤如下:
步骤一:将基体表面进行喷砂清理,并喷涂打底层;
步骤二:使用热喷涂设备将铌粉末或铌丝喷涂在基体表面;
步骤三:对靶材表面进行剖光处理,并对其进行两端进行机加工处理。
2.如权利要求1所述的一种旋转铌靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤二中对靶材进行喷涂时使用惰性气体做气氛保护。
3.如权利要求1所述的一种旋转铌靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤一中基体为合金管。
4.如权利要求1所述的一种旋转铌靶材的制备方法,其特征在于:此旋转靶材经磁控溅射使用后的残靶材,经过表面清洁处理后可继续使用热喷涂的方法进行喷涂修复得到新靶材。
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