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具有内埋式导电线路的电路板及其制造方法

阅读:229发布:2023-03-08

专利汇可以提供具有内埋式导电线路的电路板及其制造方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供一种具有内埋式导电线路的 电路 板的制造方法,是于 基板 的表面上形成内埋的导电线路层,并增加接垫及 手指 的高度,以利后续灌胶的制程。,下面是具有内埋式导电线路的电路板及其制造方法专利的具体信息内容。

1.一种制造电路板的方法,包含下列步骤:
提供基板,该基板具有两相对的第一表面与第二表面;
于该基板的第一表面上形成第一金属层,该第一金属层具有两相对的第一表面与第二表面,该第一金属层的第一表面上形成有突起结构,其是埋入该基板的第一表面,其中该第一金属层的第二表面上具有一第一区域;
于该第一区域上形成遮蔽层;
对该第一金属层进行蚀刻,使得裸露于该遮蔽层之外的第一金属层被移除;
将该遮蔽层移除;及
于该基板的第一表面上形成防焊层,并裸露出该第一金属层。
2.如权利要求1所述的方法,其中于该基板的第一表面上形成第一金属层的步骤包含:
提供载板;
于该载板上形成该第一金属层,其中该第一金属层的第二表面是贴附于该载板上;
将该载板与该基板压合,使得该第一金属层的突起结构埋入该基板的第一表面;及将该载板移除。
3.一种制造电路板的方法,包含下列步骤:
提供基板,该基板具有两相对的第一表面与第二表面;
于该基板的第一表面上形成第一金属层,该第一金属层具有两相对的第一表面与第二表面,其第一表面上形成有突起结构,是埋入该基板的第一表面,其中该第一金属层的第二表面上具有第一区域与第二区域;
于该第一金属层的第二表面上形成遮蔽层,并裸露出该第一与第二区域;
于该第一与第二区域上形成第二金属层;
将该遮蔽层移除;
对该第一金属层进行蚀刻,使得裸露于该第二金属层之外的第一金属层被移除;及于该基板的第一表面上形成防焊层,并裸露出该第二金属层。
4.如权利要求3所述的方法,其中于该基板的第一表面上形成第一金属层的步骤包含:
提供载板;
于该载板上形成该第一金属层,其中该第一金属层的第二表面是贴附于该载板上;
将该载板与该基板压合,使得该第一金属层的突起结构埋入该基板的第一表面;及将该载板移除。
5.如权利要求3所述的方法,更包含:
于该基板的第二表面上形成第三金属层,该第三金属层具有两相对的第一表面与第二表面,该第三金属层的第一表面上形成有突起结构,其是埋入该基板的第二表面,其中该第三金属层的第二表面上具有第三区域;
于该第三金属层的第二表面上形成该遮蔽层,并裸露出该第三区域;
于该第三区域上形成第四金属层;
将该第三金属层的第二表面上的遮蔽层移除;
对该第三金属层进行蚀刻,使得裸露于该第四金属层之外的第三金属层被移除;及于该基板的第二表面上形成该防焊层,并裸露出该第四金属层。

说明书全文

具有内埋式导电线路的电路板及其制造方法

技术领域

[0001] 本发明是有关于一种电路板及其制造方法,更特别有关于一种具有内埋式导电线路的电路板及其制造方法。

背景技术

[0002] 近年来由于电子组件已经变得多功能且体积越来越小,封装基板的技术也快速的发展,以便实现轻、薄、短、小以及高度密集的线路图案。特别地,如此轻、薄、短、小以及高度密集的线路图案是需要使用在芯片尺寸封装构造(chip scale package;CSP)的产品群上。为了能够在小尺寸的基板上形成密集的线路图案,一般是采用压合的方式在基板上形成内埋式的导电线路。
[0003] 参考图1a至图1h,现有于基板上形成内埋式导电线路的制造方法是先于一载板110上形成一层120,该铜层120上具有突起的结构122与124,该些突起结构122、124的图案是与欲在基板上形成的导电线路的图案相对应(见图1a与图1b)。接着将载板110与一软的基板,例如是B阶段(B stage)的BT(Bismaleimide Triazine)基板130压合,使得铜层120上的突起结构122、124埋入基板130的一表面132。基板130的另一表面134亦可根据需要与另一具有突起结构142的铜层140压合(见图1c)。再将载板110从铜层
120、140上移除,并利用蚀刻的方式将铜层120、140薄化,使得基板130的表面132、134裸露出,此时原先在铜层120、140上的突起结构122、124、142仍保留在基板130的表面132、
134并与基板表面132、134齐平。这些埋入在基板130的表面132、134上的突起结构122、
124、142最后会形成基板130上的导电线路层(见图1d)。
[0004] 接着,利用蚀刻或钻孔的方式在基板130上形成通孔150,并利用无电电的方式在基板130的表面132、134以及通孔150的内壁上形成一铜层160(见图1e)。再于基板表面132、134上形成一层干膜170以做为电镀的遮蔽层,以使得基板表面132、134上的导电线路层,亦即埋在基板表面132、134上的结构122、124、142被干膜170所覆盖,而通孔150则被裸露出,之后再于通孔150的内壁上电镀一层铜180(见图1f)。接着将干膜170以及以无电电镀的方式形成在基板表面132、134上的铜层160移除。随后在基板表面132、134上形成一防焊层190,并将结构122、124、142裸露出,同时在结构122、142上一层有机保焊剂(organicsolderability preservative;OSP)(见图1g)。再于结构122与142上形成干膜170,并于结构124上电镀一层镍/金195(见图1h)。最后再将干膜170移除。
[0005] 上述镀有镍/金层195的结构124做为手指(finger),用以藉由焊线与外界电路电性连接,而结构122、142则做为接垫(pad),用以藉由球与外界电路电性连接。由于做为手指的结构124需要做电镀,所有的结构124是电性连接在一起,以利电镀的进行。然而,由于结构124是彼此电性连接,因此无法在出厂时对其做电性测试。
[0006] 另外,由于所形成的接垫122是与基板130的表面132齐平且防焊层190一般均具有一个不小的厚度,当芯片藉由锡球与接垫122电性连接时,锡球会仅有部分的高度露出防焊层190(未显示),这会使得芯片与基板130之间的间隙(Die Gap)过小,在封装时使得底胶(underfill)或封模黑胶(Molding compound)不易填满芯片与基板130之间的间隙,因此造成孔洞(void)的产生。
[0007] 有鉴于此,便有需要提出一种具有内埋式导电线路的电路板的制造方法,以解决上述问题。

发明内容

[0008] 本发明的目的在于提供一种具有内埋式导电线路的电路板的制造方法,其中接垫的高度被增加。
[0009] 为达上述目的,本发明第一实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法是先于一载板上形成一铜层,该铜层的第二表面是贴附于载板上,而与第二表面相对的第一表面上则具有突起的结构,该些突起结构的图案是与欲在基板上形成的导电线路的图案相对应。接着将载板与B阶段的BT基板压合,使得铜层上的突起结构埋入基板的一表面。基板的另一表面亦可根据需要与另一具有突起结构的铜层压合。再将载板从铜层上移除,使得铜层的第二表面裸露出,并于铜层上形成一层干膜以做为电镀的遮蔽层,同时干膜上开设有开口,以将铜层的第二表面上的第一及第二区域裸露出。
[0010] 接着,对基板进行电镀,使得裸露的第一及第二区域上电镀有一镍/金层。之后,将干膜移除,并对铜层进行蚀刻,使得基板的表面裸露出,此时原先在铜层上的突起结构仍保留在基板的表面,并与基板表面齐平。于蚀刻制程中,由于镍/金层做为遮蔽层可保护其下方的铜层不会被蚀刻掉,以形成突出基板的结构。最后,在基板上形成一电镀通孔,再于基板表面上形成一防焊层,并将镍/金层裸露出。
[0011] 本发明第二实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法是大体上相同于第一实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法,所不同之处在于铜层的第二表面上的第一及第二区域不须镀有镍/金层以做为遮蔽层,而是将干膜仅形成在第一及第二区域上,并对铜层进行蚀刻,以使得基板的表面裸露出,而原先在铜层上的突起结构仍保留在基板的表面,并与基板表面齐平。于蚀刻制程中,干膜做为遮蔽层可保护其下方的铜层不会被蚀刻掉,以形成突出基板的结构。之后,将干膜移除,并在基板上形成一电镀通孔,再于基板表面上形成一防焊层,并将第一及第二区域裸露出同时上一层有机保焊剂。
[0012] 本发明的另一目的在于提供一种以上述的方法所制造出的电路板。
[0013] 根据本发明的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法,埋在基板的表面上的突起结构是形成基板上的导电线路,而位在第一及第二区域的铜层则分别用来做为接垫及手指,用以与外界电路,例如一芯片电性连接之用。由于做为接垫的第一区域是突出基板,使得芯片利用锡球与第一区域电性连接时,锡球会有更多部分的高度露出防焊层,藉此增加芯片与基板之间的间隙,在封装时让底胶或封模黑胶更易填满芯片与基板之间的间隙,避免孔洞的产生。另外,由于做为手指的第二区域不需要电性连接在一起,因此在出厂时即可对其做电性测试。
[0014] 为了让本发明的上述和其它目的、特征、和优点能更明显,下文特举本发明实施例,并配合所附图标,作详细说明如下。

附图说明

[0015] 图1a至图1h:为习知具有内埋式导电线路的电路板的制造方法。
[0016] 图2a至图2g:为本发明第一实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法。
[0017] 图3a至图3b:为本发明第二实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法。

具体实施方式

[0018] 参考图2a至图2g,本发明第一实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法是于一载板210上形成一金属层220,例如是一铜层,该铜层220的第二表面223是贴附于载板210上,而与第二表面223相对的第一表面221上则具有突起的结构222与224,该些突起结构222、224的图案是与欲在基板上形成的导电线路的图案相对应(见图2a与图2b)。接着将载板210与一软的基板,例如是B阶段(B stage)的BT(BismaleimideTriazine)基板230压合,使得铜层220上的突起结构222、224埋入基板
230的一表面232。基板230的另一表面234亦可根据需要与另一具有突起结构242的金属层240,例如是铜层压合(见第2c图)。再将载板210从铜层220、240上移除,使得铜层
240与铜层220的第二表面223裸露出,并于铜层240与铜层220的第二表面223上形成一层干膜270以做为电镀的遮蔽层,同时干膜270上开设有开口272,以将铜层220的第二表面223上的区域226以及铜层240上的区域246裸露出(见图2d)。
[0019] 接着,对基板230进行电镀,使得裸露的区域226与246上电镀有一金属层280,例如是一镍/金层(见图2e)。之后,将干膜270移除,并对铜层220、240进行蚀刻,使得基板230的表面232、234裸露出,此时原先在铜层220、240上的突起结构222、224、242仍保留在基板230的表面232、234,并与基板表面232、234齐平。于蚀刻制程中,由于镍/金层280做为遮蔽层可保护其下方的铜层220不会被蚀刻掉,以形成突出基板230的结构(见图2f)。最后,在基板230上形成一电镀通孔250,再于基板表面232、234上形成一防焊层
290,并将镍/金层280裸露出(见图2g)。
[0020] 参考图3a至图3b,本发明第二实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法是大体上相同于第一实施例的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法,所不同之处在于铜层220的第二表面223上的区域226以及铜层240上的区域246不须镀有镍/金层280以做为遮蔽层,而是将干膜270仅形成在区域226与246上,并对铜层220、240进行蚀刻,以使得基板230的表面232、234裸露出,而原先在铜层220、240上的突起结构222、224、
242仍保留在基板230的表面232、234,并与基板表面232、234齐平。于蚀刻制程中,干膜
270做为遮蔽层可保护其下方的铜层220不会被蚀刻掉,以形成突出基板230的结构(见图
3a)。之后,将干膜270移除,并在基板230上形成一电镀通孔250,再于基板表面232、234上形成一防焊层290,并将区域226、246裸露出同时上一层有机保焊剂(见图3b)。
[0021] 参考图2g,本发明的电路板包含有基板230,具有两相对的表面232、234,并具有镀有铜层的通孔250。导电线路层222是内埋在基板230且裸露于表面232上,而导电线路层242则内埋在基板230且裸露于表面234上,其中导电线路层222具有区域226,其是突出于基板230的表面232,而导电线路层242具有区域246,其是突出于基板230的表面234。镍/金层280是形成于区域226上,以做为接垫或手指,用以藉由锡球或焊线与外界电路电性连接,而镍/金层280亦形成于区域246上,以用以与另一电路板电性连接。
[0022] 根据本发明的具有内埋式导电线路的电路板的制造方法,埋在基板230的表面232、234上的突起结构222、224、242是形成基板230上的导电线路,位在区域226的铜层
220以及位在区域246的铜层240则用以与外界电路电性连接,其中结构222上的区域226做为接垫,用以藉由锡球与例如芯片电性连接,结构224上的区域226做为手指,用以藉由焊线与例如芯片电性连接,而结构242上的区域246做为接垫,用以藉由锡球与例如另一电路板电性连接(未显示)。由于做为接垫的区域226是突出基板230,使得芯片利用锡球与区域226电性连接时,锡球会有更多部分的高度露出防焊层290(未显示),藉此增加芯片与基板230之间的间隙,在封装时让底胶更易填满芯片与基板230之间的间隙,避免孔洞的产生。另外,由于做为手指的结构224上的区域226不需要电性连接在一起,因此在出厂时即可对其做电性测试。
[0023] 虽然本发明已以前述较佳实施例揭示,然其并非用以限定本发明,任何熟习此技艺者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作各种的更动与修改。因此本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定者为准。
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